Brevet FR2283544A1 — publié le 19760326

L'invention concerne un procédé pour la fabriration d'une cible qui est munie d'une mosaïque de régions discrètes en sulfate de triglycine polycristallin porte par une membrane. Llinvention concerne également une cible fabriquée de la sorte, ainsi qu'un tube dlimages d'enregistrement thermique muni d'une telle cible. La demande de brevet britannique N 12.333-74 dd- posée au nom de la Demanderesse décrit un tube d'enregistrement d'images thermiques qui est muni d'une cible comportant une membrane sur laquelle sont élaborées une couche en matériau électriquement conducteur ainsi qu'une marque de parties distinctes en sulfate de triglycine polycris tallin, lesdites couches dlectriquement conductrices pouvant etre situécs sur la même face ou sur les faces opposées de la membrane. L'invention fournit un procédé pour la fabrication d'une cible qui est munie d'une mosaïque de ragions discrètes en sulfate de triglycine polycristallin, le procédé pouvant être scindé en plusieurs opérations2 la préparation d'une membrane en matibre synthétique qui est munie d'un matériau structuré ou d'une couche uniforme de matriau géné- rateur uniforme (tel que défini ci-après), l'établissement du contact du matériau générateur en correspondance à la configuration de la mosaïque par une solution aqueuse de sulfate de triglycine, et l'élaboration d'une couche ininterrompue en matériau électriquement conducteur sur la membrane si le matériau générateur n'est pas de l'aluminium ou du titane ou si ledit matériau est formé par une couche structurée en aluminium ou en titane, De préférence, la couche est formée par une solution d'une natière synthétique, Le matériau générateur doit procurer une surface susceptible d'être humectée par la solution aqueuse de sulfate de tr5gly- cine, et favorise également la cristallisation de la solution aqueuse de sulfate de triglycine.Le matériau générateur est par exemple de l'aluminium, du titane, du carbone matte, du fluorure de magnésium, un alliage de In2O3 et de SnO2, de l'oxyde d'aluminium ou des produits au silicium. Dans le cas d'emploi d'une couche de matériau générateur uniformément répartie, la configuration désirée en matériau générateur qui doit être contacté par le sulfate de triglycine est définie à l'aide d'un photordsist, De préférence, l'épaisseur du matériau générateur est comprise entre 100 A et 500 A. La membrane est formée par exemple par une feuille en polyimide, ou une feuille en parylène (Parylène C ou Parylène N, fabriqué par la Firme Union Carbide C. ou encore par une feuille en poly acrylonitrile. Ce sont les feuilles en polyimide qui méritent la préférence, par suite de leur stabilité aux températures. La couche de matériau élec- triquement conducteur est par exemple de l'aluminium, du titane ou un alliage nickel-chrome, et sa mise en place a lieu par dépôt par évaporation. La description suivante, en regard des dessins annexés, le tout donné à titre d'exemple, fera bien comprendre comment l'invention peut être réalisée. Les figures la à id illustrent quatre stades durant la fabrication d'une cible telle que décrite dans l'exemple 1 ci-après. Les figures 2a à 2d illustrent quatre stades de la fabrication d'une cible telle que décrite dans l'exemple 2 ci-après. PREMIER EXEMPLE. Une plaquette en verre 1, servant à obturer un microscope (et présentant une épaisseur de 0,1 mm et un diamètre de 19 mm), est recouverte, par dépit par évaporation, d'une couche de fluorure de magnésium dont l'épaisseur est égale à 200 . (figure la). La préparation d'une solution de résine de. polyimide résulte du mélange volumétrique de 2% de laque de fil PYRE M.L. (marque Du Pont Co), et 1% de N-méthyl-2-pyrrolidone. Sur ladite plaquette 1, on place une goutte de la solution en question, et du fait d'imposer à la plaquette durant 1 minute une rotation rapide dans l'air à la température ambiante, la goutte de solution devient une couche sur la plaquette.Du fait d'imposer à l'ensemble une vitesse de rotation 6000 tours à la minute sous un casque sèche-cheveux, la plaquette avec sa couche ont été séchées en une minute en présence d'une température maximale de 700C. La couche à l'état sec, cette couche ayant comme épaisseur une o o valeur comprise entre 1000 A et 1500 , a été durcie du fait d'entre séchée dans l'air durant une demi-heure à la température de 300oC. Un anneau 4 en acier inoxydable, l'épaisseur de l'an- neau étant 0,5 mm et son diamètre étant 19 mm, a été amené à adhérer à la couche de résine 3- à l'aide d'une colle à base dé résine, connue sous le nom ARALDYTE. Par sqépSt par évaporation, on a formé sur la couche de résine 3 une couche 5 constituant une électrode d'aluminium et présentant une épaisseur de 300 , ensuite, l'espace enfermé par l'anneau 4 a été rempli d'une couche 6 en photorésist de la marque Shipley AZ 135OH ; ce photorésist a été séché ensuite. En-suite, la plaque 6 a été éloignée soignéusement de l'ensemble par immersion du verre dans une solution aqueuse contenant en volume 40% d'acide fluorhydrique.La couche de fluorure de magnésium 2 a été lavée à liteau, séchée, et ensuite munie d'une couche 7 en photorésist Shipley AZ 1350H, l'épaisseur de ce photorésint étant #/u La couche 7 a été séchée, et enduite soumise au rayonnement ultraviolet dans le but dtob- tenir, après développement, une ctnfiguration formée par une trame de li- zones à épaisseur de 2/u qui constituent des séparations entre des carrés appartenant à la couche de fluorure de magnésium et mesurant 25yi x x 25/u. La couche de photoresist mise ainsi à découvert a été développée & l'aide d'un révélateur Shipley agissant sur le photorésint AZ 1350H. On a formé une solution aqueuse de sulfate de tryglycine en dissolvant 40 g de sulfate de tryglycine dans 100 ml d'eau ionisée. Une goutte de cette solution a été élaborée sur la couche en fluorure de magnésium 2 et sur ce qui subsiste de la couche de photorésist 7. Durant 30 secondes, on a fait tourner l'ensemble à une vitesse de 1500 tours à la minute sous un casque sèche-cheveux, et cela à la tespérature maximale de 70 C dans le but de disperser la solution de sulfate de tryglycine pardessus les carrés découverts de la couohe 2 sur laquelle sont formées des parties carrées 8 en sulfate de tryglycine polyori- tallin. La souche de photorésist 6 et les parties subsistantes de la couche 7 ont été éloignées en lavant l'ensemble dans une solution saturée de sulfate de tryglycine dans l'acétone. Cette solution saturée a été utilisée en lieu et en place de l'acétone dans le but d'éviter que le mosaïque de sulfate de tryglycine soit dissoute dans une certaine mesure par l'eau présente dans l'acétone. DEUXIEME EXEMPLE. Une plaquette en verre 1 devant obturer un microscope est revêtue. d'une couche durcie 3 (figure 2a) en résine de polyimide en correspondance à l'exemple 1, l'épáisseur de la couche 3 étant comprise entre 1000 Â et 1500 A. Un anneau en acier inorydable 4 dont l'épaisseur est égale à 0,5 m et dont le diamètre atteint 19 mm a été amené à s'adhérer à la couche 3 à l'aide d'ARALDYTE (nom de marque). L'espace enfermé par l'anneau 4 a été rempli d'une couche 6 en photorésist de la marque shipley AZ 1 350H, la couche 6 étant ensuite séchée. Puis, la plaquette 1 a été éloignée soigneusement hors de l'ensemble par immersion du verre dans une solution aqueuse contenant en volume 40% 0% d'acide fluorhydrique. L'ensemble obtenu de la sorte a été lave et séché, après quoi a été déposée par évaporation -sur la surface de la couche 3 une couche d'aluminium 5 dont l'épaisseur est égale à 500 . Une couche 7 en photorésist Shipley ÂZ 1350H présentant une épaisseur de 5/u a été élaborée sur la couche d'aluminium 5. Ensuite, cette couche 5 a été séchée et puis soumise à l'influence d'une lumière ultra-violette dans le but de fournir, après ddveloppement, une configuration d'une trame formée par des lignes ayant une épaisseur de 2/u qui constituent la séparation entre des carrés mesurant 25/u x 25/u La couche de photorésist ainsi dénudée a été développée à l'aide d'un révélateur Shipley agissant sur le photorésist Shipley ZA 135OH. Comme spécifié déjà dans l'exemple 1, on posé une goutte de la solution aqueuse de sulfate de tryglycine sur la couche d'aluminium 5 sur ce qui subsiste de la couche de photorésist 7. Durant 30 secondes sous un casque sèche-cheveux, l'ensemble a été amené à tourner à une vitesse de 1500 tours à la minute, ce qui a donné lieu à l'obtention d'une température maximale de 700C, dans le but détaler la solution de sulfate de tryglycine sur les carrés dénudés de la couche d'aluminium 5 sur laquelle se forment les parties carrées 8 en sulfate de tryglyciné polycristallin. La couche de photorésist 6 et les parties subsistantes de la couche de photorésist 7 ont été éloignées du fait de laver l'ensemble dans une solution saturée de sulfate de tryglycine dans l'acetone. Dans le cas de cette cible, la couche d'aluminium 5 fait office de couche-4lectrode. REVENDICATIONS: 1. Procédé pour la fabrication d'une cible qui est munie d'une mosaSque de régions discrètes en sulfate de tryglycine polycristallin portée par une membrane, caractérisé en ce qu'une solution aqueuse de sulfate de tryglycine est portée en contact avec une surface d'une couche de matdriau générateur sur le membrane, -.ladite surface étant munie d'une configuratioei pour la formation de la configuration désirée constituant une marque, 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de matériau générateur est ininterrompue, ladite surface étant revêtue en partie d'un autre matdriau qui forme la configu- ration désirée constituant mosaïque. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé eWn ce que ledit autre matériau est un photorésist. 4. Procédé selon la revendication 2 ou 3, caracté- risé en ce que ledit autre matériau est ensuite éloignée dans le but de former des fentes entre des parties voisines en sulfate de tryglycine. 5. Procédé selon l'une des revendications 2, 3 et 4, caractérisé en ce que la couche de matériau générateur est électriquement conductrice. 6. Matériau selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de matériau générateur comporte des parties discrètes qui dans ladite configuration sont formées dans le but d'obtenir la mosaïque désirée. 7. Procédé selon alune des revendications 2, 3 et 4 ou selon la revendication 6, caractérisé en ce que la couche de matériau générateur ne constitue pas de couche électriquement conductrice ininterrompu, alors que la membrane est munie d'une couche ininterronpue en matériau électriquement conducteur élabore sur un plan situé en regard du plan qui porte la couche de matériau générateur, 8. Procédé selon l'tune des revendicatione 1 a 7, caractérisé en ce que la membrane en matière synthétique est forme sur une surface dlun premier support immobile qui est éloigne avant la formation de la mosaSque en sulfate de tryglycine. 9. Procédé selon la revendication 7 ou 8, caractérise en ce que dans le but de séparer la membrane et le support, on utilise une couche de matdriau générateur. 10. Tube d'enregistrement d'images thermiques, caractérisé en ce qu'il est fabrique suivant la mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 1 à 9.