Brevet FR2331887A1 — publié le 19770610

la présente invention concerne un dispositif photo-éleetrique qui comporte une pellicule photoconductrice consistant par exempie en une couche.photoconductrice amorphe contenant du sélénium ou similaire comme constituant principal. Pius particulièrement, l'invention concerne une structure axe cible qui permet de supprimer le courant d'obscurité d'une cible dans un tube analyseur de télévision ou autre. Un tube analyseur de télévision, qui utilise par exemple- une matière photoconductrice consistant principalement en du sélénium amorphe, met en oeuvre le contact -redresseur de llhé-- tér-o-jonction entre une électrode transparente de SnO2, In203, une pellicule mince dtaluminium semi-transparente -Du autre, de conductibilité du type N, et le sélénium amorphe de conductibilité du type P.Quand le contact redresseur est polarisé en opposition et utilisé comme cible d'un tube analyseurs il présente l'inconvénient qu'un champ électrique intense est appliqué àla jonction et que le courant d'obscurité a tendance à augmenter Dans le but d'éliminer cet inconvénient, un procédé a été proposé selon lequel la surface de ltélectrode-transparente est soumise à une attaque par ions ; par exemple, un procédé selon lequel un sulfure ou un séléniure de Cd ou Zn est intercalé entre l'électrode transparente et le sélénium amorphe, ou un procédé selon lequel un oxyde tel que PbO est intercalé entre les surfaces de jonction de l'électrode transparente et de la couche phatoconductrice. Mais, même avec ces dispositions, la situation n'est pas encore satisfaisante dans une cible de tube analyseur qui utilise, comme couche-photoconductrice, une pellicule dont la sensibilité est augmentée et dont=la persistance ainsi que 11image fantôme sont réduites-- en mélangeant As, Te, Ge ou autres, dans le sélénium amorphe de manière à obtenir un profil approprié de composition dans la direction de l'épaisseur de la pellicule. Plus particulièrement, une caractéristique initiale d'une telle cible de tube analyseur est que le courant d'obscurité est amené à une valeur faible. Mais quand la cible fonctionne pendant une longue période sous un rayonnement lumineux, un autre problème se pose, c'est-à-dire que la distribution de potentiel dans la couche photoconductrice dont le constituant essentiel est le sélénium amorphe varie en développant un champ électrique intense à la jonction, et que le courant d"obscurité au moment où la lumière est interceptée commence à augmenter progressivement L1invention concerne donc une structure de cible destinée à un dispositif photo-électrique, qui élimine les inconvénients précités de la technique antérieure et qui permet de supprimer de façon satisfaisante le courant d'obscurité même dans le cas où un champ électrique intense s'exerce sur une jonction. A A cet effet, et selon linvention, une couche sous forme d'une pellicule mince, dont le constituant principal est un oxyde, de conductibilité du type N dans la plupart des cas, d'au moins un élément choisi dans le groupe comprenant Cd, B, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, Th, La, Bi, V, Nb, Ta et Fe, est intercalée entre une pellicule photoconductrice consistant par exemple en une couche photoconductrice amorphe contenant du sélénium (l'invention convient tout particulièrement dans le cas où cette couche contient 50 % de sélénium ou davantage) et une électrode de signaux (une électrode transparente de SnO2, In203 ou similaire, ou une électrode métallique semi-transparente). Lorsqu'un semi-conducteur du type N dont le constituant principal est l'un ou plusieurs des oxydes précités est choisi pour la couche intermédiaire, il bloque l'injection de trous depuis l'électrode de signaux vers la couche photoconductrice. L'effet de suppression du courant d'obscurité est donc important et la cible peut fonctionner de façon satisfaisante même pendant une longue période sous un rayonnement lumineux. Parmi les oxydes précités, l'oxyde de Nb ou Ta convient particulièrement.A titre d'exemple, lorsqu'une couche de Nb205 ou Ta205 est intercalée sous une épaisseur d'au plus 10Q microns, le pouvoir de transmission de la lumière incidente est très élevé et, par conséquent, cette couche ne risque pas d'abaisser la sensibilité de la cible du tube analyseur. Ensuite, l'oxyde de Ti convient bien. TiO2, etc. supportent la comparaison avec les oxydes de Nb et Ta et peuvent être utilisés comme des matières équivalentes. Après l'oxyde de Ti se situe l'oxyde d'un élément choisi dans le groupe comprenant Fe, 3c, Y, Zr, Hf, Th et La. Lorsqu'un tel oxyde est intercalé entre 17électrode de signaux et le sélénium amorphe ou autre, il a un effet suffisant sur la suppression du courant d'obscurité et offre un pouvoir de transmission de la lumière plutot meilleur que celui des oxydes précités. L'oxyde de V est également excellent en ce qui concerne la suppression du courant d'obscurité, mais il présente l'inconvénient de réduire le pouvoir de transmission de la lumière par rapport aux oxydes pré- cités.L'invention a donc pour objet la suppression du courant -d'obscurité, meme avec des oxydes de certains autres éléments, tels que Cd, 3 et Bi. Les oxydes mentionnés cl-dessus sont généralement formés par pulvérisation ou évaporation sous vide, en utilisant les mêmes oxydes comme cibles de pulvérisation-ou sources d'évaporé ration. Il n1 existe aucune limitation spéciale quant au procédé qui doit être adopté pour l'oxyde d'un élément particulier. Mais, en général, la pulvérisation convient mieux que 11 évaporation sous vide pour les oxydes qui sont facilement réduits et noircis Dans le cas d'oxydes de réduction difficile, de bons résultats sont obtenus plus souvent avec l'évaporation sous vide qu'avec la pulvérisation. La pulvérisation est effectuée en exploitant la decharge à haute fréquence dans de l'argon, sous une pressIon de 1 x 10-1 à 1 x 10-3 torr. A ce moment, si l'oxyde est facilement réduit et noirci, 5 % en volume d'oxygène au maximum peuvent être mélanges à l'argon. Le cas de l'évaporation sous vide est expliqué ciaprès. Dans le cas où, meme si un certain défaut d'oxygène apparaît, l'indice d'oxydation de l'oxyde initial est maintenu, l'introduction d'une petite quantité d'oxygène n'est pas spécia lement nécessaire.Mais, dans le cas où l'oxyde initial est faciliement réduit et transiformé en oxyde d'un indice d'DxydatiDn plus petit, de l'oxygène sous une pression d'au plus 1 x 10-1 torr peut etre introduit pendant l'évaporation sous vide. Une température du substrat qui convient est 300 C ou moins, aussi bien en pulvérisation qu'en évaporation sous vide. Il en est ainsi car,à des températures au-dessus de 300 C, les défauts attribués è des cristallites croissant de façon anormale augmentent. Bien que la couche d'oxyde soit intercalée entre la pellicule photoconductrice et l'électrode de signaux, il n1 est pas toujours nécessaire qu'elle soit adjacente à cette dernière, et une couche faite d'une matière différente peut etre intercalée entre l'électrode de signaux et la couche d'oxyde. lais, la pellicule conductrice et la couche d'oxyde doivent se trouver l'une contre l'autre, ou au voisinage immédiat, de manière qu'une couche ne produisant aucune injection de trous, telle que la couche oxyde mentionnée ci-dessus, soit intercalée entre elles. En outre, un plus grand effet est obtenu lorsque, en combinaison avec la première couche d'oxyde, une seconde couche est superposée sur la première couche d'oxyde, et est faite d'un oxyde d'au moins un élément choisi dans le groupe comprenant Cd, B, Sc, Y, Ti, Zr, Rf, Th, La, Bi, V, Nb, Ta, Fe, Po, Ce, Ge, Sb, Zn, Ai, Si, W et Te, et qui ne soit pas un constituant de la première couche d'oxydes La seconde couche d'oxyde peut titre fabriquée d'une façon similaire à celle de la première couche. Dans le cas où le dispositif photo-électrique est utilisé dana un tube analyseur de télévision par exemple, dans lequel une haute fidélité à l'intensité lumineuse et une réponse rapide sont nécessaires, le type de pellicule mince qui convient pour celle des pellicules qui est la plus proche de la pellicule photoconductrice est limité.A titre d'exemple, si la pellicule est faite d'une matière dont le constituant principal est le sélénium, une pellicule mince qui contient un oxyde de Ce7 Nb, Al ou Zn comme constituait principal convient pour la pellicule mince la plus proche de la matière photoconductrice. Une pellicule mince qui contient un.oxyde de germanium comme constituant principal donne lieu à une légère image fantôme, parti eulibrement lorsque Itladice d'oxydation est faible. Dans le cas du tube-analyseur, elle ne peut donc 8tre utilisée pour la pellicule la plus proche de la matière phetoconductrice, dans certaines utilisations.Mais, même si l'indice d'oxydation est faible, la pellicule d'oxyde de germanium a un effet remarquable sur la suppression du'courant d'obscurité et, par conséquent, elle donne un résultat supérieur dans ce domaine lorsqu'elle est utilisée sur le côté de l'électrode. Lorsque deux types au moins de pellicules minces sont utilisés et sont placés l'un contre l'autre, le courant dPobscurité est plus. faible dans la plupart des cas que si une seule de ces deux pellicules était utilisée. A titre d'exemple, si une seule pellicule évaporée de CeO2 est utilisée, le courant d'obscurité est 2 nA et si,une seule pellicule évaporée de Nb2O5 est utilisée, le courant d'obscurité est 0,6 nA. Dans ce cas, si une double pellicule de CeG2 et Nb205 est utilisée, le courant d'obscurité pour la même tension est inférieur à 0,5 na. Dans le cas de formation de deux types de pellicules d'oxyde mince ou davantage, il importe que les pellicules voi- sines entre elles contiennent des oxydes mutuellement différents comme constituants principaux. Dans le cas où les pellicules minces qui contiennent un oxyde identique comme constituant principal sont superposées, on ne peut s'attendre à obtenir un courant d'obscurité très inférieur à celui d'une pellicule en une seule couche.- D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront au cours de la description qui va suivre. Au dessin annexé à titre d'exemples nullement limitatifs La fig. 1 est une coupe d'un dispositif photo-électrique selon un aspect de l'invention, la fig. 2 est une coupe d'un dispositif photo-électrique selon un autre aspect de l'invention, et Les fig. 3 et 4 sont des coupes-de dispositifs photo-électriques selon d'autres aspects de l'invention. Exemple 1 La fig. 1 représente une électrode transparente 2 en SnO2, formée sur un substrat de verre 1. Le substrat résultant est placé sur une électrode porte-substrat dans un équipement de pulvérisation à haute fréquence. Par ailleurs, des céramiques de Nb205 sont placées sur une électrode-cible. Ensuite, la chambre de pulvérisation est évacuée à une pression inférieure à 5 x lo 6 torr, et de l'argon y est introduit de manièr-e à y établir une pression ae 2,5 x 10 2 torr. Une décharge à haute fréquence, à 13,56 MHz sous une puissance de 1 W/cm2, est établie entre les deux électrodes, dans l'atmosphère d'argon. Ainsi, une pellicule mince 3 de Nb205 est formée sur l'électrode transparente 2, jusqu'à une épaisseur d'environ 100 nn. Une pellicule amorphe 4 de Se-Te-As est évaporée sous vide sur la pellicule 3, jusqu a une épaisseur de 4 microns, de manière à obtenir un profil de composition prédéterminée dans la direction de l'épaisseur. Enfin, une pellicule 5 de Sb2S3 destinée à améliorer la réception du faisceau d'électrons est évaporée jusqu'à une épaisseur d'environ 100 nm, sous une pression d'argon de 5 x 10-2 torr. Une cible de tube analyseur fabriqué selon le procédé ci- dessus possède une sensibilité très élevée à la lumière visible et peu detretard et d'image fantôme. Le courant d'obscurité après que la cible a fonctionné pendant une longue période à la lumière est inférieur à 1nA. Exemple 2 Une électrode transparente de In205 est formée sur un substrat de verre. L1une des différentes pellicules minces indiquées dans le tableau 1 ei-apres est pulvérisée sur 11 électrode transparente selon le même procédé que dans l'exemple 1. En outre, une pellicule amorphe de Se-?e-As-Ge est évaporée sous vide sous une épaisseur de 6 microns de manière à obtenir un profil de composition prédéterminée dans la directiDn de son épaisseur. Une pellicule de Sb2S3 est évaporée sous une pression d'argon de 5 x 10-2 torr. Différents dispositifs photo-électriques ont été fabriqués selon le procédé indique ci-dessus. Ils ont été utilisés comme cibles dans des tubes analyseurs possédant de bonnes caractéristiques comme dans l-'exemple 1, -et indiquées dans le tableau 1 ci-après. Les conditions de formation des pellicules minces correspondantes sont également indiquées dans ce tableau. Tableau 1 Pression Sortie haute Epaisseur Courant d'argon fréquence Epaisseur d'obscurité (torr) (W/cm) (nm) Ta2O5 3 x 10-2 1W/cm 20 1nA TiO2 3 x 10-2 1W/cm2 80 inA Sc203 5 x 10-3 2W/cm2 20 2nA Y203 5 x 10-3 2W/cm2 20 2nA ZrO2 5 x 10-3 2W/cm2 20 2nA HfO2 5 x 10-3 2W/cm2 20 2nA ThO2 5 x 10 3 2W/cm2 20- 2nA La2O3 5 x 10-3 2W/cm2 20 2nA Fe2O3 3 x 10-2 1W/cm2 40 2nA V2O5 3 x 10-2 1W/cm2 40 1nA La température du substrat était commandée entre 80 et 200 C. Exemple 3 Une électrode transparente de SnO2 est formée sur un substrat de verre, et le substrat résultant est placé dans un équipement d'évaporation sous vide pour l'évaporation de TiO2. Après que la pression de l'équipement d'évaporation a éte amenéeau-dessous de 7 x 10-6 torr, de l'oxygène est introduit dans cet équipement afin d'y établir une pression permanente de 02 de 5 x 10-5 torr. Dans ces conditions, le substrat formé avec l'électrode transparente de SnO2 est chauffé à 200 C, et une nacelle qui contient TiO2 de grande pureté est également chauffée. Ainsi, une pellicule mince de Ti02 est formée sur l'électrode transparente de Sn02. Une pellicule amorphe de Se-Te-As et une pellicule de Sb2S3 sont formées sur la pellicule mince de TiO2, selon le meme procédé que dans l'exemple 1. Une cible de tube analyseur ainsi fabriquée possède de bonnes caractéristiques comme dans les exemples 1 et 2. Le courant d'obscurité est inférieur à 1 nA. Exemple 4 Une électrode transparente de In2O3 est fermée sur un substrat de verre. L'une des différentes pellicules minces indiquées dans le tableau 2 ci-après est évaporée sous vide sur l'électrode transparente, selon le mme procédé que dans l'exem- ple 3. Ensuite, une pellicule amorphe de Se-As-!e et une pellicule de Sb2S3 sont formées sur la pellicule:mince, selon le même procédé que dans l'exemple 1. Des cibles de tubes analyseurs ont été fabriquées de cette manière. Elles présentent de bonnes caracteristiques comme l'in dique le tableau 2 ci-après. Les conditions de formation des différentes pellicules sont également indiquées dans le tableau 2. Tableau 2 Pression Température épaisseur Courant d'oxygène du substrat (nm) d'obscurité (torr) Température Nb2O5 40 1nA ambiante Ta2O5 " 20 1nA OdO 5 x 10 4 20 2nA 3i203 " 40 2nA B2O3 " 20 2nA V2O5 5 x 10-3 200 C 20 2nA Exemple 5 Comme le montre la fig. 2, une pellicule d'or 7 est évaporée sur un substrat 6. Une pellicule amorphe 8 de Se-Te-As est évapore sur l'électrode d'or 7, jusqu'à une épaisseur d'environ 5 microns de manière à présenter un profil de composition prédéterminée dans la direction de son épaisseur.Ensuite, une pellicule 9 de Ta2O5 est évaporée sous vide sur la pellicule amorphe 8, jusqu'à une épaisseur d'environ 10 nm. Ensuite, une mince pellicule d'aluminium 10 est évaporée de manière à former une électrode semi-transparente. La strueture résultante est utilisée comme dispositif phote-électrique en amenant de la lumière en incidence sur le coté de l'électrode semi-transparente en aluminium. Le dispositif phote-électrique ainsi fabriqué possède de bonnes caractéristiques, comme dans les précédents modes de réalisation. Exemple 6 Comme le montre la fig. 3, une électrode transparente 12 de Sn02 est formée sur un substrat de serre il. Le substrat ré sultant est amené dans un équipement d'évaporation-sous vide, à une pression de 10-5 5 torr. Une nacelle contenant du CeO2 de grande pureté est également placée dans l'équipement dlOvapo- ration sous vide. Le substrat est chauffé à 500C et le CeO2 est évaporé sur le SnO2. L'épaisseur de la pellicule évaporée 13 de CeO2 est de l'ordre de 20 nm.Ensuite, une pellicule 14 de ZnO est évaporée sur la pellicule 13 de CeO2, jusqu'à une épaisseur d'environ 20 nm dans de-l'oxygène, sous une pression de 1012 torr, avec une température du substrat de 2000C. Ensuite, une pellicule 15 de Se contenant As et Te est évaporée sous vide jusqu'à une épaisseur d'environ 4 microns. Enfin, une pellicule 16 de Sb2S3est évaporée dans l'argon sous 0,05 torr. Une cible de tube analyseur est ainsi réalisée. Cette cible de tube analyseur possède une sensibilité trés élevée, avec peu de retard et d'image fantôme, et le courant d'obscurité est atténué jusqu'au-dessous de 0,2 nA. Exemple 7 Une électrode transparente de In2O3 est formée sur un substrat de verre. Selon le meme procédé que dans l'exemple 6, une matière qui contient, comme constituant principal, l'un au moins des différents oxydes indiqués dans le tableau 3 ci-après, est évaporéesur l'électrode transparente comme première couche d'oxyde. Les procédés d'évaporation des oxydes sont également indiqués dans le tableau 3. Ensuite, une matière dont le constituant principal est Je02 est évaporée comme seconde couche d'oxyde. L'évaporation est faite sous vide, à une température du substrat de 500C, sous une pression de 10-5 5 torr, de manière que l'épaisseur de la couche soit de l'ordre dé 20 nm. Ensuite, une pelli-. cule ae Sb2As-Te est évaporée sous vide jusqu'à une épaisseur d'environ 4 microns. Enfin, Sb2S3 est évaporé dans llargon sous 0,05 torr. Une cible de tube analyseur est ainsi réalisée. Comme dans l'exemple 6, les cibles de tubes analyseurs réalisés selon cet exemple possèdent une sensibilité élevée, peu de retard et d'image fantome, et le courant d'obscurité est faible. tes valeurs du courant d'obscurité'dans les différents exemples de combinaisons sont indiquées dans le. tableau 4. Tableau 3 Procédé déva- Pression Pression Tempéra Pression Epaisseur poration d'argon d'oxygène ture du (torr) (nm) (torr) (torr) substrat Zn0 Evaporation 10-2 200 20 dans un gaz CdO Evaporation 10-3 100 20 dans un gaz Al203 Evaporation 10-5 80 10 sous vide SiO Evaporation 10-5 50 10 sous vide SiC2 Pulvérisation 0,05 100 10 TiO2 1l 0,0o 100 50 TiO2 Evaporation 10-3 200 10 dans us gaz Bi2O3 Pulvérisation 0,03 100 20 Sb2O3 Evaporation 10-5 30 10 sous vide Ta2O5 Pulvérisation 0,01 100 20 Nb2O5 Evaporation 10-5 50 10 sous vide Tableau 3 (suite) Procédé d'éva- Pression Pression Pression Tempéra- poration d'argon (torr) d'oxygène ture du (nm) (torr) (torr) substrat Nb2O5 Pulvérisation 0,03 200 200 TeO2 Evaporation 10-5 30 20 sous vide WO3 Evaporation 10-4 30 20 sous vide La2O3 Evaporation 10-5 50 20 sous vide Sc2O3 Pulvérisation 0,005 100 20 HfO2 " 0,005 100 20 ThO2 " 0,005 150 20 V205 " 0,03 200 40 Fe2O3 ' 0,03 100 30 ZrO2 " 0,05 100 30 PbO Evaporation 10-3 100 50 dans un gaz B2O3 Pulvérisation 0,03 100 30 Y2O3 " 0,03 100 30 Tableau 4 Première Seconde Courant Première Seconde Courant couche couche dtobscu- couche couche d'obscud'oxyde d'oxyde rité d'oxyde d'oxyde rité (nA) (nA) Sb203 Ce02 0,2 SiO Ce02 0,3 Bi2O3 CeO2 0,2 TiO2 CeO2 0,2 (Evaporation dans un gaz) W03 Ce02 0,3 Exemple 8 Une électrode transparente de In2O3 est formée sur un substrat de verre. Selon le même procédé que dans l'exemple 6, une matière dont le constituant principal est~un oxyde de Ge (GeO ou GeO2) est évaporé sur l'électrode transparente comme première couche d'oxyde. Dans le cas de GeO, 11 évaporation est faite sous vide et elle est effectuée à une température du substrat de 300C, sous une pression de 10-5 5 torr, jusqu'à une épaisseur de 10 nm. Dans le cas de GeO2, l'évaporation est faite sous vide et elle est effectuée à une température du substrat de 50O, sous une pression de 10-@ torr, jusqu'à une épaisseur de 10 nm. Ensuite, une matière, qui contient comme constituant principal l'un au moins des différents oxydes indiqués dans le tableau 3 ci-dessus, est évaporée comme seconde couche dioxyde. Un procédé d'évapo- ration est indiqué sur le tableau 3. Ensuite, une pellicule de Se-As-Te est évaporée sous vide jusqu'à une épaisseur d'environ 4 microns. Enfin, Sb2S3 est évaporé dans l'argon sous 0,05 torr. Une cible de tube analyseur est ainsi réalisée. De mêm que dans l'exemple 6, les cibles de tubes analyseurs selon cet exemple possèdent une sensibilitéélevée, peu de retard et peu d'image fantôme et le courant d'obscurité est réduit. Les valeurs du courant d'obscurité dans les différents exemples de combinaisons sont indiquées dans le tableau 5 Tableau 5 Première Seconde Courant Première Seconde Courant couche couche d'obscu- couche couche dlsbscu- d'oxyde d'oxyde rité d'oxyde d'oxyde rité (nA) (nA) GeO Nb205 0,05 GeO Al2O3 0,1 (Evaporation sous vide) GeO La2O3 0,3 GeO ZnO 0,1 Exemple 9 Selon la fig. 4, une électrode d'or 18 est évaporée sous vide sur un substrat 17. Une pellicule 19 de sélénium, contenant As et Te, est évaporée sous vide sur l'électrode d'or jusquså une épaisseur d'environ 4 microns.Ensuite, une pellicule 20 de Nb2O5 t3t évaporée sous vide sur la pellicule de sélénium jusqu'à une épaisseur environ 10 nm, et une pellicule 21 de GeO est évaporée sous vide sur le Nb205, jusqu'à une épaisseur d'environ 10 nm. Enfin, une mince couche 22 d'aluminium est éva porée sous vide de manière à former une électrode semi-transpa- rente Un dispositif photo-électrique est ainsi réalisé. La lumière est -amenée en incidence par l'électrode semi-transparente d'aluminium. Avec ce dispositif, le courant d'obscurité est inférieur à 0,1 nA. Exemple 10 Une électrode transparente de Sn02 est formée sur un substrat de verre. Sur le substrat résultant, CeG2 est évaporé sous vide jusqu'à une épaisseur d'environ 10 nm, après quei WO3 est évaporé sous vide jusqu'a une épaisseur d'environ 10 nm. Après l'éva- poration de WO3, le substrat résultant est placé dans l'air et il y est laissé pendant 10 minutes environ. Ensuite, CeG2 est à nouveau évaporé sous vide-sur la pellicule de W03, jusqu'à une épaisseur d'environ 20 microns. Ensuite, une pellicule de sélénium contenant As et Te est évaporée sous vide jusqu'à une épaisseur d'environ 4 microns et Sb2S3 est évaporé dans l'argon sous 0,05 torr. Une cible de tube analyseur est ainsi réalisée. Comme dans l'exemple 6, la cible de tube analyseur possède une forte sensibilité, peu de retard et d'lmage fantasme et le courant d'obscurité est inférieur à 0,1 ng. L'électrode transparente, la pellicule photoconductrice et la pellicule contre l'émission d'électrons secondaires (pellicule de Sb2S3)qui sont utilisées dans les exemples ci-dessus ne sont pas limitées à celles qui ont été mentionnées. Elles peuvent être remplacées par des pellicules différentes. Les procédés de fabrication des pellicules d'oxyde ne sont pas limités à ceux qui ont été mentionnés. Le dispositif photo-électrique qui a été décrit en détail ci-dessus permet de réduire le courant d'obscurité à une valeur extrêmement basse, même dans le cas d'un élément photoconducteur de haute sensibilité, et il peut supporter un long usage. Il donne ainsi des résultats remarquables en utilisation. REVENDICATIONS i - Dispositif photó-électrique caractérisé en ce qu'il comporte une première électrode, une première couche d'oxyde formée sur ladite électrode et réalisée en une matière dont le constituant principal est un oxyde d'au moins un élément choisi dans le groupe comprenant Cd, B, Sc, Y, ni, ZR, Rf, Th, La, Bn, V, Nb, Ta et Fe, et une couche photoconductrice formée sur ladite première couche dioxyde. 2 - Dispositif photo-électrique selon la revendication 1 caractérisé en ce que ladite première électrode est formée sur un substrat transparent, la surface dudit substrat sur laquelle ladite première électrode n'est pas formée étant la surface qui reçoit la lumière. 3 - Dispositif photo-électrique selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche photoconductrice est formée sur une seconde électrode prévue sur le substrat, la surface de ladite première électrode qui est opposée à ladite première couche dioxyde étant la surface qui reçoit la lumière. 4 - DispoSi;tif pho-to-électrique selon la revendication 1, caractérisé en ce au'il comporte-en outre-une seconde couche d'oxyde adjacente à ladite première couche d'oxyde et réalisée en un oxyde d'au moins un élément choisi dans le groupe comprenant Cd, B, Sc, Y, Ti, Zr, Rf, Th, La, Bi, V, Nb, Ta, Fe, Pb, Ce, Ge, Sb-, Zn, Ai, Si, W et Te, ladite couche d'oxyde ne contenant aucun des eonstituants de ladite premiere cquehe d'oxyde. 5 - Dispositif -photo-électrique selon la -revendication 4, caractérisé en ce que ladite première électrode-est formée sur un substrat transparent, la surface dudit substrat sur lequel ladite première électrode n'est pas formée étant la surface qui reçoit la lumière. 6 - Dispositif phDto-électrique selon la revendieation 4, caractérisé en ce que ladite couche photo-conductrice est formée sur une seconde électrode prévue sur un substrat, la surface de ladite première électrode qui est opposée à ladite première couche d'oxyde étant la surface qu reçoit la lumière.