Brevet FR2275876A1 — publié le 19760116

La présente invention concerne le domaine des dispositifs de projection électronique d'images et en particulier, des dispositifs dans lesquels il est nécessaire d'obtenir un alignement très précis de l'image projetée par rapport à des marques de repérage portées par la plaquette qui reçoit l'image. La projection électronique des images s'emploie maintenant dans certaines fabrications qui Vutilisaient, jusqu'à maintenant des procédés photolithographiques plus anciens et plus classiques, étant donné certains avantages inhérents à la projection électronique des images, comparativement aux procédés de projection optique et d'impression par contact. Â titre d'exemple, dans la fabrication des dispositifs semi-conducteurs, et en particulier des circuits intégrés, il est nécessaire de graver des dessins dans un oxyde ou une autre couche couvrant le support semiconducteur, au cours des différentes étapes du traite- ment de ce support.Jusqu'à maintenant, ceci se faisait, en général, en recouvrant la couche d'oxyde, d'un matériau photosensible et en exposant ce matériau à une source lumineuse, au travers d'un masque correspondant au tracé désiré. On développait ensuite le matériau photosensible et on dissolvait soit la partie exposée, soit la partie non-exposée de la résine photodurcissable, pour laisser apparattre les surfaces désirées d'oxyde de silicium ou autre couche sous-jacente. Pour obtenir la définition désirée des bords de l'image, sur la résine photosensible, on emploie, en général des procédés d'impressions par contact, le masque étant mécaniquement et visuellement aligné par rapport au support pour réaliser la mise en place désirée de l'image. Des procédés d'impression par contact de ce type peuvent entrat- ner une usure rapide des masques, par conséquent les masques doivent Qtre changés souvent pour maintenir la qualité de l'image désirée. D'autre part, l'alignement mécanique et visuel du masque par rapport au support est long et implique des risques d'erreurs. La projection électronique des images a été employée plus récemment, de façon limitée pour remplacer les procédés photolithographiques plus anciens, quand on demande une image de haute qualité, avec des détails fins, par exemple, dans la fabrication des circuits intégrés. Dans des applications de ce type, les principaux avantages inhérents à la projection électronique des images sont : une meilleure résolution, une impression sans contact et l'alignement à commande électrique des masques.La résolution plus grande et la possibilité d'obtenir la résolution nécessaire par un procédé d'impression sans contact sont dues au fait que si des électrons sont émis par la surface du masque avec une énergie plus faible et accélérés vers une résine sensible aux électrons, placée sur un support, par un champ électrique relativement élevé, il y a très peu d'électrons dispersés transversalement, et que l'on obtient donc, par la projection électronique, une image de haute qualité et de fine résolution.Les avantages de l'alignement sont dfls au fait que l'on peut dévier facilement des faisceaux d'électrons, soit par un dispositif magnétique, soit par un dispositif électrostatique, et que l'on peut facilement tourner ou décaler une image électronique projetée par petites quantités, pour aligner, avec précision, l'image par rapport au support. La projection électronique des images s'obtint en utilisant un masque capable d'émettre des électrons depuis sa surface, suivant un tracé donné. Le masque est typiquement constitué d'une plaque de quartz sur laquelle sont déposés d'un caté un masque de bioxyde de titane et une mince couche de palladium, sur le dessus du bioxydeode titane. Quand on éclaire le masque, depuis l'arrière, avec une lumière ultraviolette, le palladium émet des électrons avec une énergie de 0,2 électronvolt environ. Comme le bioxyde de titane fait écran entre la lumière ultraviolette et le palladium, seules les régions de palladium, qui ne sont pas masquées de la lumière ultraviolette par le bioxyde de titane, émettent des électrons.Les électrons émis sont ensuite accélérés par un champ électrique, vers le support revêtu de résine sensible aux électrons; une valeur type de ce champ électrique correspond à une élévation de tension de peut-etre 10 000 volts si bien que l'énergie d'émission de 0, 2 eV des électrons ne se traduit pas par une dégradation excessive de l'image projetée (perte de finesse d'image due à la translation latérale et à la dispersion des électrons pendant le temps qu'ils mettent à atteindre la surface de résine sensible aux électrons Il serait extr#mement difficile d'aligner mécaniquement et précisément le masque de bioxyde de titane par rapport au support ou à la plaquette, en particulier parce que le processus de projection électronique des images doit être effectué dans le vide pour éviter la dispersion des électrons par collision avec des molécules de gaz. Selon l'art antérieur, on aligne mécaniquement le masque, de façon approximative par rapport au support et on fait décrire à l'image projetée, des mouvements de rotation, et/ou de translation limités et facilement contrôlables, gracie à des dispositifs électromagnétiques, de manière à aligner à volonté l'image projetée sur la plaquette. On connaît différents montages permettant de déterminer la déviation correcte à faire subir à l'image pour obtenir l'alignement désiré. L'une des méthodes de l'art antérieur est la suivante : à partir d'une plaquette de silicium, recouverte à sa surface d'une couche de silice, on grave un tracé en étoile à mi-chemin dans la couche de silice, près du bord de la plaguette. Puis, on dépose une couche d'aluminium sur la surface de silice, dans le dessin en étoile et au voisinage de ce dernier, et on établit un contact électrique avec la couche d'aluminium et la sous-couche de silicium. Chaque masqae est aussi prévu pour projeter une image électronique avec un tracé en étoile semblable au voisinage du tracé en étoile de la couche de silice, sur la sous-couche.La couche d'aluminium est extrêmement mince si bien que l'image électronique doit sensiblement la traverser ainsi que la couche de silice sous-jacente. Comme le bombardement électronique d'une couche de silice induit dans cette couche une conductivité électrique qui est inversement proportionnelle à l'épaisseur de la couche d'oxyde, la conductivité, mesurée entre la couche d' aluminium et le support en silicium peut servir à indiquer la position de l'image électronique en étoile sur les masques par rapport au dessin en étoile de la couche de silice. En appliquant une tension entre le support et la couche d'aluminium, on peut commander la déviation de l'image électronique pour déplacer le dessin en étoile projeté, suivant la conductivité de la couche de silice. La conductivité de la couche d'oxyde dé silicium sera maximale quand 1 'image électronique en étoile sera projetée divectement dans l'alignement du dessin en étoile, gravé à mi##ieiin dans la couche de silice et donc, les bobines de déflexion du dispositif de déflexion sont correctement excitées quand des perturbations des déviations rectilignes et de rotation se traduisent par une diminution de la conductivité de la couche d'oxyde, telle qu'on la mesure d'après le courant circulant dans la couche d'oxyde entre la couche d'aluminium et le support. La déviation électromagnétique constitue un moyen commode de dévier l'image électronique, à volonté, puisqu'elle est facile à commander par un procédé électrique et permet de réaliser la déviation souhaitée sans nécessiter de mouvement mécanique, ni du masque, ni de la plaquette pour obtenir 1 'ali- gnement. Nais l'amplitude de la déviation que l'on peut obtenir par des procédés électromagnétiques est limitée, en particulier par l'angle dont peut tourner l'image par rapport à la plaquette sans détruire notablement la mise au point de l'image au voisinage de ses borde. le problème se pose, du fait que pour réaliser une rotation linéaire, il faut un champ magnétique qui n'est pas radialement uniforme, en particulier, cette répartition nonuniforme doit être linéaire le long d'un rayon, en partant d'une valeur nulle au centre de l'image.Ceci signifie, qu'avec des champs de grand diamètre, le champ variera beaucoup, du centre au bord, pour de faibles rotations, le problème consiste donc à maintenir la résolution sur un grand diamètre avec une rota tion assez importante pour corriger les défauts mécaniques #### lignement. Par conséquent, bien que l'alignement m6canique des dispositifs antérieurs n'ait pas besoin d'8tre aussi précis que l'alignement d'image définitif exigé, il faut que l'alignement mécanique se trouve dans des limites que l'on n'atteint pas facilement dans un dispositif sous vide auxquels sont reliées différentes ouvertures de charge et de décharge pour le traitement régulier de quantités de plaquettes fabriquée s. Par contre la déviation linéaire d'une image électronique, d'une quantité notable, s'obtient relativement facilement sans distorsion notable des dispositifs électro-magnétiques. Donc, l'association de la translation électromagnétique d'une image électronique et la rotation électromécanique de 1 'image électronique auraient des avantages particuliers en ce qui concerne la gamme de déviations que l'on psurrait obtenir sans distorsion ni destruction de la mise au point de l'image. ##is, les dispositifs antérieurs ont été limités à l'emploi des dispositifs#électromagnétiques de déviation surtout parce qu'il était difficile d'obtenir un montage électromagnétique de rotation, à bas prix, sensiblement sans hystérésis, qui soit compatible avec un environnement sous vide, c'est-à-dire qui n'utilise pas de lubrifiants, de matériaux organiques, de faibles écarts ou autres, qui tendraient à contaminer le vide en dégageant des gaz en permanence.On a donc besoin d'un dispositif électromécanique capable de faire tourner, soit le masque, soit la plaquette, dans un dispositif de projection électronique d'une image, qui soit mécaniquement simple, peu coûteux, qui puisse obtenir une rotation d'angles importants facilement contrôlables par très petit incrément, et qui soit compatible avec un vide poussé. Un appareil électromécanique d'alignement pour des dispositifs de projection électronique images permet un alignement angulaire précis d'une image électronique sur une plaquette présentant, à l'origine, un défaut d'alignement important. L'appareil est constitué de cristaux piézoélectriques disposés de manière à provoquer une rotation relative du masque de la photocathode et de la plaquette en réponse à un signal électrique. On décrit différents montages assurant une rotation, sans frottement notable, sans agstérésis de la plaquette ou du masque, d'une manière compatible avec le vide poussé des systèmes électroniques de projection.Les différentes réalisations décrites en détails, utilisant trois dispositifs à cristaux dans lesquels chaque dispositif à cristal se compose de deux cristaux pi ézo électriques assemblés à un conducteur intermédiaire commun. Dans une réalisation, les dispositifs à cristaux sont montés entre le support de la photocathode et le support de la plaquette sur les faces des dispositifs à cristaux qui sont parallèles au conducteur intermédiaire. les orientations des cristaux sont choisies de manière à ce que la rotation relative entre la photocathode et la plaquette puisse autre provoquée par la connexion électrique du support de photocathode au support de plaquette et par l'application d'une tension de commande au conducteur intermédiaire par rapport aux supports. D'autres montages décrits utilisent des dispositifs à cristaux semblables qui sont montés, par leurs extrémités, aux supports dé photocathode et de plaquette, le conducteur intermédiaire assurant alors le contact électrique avec les deux supports. La surface de chaque cristal, entre les deux supports, qui est parallèle au conducteur intermédiaire a un contact électrique et les orientations des cristaux sont choisies de manière à ce- qu'à l'application d'une tension de commande entre ces dernières surfaces conductrices et le support, le dispositif à cristal prenne une courbure sensiblement uniforme, en réponse à cette tension de commande. En orientant convenablement les dispositifs à cristaux et en les fixant correctement aux supports, on obtient une rotation angulaire d'un support par rapport à l'autre en réponse à une tension de commande.Différentes réalisations de dispositifs à cristaux de ce type sont décrites ici. - La fig. i est une vue en coupe partielle d'un procédé électronique de projection d'images. - La fig. 2 est une vue en coupe partielle, à plus grande échelle des supports de photocathode et de plaquette et de la plate-forme sur laquelle ils sont montés, dans le dispositif de projection électronique d'images de la fiv.1. - La fig. 3 est une vue en perspective d'un dispositif à cristal utilisé dans différentes réalisations de l'invention. - La fig. 4 est une vue de dessus, en coupe partielle du dispositif d'alignement angulaire de l'invention. - le iig. 5 est une vue de dessus de l'appareil d'ali- gnement angulaire de 1 1invention, représenté en coupe partielle, illustrant la rotation de l'anneau support en réponse à la courbure des dispositifs à cristaux. - La fig. 6 est une vue de c8té, en coupe partielle de l'appareil électromagnétique d'alignement de la Pig. 4, suivant la ligne 6-6 de cette figure. - La fig. 7 est une vue de dessus d'une autre réalisation de l'appareil d'alignement de l'invention. - La fig. 8 est une vue de dessus d'une portion du dispositif d'alignement de la fig. 7 illustrant la rotation du support annulaire. - La fig. 9 est une vue de côté de l'appareil d'alignement de la fig.7. - La ig.10 est une vue de dessus d'une autre réalisation de l'invention. - La fig. il est une vue de c8té de l'appareil de la fig. 10. L'invention concerne un appareil électromécanique d'alignement pour dispositifs de projection électroniques des images, utilisant des phénomènes piézoélectriques pour faire tourner, soit le masque de la photocathode, soit la plaquette de semiconducteur en réponse à un signal électrique déduit d'uni dispositif d'alignement automatique pour obtenir l'alignement angulaire de l'image électronique par rapport à la plaquette et compléter celui-ci par rapport à la plaquette, en liaison avec un dispositif de déflexion rectiligne électromagnétique ou autre. En se référant d'abord à la fig.1, on peut voir une vue en coupe partielle d'un dispositif de projection électronique d'images, connu. le dispositif de projection est constitué par une chambre à vide portant le repère général 20, et comprenant une pluralité de vestibules flottants comme le vestibule de charge des plaquettes 22 et le vestibule de charge des cathodes 24, séparés de la chambre à vide par des vannes de séparation 26 de manière à ce que lion puisse placer les plaquettes et les cathodes dans les vestibules, faire le vide dans les vestibules et ouvrir les vannes de séparation puis faire passer les plaquettes et les cathodes dans la chambre à vide.Une plat#orme centrale, portant le repère 28, peut se déplacer verticalement du fait de la tige d'entratnerent 30 et d'un soufflet 32 placé pour assurer un joint hermétique tout en permettant le mouvement vertical. Une pièce cylindrique 34 glisse sur une pièce intérieure 36 afin de guider la plateSorme 28 et de la relier au soufflet 32. Une paire de dispositifs de transfert 40 actionnés par des poignées 41 peut servir à transférer les plaquettes et les cathodes en direction ou en provenance de la plateforme centrale 28. Uhe source de lumière ultraviolette 42 et des bobines de concentration et de déflexion 44 sont montées au-dessus de la chambre à vide.Donc, quand la tige d'entratneaent 30 est sortie et pousse la plateforme 28 vers le haut, dans la partie supérieure du dispositif; la source de lumière ultraviolette 42 éclaire la photocathode se trouvant en haut des la platetorse 28. La photocathode émet des électrons qui sont accélérés vers la plaquette, au-dessous de la photocathode par une chute de tension élevée, et sont concentrés et alignés par les enrouleurnts 44 afin de venir-frapper la plaquette suivant le tracé désiré et avec la résolution et l'alignekent voulus. Une ouverture d'observation 46 permet à ltopeateur de suivre le processus de charge et de décharge, tandis qu'un raccord à vide 48 est prévu pour maintenir le vide poussé dans la chambre. En se référant maintenant à la fig.2, on peut voir la plateforme 28 plus en détails. les photocathodes 50 sont chargées de la droite et placées sur une plateforme 52 prévue pour recevoir les photocathodes. les plaquettes 53 sont changées, depuis la gauche et placées sur une plateforme 54, située au-dessous de la plateforme 52 afin que l'image électronique projetée par la photo-cathode arrive sur la plaquette comme on le désire.Dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteurs, et en particulier des circuits intégrés, chaque plaquette sera recouverte d'une résine photodurcissable et sera e#q > osée à travers un masque trois fois ou davantage pendant le traitement, et il est néces- saire que les différents masques soient alignés avec précision les uns par rapport aux autres sur la plaquette. les plaquettes et les photocathodes peuvent être chargées sur la plateforme 28 avec une précision initiale raisonnable, c'est-à-dire à quelques centièmes de millimètre près, en distance et à une fraction de degré près en orientation, en utilisant des procédés d'aligne- ment comme des broches venant se placer dans des trous appropriés des plaquettes etc.. mais l'alignement à moins de un micron est demandé à un équipement comme celui-ci. Comme on l'a décrit ci-dessus, on connut des procédé permettant de déterminer les défauts d'alignement entre les plaquettes et les photocathodes et de dévier l'image électronique pour corriger ce défaut d'alignement. On réalise facilement le défaut de translation, tandis que lton peut corriger un très petit décalage angulaire sans créer de distorsion ni détruire la mise au point de l'image sur la périphérie même de la plaquette ou près de cette périphérie. Avec le dispositif de l'invention,il est prévu de corriger le défaut de translation entre la plaquette et la photocathode par des procédés connus, comme par exemple des bobines de déflexions, disposées autour du dispositif qui feront subir à l'image la translation désirée. En se référant à la fig.3, on peut voir, maintenant, une vue en perspective d'un dispositif à cristal piézoélectrique 55. Ce dispositif est constitué de deux cristaux piézoélectriques 56 et 58, reliés à une bande métallique centrale 60, et ayant chacun des plaques de contact 62 et 64 sur les surfaces opposées du montage. Les flèches, marquées sur la face des deux cristaux, et désignées par les numéros 66, indiquent la direction de polarisation des cristaux. On remarquera que la tension appliquée aux bornes 68 établit un champ électrique, entre la plaque de contact de chaque cristal et la bande métallique, dont la tension est égale mais la direction opposée à la polarisation des cristaux.En réponse à cette tension, le premier cristal s'allongera tandis que le second se raccourcira. les deux plaques de contact 62 et 64 sont légèrement plus courtes que les cristaux auxquels elles sont fixées, si bien qu'une portion des cristaux 56 et 58 est laissée à nu, à chaque extrémité de chacun des cristaux. En se référant maintenant à la fig.4, on peut voir une vue de dessus de la plateforme 28 le long des lignes 4-4 de la fiv. 2. le dessus de la plateforme est constitué par un anneau 70 portant une paire de broches d'alignement 72 qui dépassent vers le haut et qui s'engagent dans la photocathode en permettant une certaine course pour L'alignement, Trois pièces flexibles 74, fixées à la surface inférieure de l'anneau, se projettent vers l'extérieur dans des directions radiales et stemboStent avec l'extrémité de l'un des dispositifs à cristaux 55 sur la bande métallique 60 et sur les extrémités des deux cristaux 56 et 58 en réalisant un contact électrique avec les plaques de contact 62 et 64.L'autre extrémité de chacun des dispositifs à cristaux est fixée à un barreau 76, qui forme un support vertical permet tant de placer l'anneau 70 à la position verticale désirée audessus d'un support annulaire analogue 78, soutenant une plaguet- te de semi-conducteur. La pièce flexible 74 est fixée rigidement à l'anneau 70, elle présente une région d' épaisseur réduite délimitée par des zones dégagées 80, de manière à créer une pièce flexible 82 entre elles, c'est-à-dire une zone de rigidité réduite, à la flexion autour d'un axe parallèle à l'anneau 70. L'extrémité extérieure du montage à cristal 55 est rigidement fixée au barreau 76 et la bande métallique 60 de chaque dispositif à cristal est électriquement reliée à l'anneau 70 et à l'un des barreaux 78. le contact électrique se fait avec chacune des plaques de contact 62 et 64 par la ligne 84, qui est branchée au contr & leur 86. Comte la structure de la plateforme est mise à la masse par la bande métallique centrale 60 de chacun des dispositifs à cristaux 55 qui est attachée à la fois à la structure de la plateforme principale et à 1 'anneau 70, toute la structure de ltensemble est à la masse, sauf les plaques de contact 62 et 64 et les cristaux placés sous ces plaques. les dispositifs à cristaux 55 sont disposés de manière à ce que les extrémités intérieures de tous les dispositifs à cristaux deviennent à l'unis- son, chacune dans le sens des aiguilles d'une montre, ou dans le sens inverse des aiguilles d'une montre, suivant la tension appliquée aux cristaux, par le contr8leur 86 et la ligne 8#,48 Comme on peut le voir d'après la fig. 5, quand le contrôleur 86 applique une tension, les dispositifs à cristaux prennent une forme courbée, chacun d'eux translatant le pourtour de l'anneau 70 dans une direction sensiblement tangente au diamètre de l'anneau en faisant donc tourner l'anneau en réponse à la tension appliquée par le contrôleur 86.Comme 1' extrémité extérieure de chacun des dispositifs à cristaux est rigidement fixée à l'un des barreaux 76, tandis que l'extrémité intérieure de chacun des dispositifss à cristaux est fixée à l'anneau 70 par 1 'intermé- diaire de la pièce souple 82, l'extrémité intérieure du dispositif à cristaux est libre de prendre une direction angulaire par rapport au rayon de l'anneau 70, si bien que la déflexion des cristaux fait tourner l'anneau comme l'indique la fig. 5. On obtient ainsi, un support rigide et précis de la photocathode, tout en ayant la possibilité de réaliser l'alignement angulaire gracie à une simple tension de commande sans utiliser ni paliers ni pièces coulissantes ou autre mécanisme.Dans la réalisation préférée, le contrôleur 86 est constitué par un dispositif automatique d'alignement incorporant l'appareil d'alignement électromécanique de l'invention. Le mouvement maximal que lton peut obtenir en utilisant des cristaux piézoélectriques, comme l'indique la fig.4, et en particulier le coefficient de proportionalité du mouvement comprimé en unité d'angle par volt dépend d'un certain nombre de paramètres. Pour obtenir l'amplitude de mouvement voulue les cristaux doivent être suffisamment longs et proportionnés pour créer l'amplitude désirée.Le coefficient de proportionnalité, tout en dépendant des dimensions et des proportions du cristal, dépend aussi de la manière dont sont reliés les différents cristaux. À titre d'exemple, on notera que sur la fig. 3, toute la tension appliquée aux bornes oe est imposée à chacun des cristaux 56 et 58, et que chaque dispositif à cristaux de la fig. 4 est monté en parallèle sur la tension de sortie du con trôleur 86, si bien que toute la tension du contrôleur est appliguée aux bornes de chacun des cristaux des trois dispositifs à cristaux de l'appareil. le procédé d'alignement angulaire piézoélectrique de la fig. 4 peut être utilisé soit pour le support de plaquette, soit pour le support de photocathode. Mais comme une plaquette ne sera pas exposée, à plus d'une photocathode avant d'être sortie de l'appareil afin d'être développée et de subir les autres traitements, tandis qu'un certain nombre de plaquettes peuvent autre exposées à une photocathode quelconque, il est préférable d'installer le dispositif piézoélectrique d'aligne- ment angulaire sur le support de photocathode, c'est-à-dire sur le support qui doit être le moins maltraité mécaniqueu nt puisque l'on changera moins souvent la pièce qu'il supporte et qu'il permet d'aligner. Quand on applique une tension d'une certaine polarité à chacun des montages à cristaux 55 par le contrsleur 86, le montage à cristaux, placé dans la région entre les plaques de contact 62 et 64 se coudera avec une courbure sensiblement uni- forme, dont l'amplitude sera fonction de l'amplitude de la tension.Comme 1 'extr#mité extérieure du dispositif à cristaux est rigidement fixée à l'un des barreaux 76, tandis que l'extrémité intérieure est fixée à l'anneau 70 par la pièce souple 82, 1' extrémité intérieure peut échanger son orientation angulaire par rapport à l'anneau. le dispositif à cristaux 55 se courbera donc, comme l'indique la fig. 5, la pièce souple 82 se coudant comme cela est indiqué, pour décaler effectivement le point de fixation sur l'anneau. les dispositifs à cristaux sont répartis sur un cercle par leurs fixations à l'anneau 70 et leurs fixa- tions au barreau 76, ils sont connectés en un circuit tel qu'une tension de polarité donnée fasse dévier l'extrémité intérieure de tous les montages à cristaux dans la i#ie direction circu laire autour de l'anneau intérieur. Ceci fait tourner l'anneau intérieur autour de son axe central 88 et il en résulte le mouvement angulaire désiré. Il apparat, d'après la fig. 5, qu'au fur et à mesure de la rotation de la bague 70, le point de fixation, sur la bague, de 12 pièce souple 82 tende à se courber autour d'un premier axe, à savoir l'axe 88, tandis que l'extrémité intérieure du montage à cristaux 55, si elle n1 est pas autrement limitée, tendrait à se courber ou à tourner autour d'un second axe, placé approximativement à mi-chemin sur la longueur du dispositif à cristaux 55, au point 90. Si donc, le dispositif à cristaux n'était pas fixé à l'anneau 88, il y aurait un certain mouvement radial entre le montage à cristaux et L'anneau quand l'anneau tournerait et le dispositif à cristaux prendrait une certaine courbure.Mais, comme ces pièces sont attachées les unes aux autres, il en résulte une contrainte longitudinale le long du dispositif à cristaux et dans la pièce souple quand l'anneau 70 tourne. Mais l'amplitude de cet effort est limitée car le mouvement angulaire résultant est limité et elle peut être réduite davantage par la construction de supports de cristaux qui laissent une certaine élasticité dans la direction radiale. En se référant maintenant à la fig. 6, on peut voir une vue latérale de la plateforme, le long des lignes 6-6 de la fig. 4. La plaquette 53 est soutenue par un anneau 92, prévu pour coopérer avec la plaquette en assurant unilignement initial grossier comme, par exemple, des broches de guidage de l'anneau 92 qui viennent s 'engager dans des trous convenablement prévus de la plaquette. L'anneau 92 est à son tour soutenu par des barreaux 94 (bit.4 à 6) qui s'étendent uniquement vers le haut en direction du bas de l'anneau 92 et ne g#nent pas le libre passage de la plaquette 53, entre les deus berreaux 76, pour venir se placer sur l'anneau 92. Tout l'ensemble des anneaux 70 et 92 et de la structure support associée est placé sur la plaque 94 de la plateforme centrale, portant le repère général 28, sur la fig. 1. La#plateforme est représentée sur la fig. 6, en position soulevée pour amener la plateforme dans la chambre tubulaire 96, juste au-dessous de la source de lumière ultraviolette 42 afin d 'exposer la plaquette au travers du masque de photocathode 50. En se référant aux fig. 7, 8 et 9, on peut voir une autre réalisation de l'invention assurant la rotation de la plaguette 53, plutôt que celle du masque de photocathode 50. Dans cette réalisation, l'anneau support de plaquette 92a est fixé, par des pièces souples 82a aux montages à cristaux 55a, qui sont placées de manière à autre orientées radialement vers llin- térieur et attachées à une structure support centrale 98. La connexion électrique des cristaux et le fonctionnement des pièces souples sont sensiblement les mimes que ceux de la réalisation précédente.Mais cette nouvelle réalisation présente certains avantages pour des applications particulières. Â titre d'exemple, on remarquera qu'aucune structure de diamètre supérieur à celui de l'anneau 92a n'est nécessaire, si bien que l'on peut utiliser des plaquettes ayant un diamètre voisin du diamètre total de la chambre 96 (fiv.1) avec ce dispositif d'alignement. Nais le centre 88a de l'anneau support 92a est plus proche du centre de rotation réel i00 des dispositifs à cristaux 55a, de sorte qu'il en résulte un effort radial généralement inférieur sur les dispositifs à cristaux, pour un écart angulaire donné. On remarquera que dans les deux réalisations précédemment décrites, les dispositifs à cristaux sont placés en une position sensibleeent horizontale c 'est-à-dire que les fixations aux deux extrémités du dispositif à cristaux sont généralement situées dans le m & e plan. Dans une autre réalisation, les dispositifs à cristaux peuvent avoir une orientation sensiblement verticale et être fixés à un anneau support, comme l'anneau support de photocathode, les dispositifs à cristaux étant géné- ralement placés au-dessus ou au-dessous du point de fixation des dispositifs à cristaux sur la partie fixe de la plateforme.Dans une telle réalisation, les dispositifs à cristaux n'ont besoin, ni d'espace ni de structure de diamètres sensiblement supérieurs au diamètre de l'anneau support, et ne risquent pas non plus de g8ner la zone centrale de l'anneau support et par consé- quent ne masqllent pas la lumière ultraviolette non plus que l'image électronique. Bien que l'autre réalisation décrite ci-dessus puisse être conçue pour utiliser des montages de cristaux, comme le montage 55, on peut employer aussi un type différent de montage de cristaux comme celui des fig. 10 et 11. Dans cette réalisation, les dispositifs à cristaux portent en général le numéro 102 et sont constitués d'une paire de cristaux 104 et 106 montés sur une bande métallique centrale 108test, sur leurs faces extérieures à un anneau support de plaquette 92 et à la plaque 93.Un fil de masse 110 est relié entre l'anneau 92 et la plaque 93, et la plaque 93 est à son tour mise à la masse, de sorte que toute la structure se trouve au potentiel de la masse, sauf la bande métallique centrale 108 que l'on peut relier à un contr8- leur comme le contr8leur 86 de la fig.4 par le conducteur 112. Dans cette réalisation, on utilise trois dispositifs à cristaux, toujours disposés en un montage circulaire. La polarisation de chacun des cristaux est marquée par les flèches 114 de la fiv.11 et choisie de manière à ce que l'application d'une tension à la bande métallique centrale 108 fasse déplacer la surface supé- rieure du dispositif à cristaux dans une direction générale tangentielle, comme ltindique la flèche 116 de la fig. 10. Donc, en orientant correctement les cristaux, on peut faire tourner l'anneau autour de son axe central en réponse à une tension de commande appliquée à chaque cristal par le conducteur 112. On a décrit ici un certain nombre de réalisations d'un procédé d'alignement angulaire pour appareil de projection électronique d'images qui sont compatibles d'un environnement sous vide poussé, sensiblement sans frottement et faciles à commander par un signal électrique. les différentes réalisations décrites ne nécessitent pas de différences de tension et en particulier pas de différences de tension variables, entre les parties de la structure, ce qui réduit au minimum l'influence électrostatique de la tension de commande sur l'image électronique. On peut naturellement réaliser un blindage électrostatique sans difficulté et réduire à des niveaux négligeables les effets électrostatiques de cette source sur l'image. Bien que l'on n'ait décrit et représenté que certaines réalisations de l'invention, en particulier, les spécialistes conviendront que l'on peut apporter différentes modifications de formes et de détails sans sortir de l'esprit ni de la portée de l'invention. REVE#DICÂTI0NS 1. Dispositif d'alignement angulaire pour installations électroniques de projection drimage caractérisé en ce qu'il est constitué par un premier dispositif supportant une photocathode; un second dispositif supportant un objet devant recevoir une image électronique, en position fonctionnelle par rapport à cette photocathode; plusieurs dispositifs piézoélectriques, attachés chacun, par leurs extrémités au second et au premier dispositifs et répondant à une tension de commande en se courbant sur leur longueur et en créant une rotation relative entre le premier et le second dispositifs. 2. Dispositif suivant la revendication i, caractérisé en ce que l'ensemble des appareils piézoélectriques est constitué d'une pluralité d'éléments piézoélectriques ayant une première et une seconde surfaces, chacun de ces éléments piézoélectriques étant fixé au premier dispositif, par la première surface, et au second dispositif par la seconde surface; les premières surfaces étant généralement réparties régulièrement autour de la circonférence d'un premier cercle, les secondes surfacès étant régulièrement réparties autour de la circonférence d'un second cercle, les premier et second cercles étant concentriques et les dispositifs piézoélectriques étant prévus pour déplacer la seconde surface par rapport à la première, dans une direction sensiblement tangente à la circonférence du second cercle. 3. Dispositif suivant la revendication 2, caractérisé en ce que les éléments piézoélectriques ont chacun, au moins, un contact électrique intermédiaire, cet élément électrique re- pondant à une tension de commande, appliquée entre les contacts électriques intermédiaires et ces premier et second dispositifs. 4. Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que le premier et le second dispositifs comprennent encore un dispositif de repérage permettant un alignement initial de la photocathode par rapport au premier dispositif et de l'objet par rapport au second dispositif. 5. Dispositif d'alignerent angulaire suivant la revendication I pour installations électroniques de projection d'image1 caractérisé en ce qu'une pluralité de dispositifs à cristaux piézoélectriques ayant chacun une paire de cristaux piéso- électriques, assemblés sur les faces opposées d'une première pièce conductrice, et ayant chacun, à la surface du cristal, une seconde pièce conductrice, qui est parallèle à la première et couvre la surface centrale de chaque cristal. 6. Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que chacun des dispositifs à cristaux a des premières et des secondes extrémités, et les cristaux, sensiblement parallèles, ont des premiers et seconde catés parallèles, ces cris- taux de chaque dispositif à cristaux étant assemblés, sur ces premiers cotés, aux c8tés opposés de cette première pièce conductrice, cette seconde pièce conductrice étant sur la seconde surface et s'étendant sur la zone centrale de la seconde surface, la première extrémité de chaque dispositif à cristaux étant mécaniquement reliée à une pièce, prévue pour recevoir un objet devant etre exposé à une image électronique, la seconde extrémité de ces dispositif s à cristaux étant mécaniquement reliée à une pièce prévue pour recevoir une photocathode; ces premières extrémités des dispositifs à cristaux étant sensiblement répar tiers,, régulièrement autour de la circonférence d'un second cercle concentrique au premier, ces dispositifs à cristaux étant prévus pour provoquer une rotation relative de la pièce prévue pour recevoir un objet par rapport à la pièce prévue pour recevoir une photocathode, en réponse aux tensions de commande appliquée8 entre la première pièce conductrice et la seconde pièce conductrice des dispositifs à cristaux qui font courber ces dispositifs à cristaux, sur leur longueur. 7. Dispositif suivant la revendication 6, caractérisé en ce que la première pièce conductrice est électriquement couplée à la pièce prévue pour recevoir un objet et à la pièce prévue pour recevoir une photocathode. 8. Dispositif suivant la revendication 7, caractérisé en ce que les secondes pièces conductrices sont électriquement couplées à une borne de manière à ce que l'on puisse appliquer une tension de commande entre cette borne et ces premières pièces conductrices pour provoquer une rotation relative contrôlée entre la pièce prévue pour recevoir un objet et la pièce prévue pour recevoir une photocathode. 9. Dispositif d'alignement angulaire suivant la revendication 1, pour installations électroniques de projection, caractérisé en ce qu'il est constitué par un premier dispositif destiné à supporter une photocathode; un second dispositif destiné à supporter un objet devant recevoir une image électronique, face à cette photocathode, le premier ou le second dispositif étant analogue à un anneau léger avec des dispositifs répartis sur un premier cercle, pour le fixer à un dispositif piézoélectrique symétrique; un dispositif de montage central, couplé à l'autre second ou premier dispositif, ce dispositif de montage ayant un second dispositif de fixation à un montage symétrique de dispositifs piézoélectriques, autour d'un second cercle de diamètre très petit par rapport au diamètre du premier cycle; et une pluralité de dispositifs piézoélectriques s'étendant chacun dans une direction généralement radiale, couplés entre le premier et le second dispositifs de montage pour former une disposition symétrique des dispositifs piézoélectriques supportant la première et la seconde pièce l'une par rapport à l'autre. 10. Dispositif suivant la revendication 9, caractérisé en ce que chaque dispositif piézoélectrique a une longueur radiale comprise entre les premières et secondes répartitions circulaires, qui dépasse l'épaisseur de ce dispositif piézoélectrique, chaque dispositif piézoélectrique comprenant des circuits dlapplication de tensions électriques pour courber chacun des dispositifs piézoélectriques dans des plans parallèles à cette pièce en forme d'aile.