Brevet FR2162565A1 — publié le 19730720

La présente invention concerne une nouvelle matière formatrice d'images et un procédé de production d'une image ; elle a trait, notamment, à une nouvelle matière et à un procédé pour fabriquer des microformes, telles que microfilms et microfiches. Pour fabriquer des images comme des microformes, on prévoit habituellement une couche d'une matière sensible à la lumière sur un substrat. Après exposition et développement, l'image est formée dans la couche de la matière sensible à la lumière. Pour le contraste, la couche doit être opaque ou une matière opaque, comme de 1' argent, est précipdssb danss la couche ou 1' opa- cité est obtenue en incorporant une teinture, par exemple, par l'utilisation de couples de teinture, etc. Le degré d'opacité obtenu par ces procédés est limité. Il existe une limite sévère, notamment dans les microformes, où, en raison du besoin d'agrandissement considérable dans la lecture, le meilleur contraste possible est nécessaire. En outre, les procédés de la technique antérieure pour fabriquer des microformes nécessitent habituellement des temps de développement assez longs, ce qui constitue un handicap sérieux quand de grandes quantités de microformes doivent autre produites en séries, par exemple dans une machine continue.Le stade de développement prenant du temps et comple x et habituellement une opération de fixation accompagnante nécessitent un appareillage complexe et brès coûteux pour la production en séries de microformes. L'invention crée une nouvelle matière formatrice d'images qui fournit un contraste plus élevé, une excellente résolution et qui peut être traitée d'une façon plus simple en rendant possible une production en séries de microformes de plus grande. qualité dans un appareillage simple et peu coûteux. Les matières formatrices d'images de l'invention comprenent une couche d'une matière sensible à l'énergie qui est capable d'strie modifiée par l'application d'énergLe ettre deux états. Dans un de ces états, la matière est facilement soluble dans un solvant donné tandis qu'elle est insoluble ou d'une plus faible solubilité dans le même solvant quand elle est dans l'autre état. La structure de l'invention comprend, en outre, une couche qui renferme une matière formatrice d'images qui est soluble dans un solvant qui dissout la matière sensible à l'énergie dans 1'état de plus grande solubilité. En général, les couches sont comprises sur un substrat de manière que la couche comprenant la matière formatrice d'images soit proche du substrat et que la couche comprenant la matière sensible à l'énergie se trouve sur le dessus. Des couches intermédiaire d'autres matières peuvent être disposées entre la couche de dessus comprenant la matière sensible à l'énergie et la couche comprenant la matière formatrice d'images et/ou entre cette dernière couche et le substrat si un tel substrat est présent. Ies couches comprenant la matière sensible à L'énergie et la matière formatrice d'images peuvent être constituées entièrement à partir des matières respectives ou elles peuvent renfermer ces matières en mélange avec n'importe quelle autre matière désirée comme un liant, une charge, un réactif, etc. te terme insoluble, tel qu'il est utilisé dans l'invention, signifie que la matière sensible à l'énergie est moins soluble dans un solvant donné que si elle est#dans l'état où elle est soluble. Ce terme concerne, par conséquent, une relation de solubilité signifiant que la matière se dissout à une vitesse plus lente que si elle est dans l'état soluble où elle se dissout a' une plus grande vitesse. Cependat, ceci n'exclut pas la possibilité que la matière puisse, en fait, ne pas se dissoudre dans un solvant donné quand elle est dans l'état insoluble. La présente invention se rapporte également à un procédé de production d'une image dans lequel la matière du type mentionné plus haut est soumise comme une image à de l'énergie, afin de modifier les zones dans la couche de dessus pour qu'une image latente soit formée dans la couche supérieure de la matière sensible à l'énergie qui est constituée de parties ou zones de matière qui est soluble dans un solvant donné et d'autres zones ou parties d'une matière qui est insoluble ou qui, comme indiqué plus haut, se dissout à une plus faible vitesse, La matière est ensuite traitée avec un solvant qui dissout tant la matière sensible à l'énergie dans les zones solubles que la matière formatrice d'images se trouvant sous les zones solubles de la matière sensible à l'énergie.De cette façon, on forme une image qui se compose de la matière formatrice d'images recouverte par la matière sensible à l'énergie dans les zones où cette dernière était dans un état d'insolubilité et aucune matière formatrice d'images ainsi qu'aucune matière sensible à l'énergie dans les zones où cette dernière matière est dans l'état de solubilité. De cette façon, on obtient un contraste très élevé. Si on le désire, les parties de la matière sensible à l'énergie insoluble restant sur la matière formatrice d'images peuvent entre retirées subséquemment par exemple en frottant ou en utilisant un solvant différent. Cependant, en général, il n'est pas nécessaire d'éliminer les parties insolubles de la matière sensible à l'énergie car, habituellement, elles n'interfèrent pas avec la lecture ou l'utilisation de l'image. La structure et le procédé de l'invention peuvent être employés pour produire des images de tous types telles que celles lues par les yeux ainsi que celles lues par un appareillage de lecture physique ou mécanique comme les appareillages utilisant la réflexion ou la radiation de la lumière, la conductibilité électrique, des propriétés magnétiques et analogues ainsi que des dispositifs pour lire des images. On obtient de grands avantages avec l'invention lors de l'utilisation de la structure et du procédé pour la production de microformes comme des microfilms, des microfiches,etc.... Â titre d'exemple, en employant comme matière sensible à 1'é- nergie un produit de condensation de poids moléculaire élevé soluble dans l'eau, de composés diaxoîques ou azoSques appropriés et comme matière formatrice. d'images, du tellure , du molybdène, une composition appropriée contenant du talure ou du molybdène comme composé formateur d'images, des durées de développement, c'est-à-dire les durées nécessaires pour la dissolution des deux couches, aussi brèves qu'une seconde et demie ou mpins, peuvent être facilement obtenues. En utilisant des sources de lumière de dimension correspondante pour l'exposition, on peut obtenir des durées de cycle d'une seconde et demie ou moins pour les microfiches. Etant donné qu'après l'exposition, seule une opération de formation d'images humides brève est nécessaire et que l'on n'a pas besoin de durée de séchage longue, la fabrication de microfiches peut être obtenue à des vitesses de production élevées dans un appareil simple et peu coûteux Si la matière et le procédé de l'invention sont employés. Les microformes produites à partir des matières et du procédé de l'invention ont un contraste plus intense que celui obtenu avec les autres matières classiques utilisées. Elles fournissent également une résolution très excellente et dans certains cas même une augmentation de la netteté et de la résolution par rapport à l'original comme expliqué ci-après. Les matières de l'invention ont un gamma très élevé et dépassent sous ce rapport les meilleurs matières disponibles à base d'halogénure d'argent. L'invention est représentée, à titre d'exemple non limitatif, aux dessins annexés. La fig. 1 est une coupe transversale partielle schématique de la matière ou structure de l'invention qui est soumise à un rayonnement électromagnétique à travers un cache. La fig. 2 est une représentation analogue à la fig.1 montrant le cacheretiré et la couche de dessus modifiée par le rayonnement. La fig. 3 est une représentation analogue à la fig. 2 montrant la structure après le traitement avec un solvant. La fig. 4 représente une autre matière de l'invention dans laquelle on prévoit une couche intermédiaire entre la couche sensible à l'énergie et la couche formatrice d'images. Les fig. 5 et 6 sont des représentations montrant un caractère dans l'original (fig.5) ayant des zones marginales grises et sa copie (fig, 6) ayant une ligne de séparation nette entre le noir et le blanc sur une matière formatrice d'images de l'invention. La fig. 7 est un diagramme illustrant la représentation graphique des fig. 5 et 6, dans cette figure on a porté en abcisse la coupe transversale désignée par CT et en ordonnée la densité désignée par D. ta fig. 8 est une représentation schématique d'une structure dans laquelle en retirant une partie d'épaulement correspondant à la zone de gris de l'original,' on obtient une image nette à résolution élevée La fig. 9 représente une coupe transversale d'une autre matière de l'invention dans laquelle on prévoit une couche métallique en plus de la couche formatrice d'images pour la production d'un cache métallique. Aux dessins annexés, la matière formatrice d'images 10 de la fig. 1 comprend un substrat 12 qui peut 8trie, par exemple, du Mylar. Sur le substrat 12 se trouve une couche 14 d'une matière formatrice d'images comme du tellure. Sur la couche 14, on dispose une couche 16 d'une matière sensible à l'énergie comme la matière "Diazo Rebin n0 4" fabriquée et vendue par Fairmount Chemical Company. Cette matière est un produit de condensation de poids molé#ulaire élevé d'un composé diazoSque et est soluble dans l'eau. Elle peut être appliquée sous la forme d'une solution aqueuse répandue sur la couche de tellure 14, par exemple, par l'utilisation d'un dispositif de revêtement au rouleau.Après séchage, le revêtement de la matière est prêt pour la formation d'images. On a représenté un cache 18 placé sur le dessus de la matière 10. Le cache comprend une zone opaque 20 et des zones transmettant la lumière 22. Un rayonnement e#lectromagnétique 24, comme l'éclair d'un canon à éclair électronique au xénon, est représenté comme tombant sur le cache 18 et à travers les zones transparentes 22 du cache 18 sur la couche 16 de la Diazo Resin n0 4. Dans les zones 26 se trouvant sous les zones transparentes 22 du cache, la résine qui est à l'origine soluble dans l'eau libère de l'azote sous l'effet du rayonnement 24 et devient insoluble pour former une résine qui ne se dissout pas dans l'eau. Dans la zone 28 qui nta pas été exposée au rayonnement 24, la Diazo Resin reste soluble dans l'eau. La structure ainsi modifiée est représentée à la fig. 2 avec le cache retiré.Quand la structure illustrée à la fig. 2 est plongée dans une solution diluée d'hypochlorite de sodium aqueuse, la Diazo Resin n0 4 dans la zone 28 se dissout immédiatement ainsi que le tellure dans la zone 30 sous la zone 28. La Diazo Resin dans la zone 26 qui est devenue, comme résultat du rayonnement, insoluble dans l'eau n'est pas dissoute. De mime, le tellure dans les zones 32 sous les zones 26 n'est pas dissous. Par conséquent, une image est formée par le tellure opaque dans la zone 32 et la zone 34 où tout le tellure et la résine Diazo Resin ont été retirés du substrat 12. Quand le substrat est, par exemple, du Mylar, la zone 34 est transparente et les zones 32 se composant de tellure sont fortement opaques de sorte qu'une image à contraste élevé est formée. Le solvant utilisé dans l'exemple précédent du procédé de l'invention est une solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium. La phase aqueusedans ce solvant dissout les parties solubles dans l'eau de la Diazo Resin n0 4 comme décrit. La présence de faibles quantité d'hypochlorite de sodium a l'effet de dissoudre le tellure presque instantanément. il est surpre nant et inattendu que le solvant constitué d'hypochlorite de sodium dissout le tellure déposé sous la forme d'une couche. Une solution d'hypochlorite de sodium aqueuse ne dissout pas, en général, le tellure sous la forme de granules ou de petites particules. D'un autre côté, le même solvant dissout facilement le tellure si il est déposé sous la forme d'une mince pellicule comme il peut être employé en tant que matière formatrice d'images dans l'invention' Le tellure est soluble dans la solution aqueuse d'hypochlorite de sodium peu impprte qu'il soit déposé par des techniques d'évaporation sous vide ou par des techniques de projection. La capacité du solvant de la solution aqueuse d'hypochlorite de sodium par le tellure s'étend sur une gamme étendue de concentration. Ainsi, à titre d'exemple, la solution aqueuse d'hypochlorite de sodium de force totale obtenue comme réactif à partir de la Sté Baker Chemicals Company ayant une concentration de 6,9 % en poids constitue un excellent solvant pour la couche de tellure déposée. Le même réactif dilué à, par exemple, 10 % ou même 1 % de sa force, constitue néanmoins un bon solvant pour les minces couches de tellure déposées. On observe des solubilités analogues avec des solutions aqueuses d'hypochlorites autres que l'hypochlorite de sodium. Ce phénomène intéressant est observé non seulement avec les couches de tellure dpposées, mais, en général, également avec des couches qui contiennent du tellure en tant que composé majeur sous une forme de mélanges ou d'alliages. En général, le tellure doit constituer au moins 50 % de la composition bien que quelquefois, le phénomène de solubilité mentionné plus haut peut également être observé avec des matières qui contiennent moins de 50 yO de tellure.Des matières convenables à base de tellure qui peuvent être dissoutes dans des solutions aqueuses d'hypoclslorite, lorsquLles sont déposées sous la forme de pellicules, peuvent être rencontrées parmi les matières à mémoire contenant du tellure décrites, par exemple, dans les brevets américains n0 3 271 591 et 3 530 441. Ces matières à base de tellure comprennent les compositions vitreuses qui contiennent, en plus d'une proportion majeure de tellure, également un ou plusieurs autres éléments à condition que ces éléments ne forment pas un sel ou analogue avec le tellure. Bes compositions de tellure typiques, qui montrent le phénomène de solubilité mentionné ci-dessus, sont représentées, par exemple, par une composition renfermant 81 parties atomiques de tellure, 15 parties atomiques de germanium, 2 parties atomiques d'antimoine et 2 parties atomiques de soufre, une composition renfermant 92, 5 parties atomiques de tellure, 2,5 parties atomiques de germanium, 2, 5 parties atomiques de silicium et 2,5 parties atomiques d'arsenic, une composition renfermant 90 parties atomiques de tellure, 5 parties atomiques de germanium, 3 parties atomiques de silicium et 2 parties atomiques d'antimoine, une composition renfermant 85 parties atomiques de tellure, 10 parties atomiques de germanium et 5 parties atomiques de bismuth,une composition renfermant 85 parties atomiques de tellure, 10 parties atomiques de germanium, 2,5 parties atomiques d'indium et 2,5 parties atomiques de gallium, une composition renfermant 85 parties atomiques de tellure, 10 parties atomiques de silicium, 4 parties atomiques de bismuth et 1 partie atomique de thallium, une composition renfermant 80 parties atomiques de tellure, 14 parties atomiques de germanium, 2 parties atomiques de bismuth, 2 parties atomiques d'indium et 2 parties atomiques de soufre, une composition renfermant 70 parties atomiques de tellure, 10 parties atomiques d'arsenic, 10 parties atomiques de germanium et 10 parties atomiques d'antimoine, une composition renfermant 60 parties atomiques de tellure, 20 parties atomiques de germanium, 10 parties atomiques de sélénium et 10 parties atomiques de soufre, une composition renfermant 60 parties atomiques de tellure, 20 parties atomiques de germanium et 20 parties atomiques de sélénium, une composition renfermant 60 parties atomiques de tellure, 20 parties atomiques d'arsenic, 10 parties atomiques de germanium et 10 parties atomiques de gallium, une composition renfermant 81 parties atomiques de tellure, 15 parties atomiques de germanium, 2 parties atomiques de soufre et 2 parties atomiques d'indium ainsi que de nombreuses autres compositions Les matières à mémoire utiles dans l'invention et les compositions à base de tellure, mentionnées plus haut comme étant solubles dans les solutions eeiueuses d'hypochlorites très diluées quand elles sont déposées sous la forme de pellicules, sont toutes très appropriées en taht que matière formatrice d'images dans les structures de l'invention. Les solutions très diluées d'hypochlorites nécessaires pour la dissolution des matières formatrices d'images de l'invention, contenant du tellure, ne sont pas toxiques ni nuisibles lors de l#lisation. En raison de leur manque de toxicité, elles sont presque aussi idéales que de l'eau cependant les matières formatrices d'images contenant du tellure ne se dissolvent pas dans l'eau avec laquelle les images peuvent être mises en contact lors de l'utilisation ou du stockage. Les matières contenant du tellure constituant, par conséquent, une matière formatrice d'images idéale qui est bien supérieure sous ce rapport à la plupart des autres matières formatrices d'images qui, souvent, sont sensibles à l'eau ou, Si elles ne le sont pas, nécessitent pour leur développement des solvants organiques ou minéraux toxiques. Un autre grand avantage de ces matières de formation d'images contenant du tellure et en particulier le tellure lui-m#me, réside en ce qu'elles forment même comme une pellicule extrêmement mince une couche de grande opacité.De cette façon, on peut obtenir un contraste supérieur au contraste usuel avec un plus faible prix. On peut également avoir de bons effets analogues avec le germanium et les compositions contenant du germanium. De nombreux métaux fournissent également une forte opacité sous la forme de pellicule. Toutefois, ces métaux ne sont pas, en général, appropriés en tant que matières formatrices d'images pour l'usage général par le public car ils nécessitent habituellement des acides ou d'autres solvants toxiques pour la formation d'images par les techniques de dissolution photorésistante. Naturellement, les matières formatrices d'images de l'invention comprennent tous ceux des métaux qui peuvent etre facilement dissous dans un solvant non toxique qui est également un solvant pour les parties solubles de la matière sensible à énergie utilisée dans un système particulier. Un tel métal se révélant être satisfaisant pour être utilisé conformément à l'invention, réside dans une mince péllicule de molybdène . Les solutions d'hypochlorite de sodium de la force mentionnée plus haut, agissent bien sur le molybdène qui a de bonnes caractéristiques optiques comme une forte opacité. Les matières formatrices d'images utiles dans l'invention peuvent également autre n'importe lesquelles des autres matières minérales, organiques, métallo-organiques ou élémento- organiques qui sont capables d'entre amenées sous la forme d'une mince couche qui ont une caractéristique de formation d'images et qui sont capables d'être dissoutes dans un solvant qui dissout également ces portions de la matière sensible à l'énergie qui ont la plus grande solubilité. Pour la production d'images détectables visuellement par le procédé de l'invention, la caractéristique de formation d'images désirée d'une matière formatrice d'images est l'opacité dans le cas de la projection ou de la réflexion de la transmission, la diffusion ou analogue dans le cas de la projection par réflexion.c Pour le meilleur contraste élevé, on choisit dans le cas d'une projection par transmission un substrat transparent ou translucide comme du verre ou de la matière plastique comprenant de l'acétate de cellulose.Dans le cas de la projection par réflexion, on choisituesi nftertAquedu que du papier légèrement coloré, du carton, de la matière plastique et analogue, Avec un choix convenable des caractéristiques du substrat et des caractéristiques de formation d'images de la matière formatrice d'images, on peut produire des images ayant un grand contraste et une grande distinction. D'autres matières formatrices d'images peuvent être utilisées qui fournissent comme caractéristiques d'autres propriétés telles que des propriétés magnétiques, électriques ou d'autres propriétés physiques. En dissolvant la matière dans certaines zones et en ne la dissolvant pas dans d'autres zones, on forme une image ou enregistrement distinct avec n'importe lesquelles de ces matières ayant des caractéristiques décelables distinctes. Comice mentionné plus haut, le seul critère pour le choix d'une matière formatrice d'images appropriée suivant 11 invention est qu'elle soit soluble dans un solvant qui dissout les parties de la matière sensible à l'*- nergie ayant la plus grande solubilité. il y a un large choix pour la matière sensible à l'énergie dans la couche supérieure. il peut s'agit d'une matière qui modifie ses caractéristiques de solubilité lors de l'application d'énergie de n'importe quel type désiré. L'énergie peut être un rayonnement électromagnétique comme un rayonnement actinique, de l'énergie électrique, de l'énergie de particules ou de l'énergie mécanique. il est important que la matière modifie ses caractéristiques de solubilité sous l'effet de l'énergie. La matière sensible à l'énergie peut être soluble sous une forme suivant laquelle elle est appliquée dans la couche en devenant insoluble ou moins soluble dans un solvant donné qui est capable de dissoudre la matière originelle. il peut également s'agir d'une matière qui est insoluble dans un solvant donné comme de l'eau quand elle est appliquée dans la couche et qui devient soluble lors de l'application d'énergie, par exemple, dans l'eau. Les termes soluble et insoluble ou moins soluble tels qu'ils sont utilisés dans l'invention sont des termes relatifs et doivent être appliqués à un seul et même solvant . Il est possible qu'une matière sensible à l'énergie soit soluble dans un solvant organique mais insoluble dans l'eau. Elle peut donc être appliquée sous la forme d'une solution dans un solvant organique qui est ensuite évaporé pour former la couche de dessus sèche. Après application de l'énergie formatrice d'images, les parties de la matière sensible à l'énergie qui ont été soumises à l'énergie peuvent devenir solubles dans l'eau, par exemple, par une modification physique de la matière ou par l'apparition d'une réaction chimique sous les effets de 1 'éner- gie.Dans ce cas, les parties de la matière qui ont été soumises à l'énergie sont dissoutes quand de l'eau ou une solution aqueuse est appliquée tandis que les parties de la matière qui sont restées dans leur état original ne sont pas dissoutes dans l'eau m#me si la matière est soluble dans un solvant organique. La matière sensible à l'énergie peut être minérale ou organique. En général, on préfère les matières organiques en raison du plus grand choix fourni par ces matières, la possibilité d'adaptation des caractéristiques de solubilité aux besoins en solvant pour une matière formatrice d'images choisie et la possibilité d'adapter la sensibilité:#'énergie à une situation donnée. On préfère les matières sensibles à l'énergie qui sont solubles dans l'eau ou dans un solvant ou fluide aqueux non toxique ou qui le deviennent sous l'effet de l'énergie de formation d'images. On peut citer, à titre d'exemple, comme composés très appropriés certains diazorques, certains composés azido aromatiques, des quinone-diazides et des produits analogues, notamment les produits de condensation de poids moléculaire élevvé de ces composés azotés. Ces composés peuvent être des compo sés obtenus par condensation des composés d'azote respectifs. Comme exemples de produits de condensation de poids moléculaire élevé solubles dans l'eau, on peut citer les produits de condensation de composés diazotés du type diphénylamine avec du formaldéhyde ou d'autres agents de condensation analogues ayant un radical carbonyle actif dans leur molécule. Ces composés sont solubles dans l'eau et libèrent, sous l'effet du rayonnement électrDmagnétique, de l'azote pour former un produit résineux insoluble dans l'eau analogue à de la bakélite. Ces composés sont habituellement des sels de diazonium de poids molécuLaire élevé dans lesquels les seules molécules du composé diazoSque sont reliées par des ponts méthylène ou des ponts organiques analogues.D'autres matières de poids moléculaire élevé sensibles à l'énergie utiles dans la structure de l'invention peuvent etre obtenues en condensant divers composés azido ou des composés quinone-azido. On peut obtenir d'autres matières sensibles à l'énergie de poids moléculaire élevé en reliant, par exemple, à l'aide de chlorure d'acide cyanurique un composé amino-diazonium à un composé macromoléculaire comme la cellulose, la caséine, l'alcool polyvinylique et analogue. Ces composés sensibles à l'énergie de poids moléculaire élevé peuvent constituer la couche de dessus respective dans lastructure de l'invention ou ils peuvent être présents en mélange avec un autre collorde organique. Comme exemple de sel de diazonium, qui peut être utilisé dans la structure de l'invention sous la forme d'un condensat de formaldéhyde, on peut citer, à titre d'exemple, le chlorure de 2-diazo-1-naphtol-5-sulfonyle. Des produits disponibles dans le commerce, qui peuvent être employés avantageusement en tant que matière sensible i l'énergie dans la structure de l'invention, sont représentés, par exemple, par Xe produit fabriqué et vendu sous le nom de "Redi-cote" par Lithoplate, Inc. et le produit mentionné plus haut Diazo Resin n0 4 fabriqué et vendu par Fairmount Chemical Company. D'autres matières sensibles à l'énergie, qui peuvent être utilisées avantageusement dans la structure et le procédé de l'invention, comprennent les matières constituées de monomères polymérisables, notamment de monomères à insaturation éthylénique en combinaison avec des sstèmes de catalyseurs pouvant être activés par de l'énergie, notamment par un rayonnement actinique. Dans les zones où le rayonnement actinique frappe le mélange de monomères-, une polymérisation apparaît spontanément et un polymère qui est insoluble est formé. Le mélange de monomères dans les zones où le rayonnement actinique n'a pas frappé reste sous sa forme monomère soluble et peut être facilement dissous conformément au procédé de l'invention. Souvent, de l'eau, un alcali aqueux faible ou analogue peuvent être employés pour l'opération de dissolution. En utilisant comme matière formatrice d'images, par exemple, une matière opaque qui est soluble dans le même solvant que le mélange de monomère, on obtient instantanément également avec ces matières une image distincte de fort contraste. D'autres matières sensibles à l'énergie appropriées utiles dans la structure et dans le procédé de l'invention comprennent des colloïdes au bichromate de divers types. De nombreux composés insaturés sensibles à la lumière comme les divers composés de stilbène qui modifient leurs caractéristiques de solubilité lors de l'exposition à un rayonnement actinique ainsi que diverses autres matières qui modifient leurs caractéristiques de solubilité lors de l'exposition à de l'énergie peuvent également être employées en tant que matières sensibles à l'énergie dans la structure de l'invention. Dans le procédé d'application, la matière à mémoire joue le rôle de la matière sensible à l'énergie ainsi que de matière formatrice d'images. Conformément au procédé d'application de l'invention, ces matières sont utilisées comme matières sensibles à l'énergie seulement et en combinaison avec une couche séparée contenant une matière formatrice d'images. Etant donné qu'on-n'utilise pas de fluides d'attaque durs dans le procédé de l'invention, la matière sensible à l'énergie nta pas besoin de présenter les propriétés généralement désirées dans une matière photorésistante ou photorésist. On a seulement besoin qu'elle modifie ses caractéristiques de solu bilié lors de l'application d'énergie. Quand le solvant est appliqué par la suite, il dissout rapidement la partie plus soluble de la matière sensible à l'énergie et la partie sous-jacente de la matière formatrice d'images. Ceci constitue une différence importante du procédé de l'invention par rapport aux procédés de la technique antérieure. En raison de cette différence, de nombreuses matières sensibles à l'énergie peuvent être employées dans la structure et le procédé de l'invention qui ne seraient pas normalement autrement appropriées en tant que matièresphotorésistantes dans les travaux classiques utilisant des photorésiats. Des photorésists classiques sont, pour les raisons indiquées ci-dessus, habituellement des matières dans lesquelles les zones d'images sont solubles dans un solvant organique. Habituel- lement, l'opération de dissolution est lente et prend un temps relativement long. Les photorésista classiques, qui sont généralement utilisés seulement pour la fabrication de plaques d'impression, de circuits imprimés et pour la fabrication de caches sur du verre, ont l'avantage que le solvant organique utilisé pour le développement du photorésist attaque également la plupart des matières plastiques qui sont habituellement utilisées ou souhaitables en tant que substrats dans la formation d'images à projection ou de microformes comme des microfilms ou des microfiches.Les photorésists classiques sont donc limités dans leur application à la fabrication de microformes. Ces problèmes n'existent pas naturellement avec la structure de l'invention qui emploie comme milieu aqueux le solvant pour le développement de l'image latente. Pour la facilité d'application, on préfère en général, que la matière sensible à l'énergie telle qu'elle est appliquée à sa couche respective soit soluble dans un solvant qui, de préférence, n'est pas un solvant pour la matière formatrice d'images sous jacente. Cette exigence est totalement satisfaite dans le cas indiqué plus haut dans lequel la matière sensible à énergie est soluble dans un solvant organique et devient soluble dans l'eau lors de l'application de l'énergie de formation d'images. Ce besoin est également satisfait dans l'exemple précité d'une matière formatrice d'images contenant du tellure en combinaison avec les produits de condensation de diazonium solubles dans l'eau. L'eau utilisée comme solvant pour l'application de ces derniers produits de condensation n'affecte pas la couche conte:- nant du tellure tandis que la solution aqueuse d'hypochlorfle appliquée dans ltopération de développement dissout tant le produit de condensation de diazonium soluble dans l'eau inchangé que le tellure ou la composition de tellure se trouvant sous ce produit.Si on désire appliquer la couche de la matière sensible à l'énergie sous la forme d'une solution dans un solvant qui affecterait normalement la couche de la matière formatrice d'images, il est également possible d'appliquer une mince couche intermédiaire comme décrit ci-après dans un autre mode de réalisation de la structure de l'invention. Un autre facteur à considérer réside naturellement en ce que la matière sensible à l'énergie et la matière formatrice d'images doivent autre chi̲ses afin d'être mutuellement compatibles. Lesoels de diazonium et les autres composés d'azote sensibles à la lumière du type diazo, azido ou azide réagissent souvent avec une couche métallique lorsqu'ils sont déposés sur celle-ci pour devenir inefficaces et détruits après une brève durée. Le tellure, les compositions de tellure et les autres matières formatrices d'images utilisées dans les structures de l'invention n'ont pas habituellement cet effet et présentent une longue durée de conservation en mdBtenant leur efficacité et leur fonctionnement pendant de longues périodes de temps. Avec d'autres matières formatrices d'images, on peut choisir à partir du grand nombre de matières possibles sensibles à l'énergie celles qui ne sont pas affectées par la matière formatrice d'images ou seulement très peu affectées par celle-ci et qui ne réagissent pas ou peu les unes avec les autres. Un grand avantage de la structure et du procédé de l'invention réside en ce qué les couches de la matière formatrice d'images et de la matière sensible à l'énergie peuvent être réalisées de façon très mince. Si une image décelable visuellement comme une microforme est désirée, on choisit une matière formatrice d'images qui a une opacité très élevée en elle-même. De cette façon, des couches très minces de la matière formatrice d'images sont suffisantes pour produire un contraste très intense. Comme celaressort facilement, étant donné que la ma tière formatrice d'images n'a pas besoin d'être sensible à la lumière, on choisit la matière formatrice d'images pour son opacité élevée et sa solubilité. D'un autre caté, du fait qu'une couche séparée de matière formatrice d'images est employée. il n'est pas nécessaire que la matière sensible à l'énergie ait des caractéristiques de formation d'images ou d'opacité quelconques. Ainsi, on peut choisir la matière sensible à lténargie pour la sensibilité à l'énergie désirée et pour la modification des caractéristiques de solubilité. En fait, il est bien connu que de nombreuses hatières sensibles à l'énergie ne pouvaient pas être utilisées jusqu'8 présent pour la formation d'images en raison du manque de différence suffisante entre les zones exposées et non exposées pour former une image décelable visuellement de contraste suffisant. Même ltemploi de couples de teintures d'autres mesures analogues n'a pas fourni le meilleur contraste possible désirable dans une application comme dans des microformes.Etant donné que le contraste peut être fourni d'une façon très efficace par la matière formatrice d'images, la couche se composant de cette dernière ou contenant celle-ci, nécessite e seulement d'être très mince, par exemple de l'ordre de 1000 A dans le cas du tellure ou d'autres compositions contenant du tellure. En général,en fonction de l'opacité de la couche de matière formatrice d'images, des épaisseurs de quelques o centraines d'A à plusieurs microns fournissent le contraste élevé désiré. Des considérations analogues s'appliquent à l'épaisseur de la couche se composant de la matière sensible à l'énergie ou contenant cette dernière. D'une façon fondamentale, ces couches nécessitent d'être seulement suffisamment épaisses pour former une surface cohérente ou continue de la matière sensible à l'énergie. Aucune matière excessive n'est pas nécessaire car la matière ne sert pas en tant que photorésist en combinaison avec des agents d'attaque durs. Elle n'est également pas nécessaire. pour la formation d'images. Avec la plupart des matières sensibles à l'énergie applicables dans la structure de l'invention, l'épaisseur de la couche peut être de l'ordre o de quelques centaines à quelques milliers d'A et, dans des cas exceptionnels elle peut aller Jusqu' quelques microns. Comme cela ressort facilement de la description précédente, des structures contenant les matières efficaces dans de telles couches minces renferment très peu de matière et sont, par conséquent, d'un prix faible. Un autre avantage réside en ce que ces minces couches peuvent être dissoutes ou développées avec des laps de temps très brefs, comme indiqué ci-après. L'énergie, qui peut être utilisée pour la formation d'images ou pour la production de l'image latente de la matière sensible à l'énergie d'une solubilité supérieure et d'une solubilité inférieure, peut être choisie selon le besoin de la matière sensible à l'énergie employée dans chaque cas individuel. On préfère les matières qui forment des images lors de l'appli cation de quantités faibles à moyennes de rayonnements électromagnétiques comme la lumière visible, la lumière ultraviolette ou le rayonnement infrarouge. On a trouvé que, conformément à l'invention, certaines des matières sensibles à l'énergie préférées, telles que les produits de condensation du type diazonium de poids moléculaire élevé mentionnés ci-dessus peuvent former des images avec des impulsions très brèves de sources de lumière d'intensité élevée, fournissant un rayonnement ultraviolet comme des lampes à vapeur de mercure, des lampes à éclairs photographiques et des lampes à éclairs électroniques, comme des lampes à éclairs au xénon.Avec ces types de source d'énergie élevée, des éclairs de moins d'un quart se seconde, notamment inférieurs à un dixième de seconde et avec les lampes à éclairs électroniques, des impulsions d'une milliseconde. ou de quelques millisecondes sont suffisantes pour fournir la modification dans les caractèristiques de solubilité de la matière sensible à énergie. il est surprenant que les modifications chimiques conduisant à la modification des caractéristiques de solubilité puissent être obtenues par de telles brèves impulsions dans la gamme de la milliseconde. La formation d'images par les brèves impulsions constitue un avantage particulier dans la production à grande échelle de microforme sur les matières de formation d'images de l'invention.Les brèves impulsions nécessaires pour l'exposition en combinaison avec le développement presque instantané, par exemple, par frottement de la matière exposée avec une pièce convenable de feutre ou analogue, rendent possible d'obtenir des débits de production exceptionnellement importants ainsi qu'un rendement excellent dans un appareil de petite dimension. il est également inattendu que la formation d'images des matières de l'invention puisse être effectuée par les brèves impulsions à énergie élevée, par exemple, d'une lampe au xénon. La lampe à éclairs au xénon émet une lumière non rassemblée, c'est-à-dire que les rayons de lumière émis à partir d'une telle lampe, ne sont pas parallèles. On pourrait penser que ceci affecterait la netteté et la définition de l'image. D'une façon surprenante, on obtient également avec ces sources de lumières si les matières de formation d'images de l'invention sont emploi yées, des images très nettes d'une définition très élevée. On pourrait également s'attendre à des effets d'halo nuisibles sous ces conditions de formation d'images. On a trouvé qu'avec les matières de l'invention, il se se produit pas de formation d'halo. En conséquence, il n'est pas nécessaire d'utiliser des couches spéciales anti-halo même Si la sous-couche de la matière formatrice d'images est réflectrice.Cet effet est expliqué, au moins en partie, par le fait que les matières de formation d'images de l'inventioh ont un gamma extrêmenent élevé, par exemple, de l'ordre de 5 à 10. Les matières sensibles à l'énergie de l'invention peuvent être appliquées dans la fabrication de la structure de l'invention sous la forme d'une solution comme par revêtement au rouleau, par pulvérisation, par plongée ou par tout autre procédé désiré. Ces procédés en particulier le revêtement au rouleau, sont particulièrement préférés également avec les matières sensibles à l'énergie qui peuvent être appliquées sous la forme d'une solution aqueuse comme les produits de condensation au formaldéhyde mentionnés plus haut des sels de diazonium. Si la sous-couche de la structure se composant de la matière formatrice d'images ou contenant celle-ci est, de la même façon, soluble-dans le solvant utilisé pour le dépôt de la matière sensible à l'énergie, la sous-couche peut entre affectée de façon nuisible quand la couche de dessus de la matière sensible à l'énergie est appliquée. Dans ce cas, il est important d'employer la structure illustrée à la fig. 4 des dessins annexés. La structure 40 comprend un substrat 42. Sur le substrat 42 se trouve une couche 44 d'une matière formatrice d'images, par exemple une couche d'une matière polymère organique soluble dans l'eau qui comprend comme matière for matrice d'images, par exemple, un colorant ou teinrue noire comme de la nigrosine ou un pigment comme du graphite, du noir de carbone ou un autre pigment. La couche 44 est d'une épaisseur telle qu'elle fournit le contraste nécessaire ou désiré dans l'image finale. Sur la couche 44 s'étend une couche très mince 46 de matière protectri~e comme du tellure ou une composition contenant du tellure qui n'est pas soluble dans l'eau mais qui est soluble dans un solvant aqueux non toxique comme le solvant aqueux: précité à bas d'hypochlorite.La couche de dessus 48 est formée par la matière sensible à l'énergie, par exemple, par un des condensats au formaldéhyde soluble dans l'eau précités d'un composé de diazonium. La couche 46 de la matière protectrice nécessite seulement d'être très mince juste assez épaisse pour former une couche protectrice continue afin que la couche soluble dans l'eau 44 ne soit pas affectée quand la solution aqueuse de la matière sensible à l'énergie est appliquée pour former la couche de dessus. La couche intero médiaire 46 peut être aussi mince que 100 ou 200 A bien qutelle puisse être plus épaisse au besoin. La formation d'images et le développement de la structure 40 peuvent être effectués de la manière décrite en liaison avec les fig. 1 à 3. Lorsque, par exemple, le développement est effectué avec une solution aqueuse très diluée d'hypochlorite de sodium, la solutioh dissout la matière dans les couches 48, 46 et 44 dans toutes ces zones où la matière dans la couche 48 est soluble dans l'eau ou soluble dans un autre solvant commun. En d'autres termes, dans ce mode de réalisation de la structure de l'invention, trois couches sont présentes qui, dans l'état exposé ou non exposé, sont solubles dans un solvant commun. Comme on peut le constater facilement, dans ce mode de réalisation de la structure de l'invention, la couche intermédiaire 4# constituée par exemple de tellure, ne sert pas en tant que matière formatrice d'images mais simplement en tant que couche protectrice. Si on le désire, les parties de la couche de dessus 48 et de la couche intermédiaire 46, qui n'ont pas été retirées dans l'opération de développement, peuvent être éliminées dans une opération subséquente comme par frottement, essuyage, dissolution, dans un solvant qui n'est pas un solvant pour la matière formatrice d'images dans la couche 44 et analogue. La structure décrite plus haut peut être utilisée avec un avantage analogue avec n importe quelle autre matière soluble dans tous les autres solvants désirés et peut également être employée dans le cas où une matière sensible à l'énergie qui est insoluble dans un solvant de dévéoppement devient soluble en réaction à l'application d'énergie. D'une façon analogue, les structures de l'invention peuvent être prévues avec quatre ou plusieurs couches qui, dans un état ou dans un autre état, sont solubles dans un solvant commun. Les structures de l'invention peuvent également être utilisées pour le copiage à réflexion. Dans ce cas, on utilise un substrat transmettant de la lumière et réalise la couche de la matière formatrice d'images A partir d'une matière qui est, dans l'épaisseur utilisée, au moins en partie une matière transmettant la lumière et qui a un faible pouvoir de réflexion. Une matière formatrice d'images appropriée pour ce type de structure réside, par exemple, dans le tellure ou dans une composi tion contenant du tellure d'une épaisseur par exemple d'environ o 200 A. La matière sensible à l'énergie peut être un des produits de condensation de dizonium de poids moléculaire élevé mentionné ci-dessus et le substrat peut être, par exemple, du Mylar ou de l'acétate de cellulose. D'autres structures de l'invention comprenant, d'autres matières formatrices d'images et d'autres matières sensibles à l'énergie peuvent Qtre employés avec des avantages équivalents dans le procédé de copiage à réflexion. On préfère les matières sensibles à l'énergie qui sont sensibles aux rayonnements électromagnétiques et, de préférènce, à la lumière visible. Comme indiqué plus haut, le procédé et les structures de l'invention ont une grande valeur dans la fabrication de microformes comme des microfilms et des microfiches. Le procédé est non seulement extrêmement rapide en permettant un grand débit et un grand rendement comme indique plus haut mais fournit également des microformes d'une très grande qualité. Les matières de l'invention donnent des villages d'une très bonne résolution égalent ou dépassant les meilleurs matières disponibles dans le commerce. La définition est excellente et, du fait du gamma extrêmement élevé, on obtient un excellent contraste. Etant donné que, dans les matières formatrices d'images de l'in vention, la plus grande opacité possible peut être choisie in dépendamment de leur sensibilité à la lumière, les images fabriquées avec les matières préférées de l'invention ont un meilleur contraste que toutes les matières de formation d'images employées dans le comT!1erce. Le gamma extrêmement élevé des matières de l'invention rend possible d'obtenir des images très contrastées qui peuvent être plus nettes que l'image de ltotiginal à partir duquel elles sont prises. Ceci est clairement démontré par la représentation aux fig. 5 à 7 des dessins annexés. La fig. 5 représente fortement agrandie une ligne mince ou caractére 50 tels qu'ils peuvent être représentés, par exemple, dans un cache à l'haXo- génure d'argent. La zone centrale 52 a une très forte densité pouvant être obtenue dans les images à l'halogénure d'argent Les zones 54 sur les deux bords représentent une zone grise baissant en densité depuis le noir vers la transpmxnce du support. Cette baisse de densité est représentée à la fig. 5 par les sections triangulaires 56. Ceci singifie que le gris le plus profond se trouve sur le bord 58 de la zone noire 52 et que la densité zéro ou transparente totale commence aux lignes 60. Une copie 64 du caractère 50 réalisée sur une structure formatrice d'images de l'invention est représentée à la fig 6 La copie 64 du caractère est illustrée par une zone fortement opaque 66 bordée par des lignes nettes et ne présentant pas de zones à bord gris qui sont présentes dans l'original. En d'autres termes, il y a une partie nette depuis la zone fortement opaque 66 à la zone transmettant totalement la lumière au-delà des lignes de délimitation 68. L'absence des bords flous gris 54 procure une image plus nette. il convient de remarquer que la zone fortement opaque 66 est quelque peu plus grande que la zone 52 de l'original tout en n'étant cependant pas aussi large que le caractère 50 aux lignes externes 60. Ceci fournit une plus grande netteté et une plus grande résolutif de sorte que, en réalité, l'utilisation des matières formatrices d' images permet d'augmenter la résolution de la copie par rapport à celle de l'original. Comme cela est bien connu normalement avec la plupart des matières de copie, la résolution et la netteté dans une copie sont inférieures à celle dans l'original. La cas si dessus est représenté graphiquement à ifig.7. La densité est induite en oordonnée trandis que la coupe transversale est indiquée en abscisse en l'absence d'un caractère tel que représenté à la fig. 5. La courbe 70 montre que la densité augmente lorsqu'il y a un déplacement depuis le bord du caractère vers le centre jusqu'à l'obtention de sa valeur maximale. Vers le bord opposé, la densité décroît ensuite jusqu'à la lecture de zéro. Toute densité du support a été soustraite et n'est pas représentée à la courbe 70. La courbe 72 (en traits interrompw) représente la courbe prise d'une façon analogue à partir de la copie du caractère utilisé pour la courbe 70 et faite sur une matière de copie conformément à l'invention comme décrit ci-dessus.On peut constater à partir de la courbe 72 que, lon#qu1on s'approche du caractère, la densité s'élève vers sa valeur la plus élevée, présente un palier au niveau du caractère et tombe ensuite vers zéro à l'autre bord. Il y A lieu également de noter que la densité dans la copie du caractère représentée par la courbe 72 est considéra- blement supérieure à la densité maximale obtenue dans l'original. Les points 75 au croisement entre les courbes 70 et 72 représentent le point d'accord. Ils peuvent être choisis en faisant varier la durée d'exposition lors de la réalisation des copies pour tomber ultérieurement, par exemple, au point indiqué par la flèche en 76 ou pour tomber où indiqué par la flèche en 78. Le procédé et les structures de l'invention permettent, par conséquent, non seulement d'éliminer les zones grises ou floues présentes dans l'original mais en choisissant le point d'accord d'obtenir un large choix d'acuité et de définition tout en rendant possible de régler la résolution aux besoins de toute situation particulière. Comme cela est facilement apparent, ceci a pour effet de rendre les matières formatrices d'images de l'invention bien supérieures aux matières pour produire des microformes de la plus grande qualité. La propriété des matières formatrices d'images produisant des copies de très bonne résolution et des caractères donnant une délimitation nettre entre l'opaque et le transparent peut astre accrue mécaniquement dans ces cas quand l'original présente des zones marginales grises considérables et des parties floues. Ce CRS et représenté à la fig. 8 qui montre une coupe trans versale fortement agrandie d'une structure 80 de l'invention comprenant sur un substrat 82 une couche 84 d'une matière formatrice d'images, par exemple du tellure. Sur cette couche est représentée une couche 86 d'une matière sensible à l'éner- gie, par exemple, une couche des produits de condensation au formaldéhyde précités d'un composé de diazonium. La zone 88 de la structure a été exposée à l'énergie, par exemple, à la lumière ultraviolette et a durci comme résultat de cette exposition et est devenue insoluble dans l'eau .En supposant que le bord entre les zones transparentes et opaques de l'original dans le cache pour fournir l'exposition n'est pas net mais comporte une zone de gris, comme représenté, par exemple, à la fig. 5, des quantités diminuant de lumière ultraviolette tombent sur la couche 86 lors d'un déplacement du point 88 au point 90 dans la couche. Ceci signifie que, entre les points 88 et 90, la matière sensible à l'énergie dans la couche 86 reçoit moins que la quantite maximale de rayonnement nécessaire pour la rendre complètement insoluble. Il y a donc un mélange des matières solubles dans l'eau et insolubles dans l'eau qui, lors de l'application d'eau, entraîne la formation d'un épaulement comme indiqué par la ligne 92.Etant donné que la matière de l'épaulement n'est pas encré solidement à ia couche 84 de la matière formatrice d'images, une certaine quantité de solvant peut se trouver , lors du développement, sous le bord dans la zone indiquée en 94 et produire un bord quelque peu flou dans la matière formatrice d'images de la couche 88. Ceci peut être évité en essuyant ou en frottant la surface de la structure simultanément avec l'application du solvant. Cet essuyage ou frottement entraîne une rupture de l'épaulement faible 92 sur une ligne nette comme indiqué par la ligne 96. Ensuite,le solvant dissout la partie sous-jacente de la matière formatrice d'images vers la gauche d'une ligne 98 pour avoir un bord propre très net et donc une acuité élevée et une définition nette du caractère représenté dans la copie produite. Dans la pratique, cette action d'essuyage ou de frottement simultanément avec l'opération de développement ou de dissolution peut être obtenue par l'utilisation d'une courroie se déplaçant d'un feu'cse-fI#n ou analogue qui est imbibé avec du fluide dissolvant et qui sert à développer instantanément la microforme à la plus grande qualité. La présente invention se rapporte également à un procédé et à une structure pour fabriquer des caches métallique. Une structure représentative 100 est représentée à la fig. 9 qui comprend un substrat 102. Sur ce substrat se trouve une couche 104 en métal comme du chrome. Sur la couche 104 se trouve une couche 106 d'une matière formatrice d'images comme décrit cidessus, par exemple, en tellure ou en une composition contenant du tellure. Sur le dessus de la structure 100, on prévoit une couche 108 en matière sensible à l'énergie, comme décrit cidessus, par exemple la Diazo Resin n0 4 mentionnée ci-dessus. La matière formatrice d'images et la matière sensible à l'énergie sont choisies de telle sorte qu'elles sont solubles dans un solvant commun comme décrit plus haut soit dans l'état exposé, soit dans l'état non exposé.La couche de dessus 108 de la structure 100 est exposée à de l'énergie appropriée comme un rayonnement électromagnétique et la surface exposée est plongée, lavée ou essuyée avec le solvant communrespectif comme la solution aqueuse diluée d'hypochlorite comme décrit plus haut. On forme ainsi une image comme expliqué ci-dessus ou du métal tel que du chrome dans l'exemple précité est déposé nu. La structure est ensuite traitée avec un solvant pour le métal comme une solution aqueuse diluée d'acide chlorhydrique dans le rapport de dilution par exemple de 1:1, pour attaquer respectivement la couche de métal ou de chrome.Ensuite, la matière formatrice d'images (par exemple comme du tellure) et/ou la matière sensible à l'énergie (comme La Diazo Resin n0 4) restant sur le chrome peuvent être déparées par entrainement, par exemple, mécaniquement ou par l'utilisation d'un solvant approprié. De cette façon, on peut obtenir aisément un cache métallique comme un cache de chrome se trouvant, par exemple, sur du verre ou une matière plastique telle que du Mylar. Dans le mode de réalisation précédent de l'invention, la combinaison des couches de la matière formatrice d'images et de la matière sensible à l'énergie sert en tant que photorésist à comportement et propriétés améliorés. Un avantage ~rimo~dial de la structure et du procédé de l'invention réside en ce que les opérations de lavage et de cuisson intermédiaires nécessaires dans les procédés classiques pour fabriquer des caches métalliques peuvent être omises. L'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation représentés et décrits en détail, car diverses modifications peuvent y être apportées sans sortir de son cadre. REVENI?IC#TI0NS 1- Matière formatrice d'images, caractérisée en ce qu'elle comprend une couche renfermant une matière sensible à 11 énergie qui est capable de se modifier lors de l'appli- cation d'énergie entre deux états dont un état est un état dans lequel la matière est soluble dans un solvant choisi et 11 autre état est un état dans lequel la matière n'est pas soluble dans le solvant choisi, et une couche comprenant la matière formatrice d'images qui est soluble dans le solvant choisi. 2- Matière formatrice d'images suivant la revendication 1, caractérisée en ce que la couche comprenant la matière formatrice d'images, est contenue sur un substrat. 3- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le substrat transaet la lumière. 4- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que la matière sensible à l'énergie est une matière organique. 5- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 4, caractérisée en ce que la matière sensible à l'énergie est un composé qui se modifie lors de l'application d'énergie depuis une composition chimique vers une autre composition chimique, ces composés de composition différente ayant une solubilité essentiellement différente dans le solvant choisi. 6- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 5, caractérisée en ce que la matière sensible à l'énergie est ne matière pl-loto-sensible. 7- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 6, caracterisée en ce que la matière sensible à l' > nergie est un composé diazo#que soluble dans l'eau qui, lors de l'application d'énergie, devient insoluble dans l'eau. 8- matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que la matière sensible à l'énergie est la Diazo-Resin n0 4. 9- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 8, caractérisée en ce que la matière sensible à énergie comprend un composé organique qui est sensible aux rayonne#.ents électromagnétiques. 10- Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 9, caractérisée en ce qu'elle est une matière opaque. il - Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 10, caractérisée en ce qu'elle est une matière qui a une épaisseur de 2000 A et une densité de 2,5 à 3,5. 12 - Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 11, caractérisée en ce qu'elle est une composition renfermant d'environ 50 0 atomique à 100 % atomique de tellure. 13 - Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 12, caractérisée en ce que la matière sensible à l'énergie est une matière qui est soluble dans l'eau et dans une solution aqueuse diluée d'hypochlorite-de sodium et qui, lors de l'application d'une énergie de formation d'images suffisante, devient insoluble dans l'eau et dans une solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium d'une force > laquelle la solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium dissout la matière formatrice 'images. 14 - Matière formatrice d'images suivant l'une des revendications 1 à 13, caractérisée en ce qu'elle est une composition contenant du tellure qui est soluble dans une solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium. 15 - Procédé de production d'une image, caractérisé en ce qu'il consiste à prévoir une structure comprenant une couche d'une matière formatrice d'images soluble dans un solvant choisi et disposée sur cette couche de matière formatrice d'images, une couche comprenant une matière sensible à l'énergie qui est capable de se modifier en réaction à l'application d'énergie entre deux états dans lesquels elle a une solubilité différente dans le solvant choisi, à appliquer sélectivement de l'énergie à la structure en n'importe laquelle de ses zones choisies désirées pour procurer la modification de la matière sensible à l'énergie depuis un de ces états vers l'autre de ces états pour enregistrer dans la couche de matière sensible à l'énergie, tout motif désiré et à appliquer un solvant choisi à cette structure qui dissout les parties de la couche de la matière sensible à l'énergie qui est dans l'état de plus grande solubilité à une vitesse essentiellement plus Grande que les parties qui sont duns l'autre état de plus faible solubilité, le solvant choisi dissolvant également ces parties de la matière formatrice d'images qui se trouvent sous les parties de la matière sensible à l'énergie qui sont dans l1état de dissolution à plus grande vitesse pour produire une image de la matière formatrice d'images. 16 - Procédé suivant la revendication 15, caractérisé en ce que la matière formatrice d'images est prévue sur un sustrat. 17 - Procédé suivant l'une des revendications 15 et 16, caractérisé en ce que la matière formatrice d'images est prévue sur un sustrat transmettant la lumière. 18 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 17, caractérisé en ce qu'on prévoit une structure qui comporte une couche renfermant une coirposition de tellure comprenant d'environ 50 ffi atomique à 100 % atomique de tellure. 19 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 18, caractérisé en ce qu'on prévoit une structure qui comprend sur un substrat, une couche comportant une composition contenant du tellure qui est soluble dans une solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium d'une certaine concentration, cette structure comprenant, en outre, une couche d'une matière sensible à l'énergie qui est soluble dans la solution aqueuse diluée d'hypoclorite de sodium d'une certaine force et qui, lors de l'application d'énergie, devient insoluble dans la solution aqueuse diluée d'hypochlorite de sodium de cette certaine force et en ce que après soumission de la structure comme une image à de l'énergie, la solution aqueuse d'hypochlorite de sodium de cette certaine force, est appliquée à la couche comprenant la matière sensible à l'énergie pour dissoudre la matière sensible à l'énergie et la composition contenant du tellure dans les zones de la structure qui n'ont pas reçu l'é- nergie de formation d'images. 20 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 19, caractérisé en ce que la dissolution de la matière sensible à l'énergie dans les zones où elle se trouve dans l'état de plus grande solubilité et de la matière formatrice d'images se trouvant sous ces zones, est terminée en moins de dix secondes. 21 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 20, caractérisé en ce que la dissolution de la matière sensible à énergie dans les zones où elle est dans l'état de plus grande solubilité et de la matière formatrice d'images se trouvant sous ces zones, est terminée en moins d'une seconde. 22 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 21, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche qui comprend comme matière sensible à l'énergie, un composé qui est capable de modifier sa structure chimique depuis une composition chimique vers une autre composition chimique en réaction à l'effet de l'énergie. 23 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 22, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche qui comprend comme matière sensible à l'énergie, un composé diazorque. 24 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 23, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche qui comporte comme matière sensible à l'énergie, un produit de condensation de poids moléculaire élevé d'au moins un composé diazofque, ce produit de condensation étant soluble dans un milieu aqueux et devenant essentillement insoluble dans un milieu aqueux en réaction à l'application d'énergie. 25 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 24, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche qui comprend comme matière sensible à l'énergie, un produit de condensation de poids moléculaire élevé, d'au moins un composé diazoTque, ce produit de condensation étant soluble dans un milieu aqueux et devenant essentiellement insoluble dans-un milieu aqueux en réaction à l'application d'énergie. 26 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 25, caractérisé en ce qu'on applique un solvant choisi à la structure qui est non toxique. 27 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 26, caractérisé en ce que le solvant non toxique aqueux choisi, est appliqué à la structure dans une opération de dissolution à une phase. 28 - Procédé suivant l'une des revendications 15 à 27, caractérisé en ce qu'un rayonnement actinique est appliqué à la structure. 29 - Plocéidé suivant l'une des revendications 15 à 28, caractérisé en ce qu'on prévoit une structure qui comprend sur un substrat, une couche renfermant une matière formatrice d'images fortement opaque qui est soluble dans un solvant choisi, sur cette matière une couche comprenant une matière formatrice d'images auxilaire qui est soluble dans le ,solvant choisi et sur celle-ci une couche comprenant une matière sensible à l'énergie qui est soluble dans le solvant choisi lorsqu'elle est dans un de ces états. 30 - Procedé suivant l'une des revendications 15 à 29, caractérisé en ce qu'on prévoit une matière sensible à l'énergie dans la couche qui est soluble quand elle n'est pas exposée à l'énergie dans un solvant auxiliaire qui n'est pas un solvant pour cette matière formatrice d'images auxiliaire et en ce que la matière sensible à l'-nergie est appliquée sous la forme d'une solution dans ce solvant auxiliaire sur cette couche de la matière formatrice d'image auxiliaire pour former la couche comprenant la matière sensible à l'tnergie. 31 - Procédé de production de microformes, caractérisé en ce qu'il consiste à prévoir une matière de duplication comprenant sur un substrat tiansmettant la lumière, une couche d'une matière formatrice d'images opaque et disposée sur celle ci une couche d'un produit de concensation soluble dans l'eau de poids moléculaire élevé qui est capable de former un produit résineux insoluble dans l'eau quand elle est soumise à un rayonnement actinique, à mettre en contact cette matière de duplication sur le côté comprenant la couche du produit de condensation de poids moléculaire élevé avec un original contenant une représentation d'images du micro-enegistrement à duplicata cet original renfermant des zones opaques et transmettant la lumière, à appliquer un ayonnement actinique à la matière de duplication par l'interméeiaire de l'original pendant une durée suffisamment lon ue pour rendre le produit de condensation soluble dans l'eau insoluble dans l'eau dans les zones correspondant aux zones transmettant la lumière de ltori- ginal mais suffisamment Drève pour maintenir le produit de condensation soluble dans l'eau dans les zones correspondant aux zones opaques de l'ori.~inal pour former une structure d'image latente sur la matière de duplication, à retirer l'original du contact avec la matière de duplication nt - appliquer un solvant aqueux à la structure d'image latente pour dissoudre le produit de condensation soluble dans l'eau dans les zones ou il est resté soluble dans l!eau et la matière formatrice d'images opaque se trouvant sous ce produit de condensation soluble, en laissant essentiellement non dissous le produit de condensation résineux et la matière formatrice d'images opaque recouverte par le produit de condensation résineux pour former un duplicata de l'original des microformes. 32 - Procédé suivant la revendication 31, caractérisé en ce qu'on prévoit dans la couche accompagnant la matière sensible à l'énergie, une matière photo-sensible qui est soluble dans une solution aqueuse non toxique et qui comprend un composé choisi à partir du groupe renfermant les composés diazoiques, les composés azido-aromatiques, les composés diazide et les produits de condensation de poids moléculaire élevé de ces composés. 33 - Procédé suivant l'une des revendications 31 à 32, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche d'une composition contenant du tellure qui est soluble dans un solvant aqueux. 34 - Procédé suivant l'une des revendications 31 à 33, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche d'une composition contenant du germanium. 35 - Procédé suivant l'une des revendications 31 à 54, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche d'une composition de tellure qui est soluble dans une solution aqueuse diluée d'hypochlorite et en ce qu'on applique à la structure d'image latente, une solution aqueuse d'hypochlorite comme solvant pour dissoudre le produit de condensation soluble dans l'eau et la composition de tellure. 36 - Procédé suivant l'une des revendications 31 à 35, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche de tellure. 37 - Procédé suivant l'une des revendications 31 à 36, caractérisé en ce que le rayonnement actinique comprend le rayonnement ultraviolet. 38 - Procédé de production de microformes, caractérisé en ce qu'il consiste à prévoir une matière de duplication comprenant sur un substrat transmettant la lumière, une couche renfermant une composition ayant d'environ 50 g0 atomique à 100 % atomique de tellure qui est soluble dans un solvant choisi et disposée sur cette couche de composition de tellure une couche comprenant une matière sensible à l'énergie qui est capable de se modifier en réaction à l'application d'énergie entre deux états dans lesquels elle a des solubilités différentes dans le solvant choisi, à mettre en contact cette matière de duplication sur le côté comprenant la couche renfermant la matière sensible à énergie avec un original comportant une représentation images du micro-enregistrement à duplicate#:r,cet original ayant des zones opaques et transmettant la lumière, à appliquer un rayonnement électromagn tique à la matière de duplication par l'intermédiaire de l'original pendant une durée suffisamment longue pour obtenir la modification de la matière sensible à l'énergie depuis un état vers l'autre dans les zones correspondant aux zones transmettant la lumière de l'original mais sufisanunent brève pour maintenir l'état de la matière sensible à l'énergie essentiellement non changé dans les zones correspondant aux zones opaques de ltori- ginal pour former une structure d'image latente sur la matière de duplication, à retirer l'original du contact avec la matière de duplication et à appliquer un solvant à la matière de duplication qui dissout la matière sensible à l'énergie dans les zones de la couche où elle a la plus grande solubilité et qui dissout également la composition de tellure se trouvant sous les zones dissoutes de la matière sensible à l'énergie en laissant essen tellement non dissoutes, les parties de la matière sensible à l'énergie qui ont la plus faible solubilité dans le solvant et les parties de la composition de tellure qui sont recouvertes par les parties non dissoutes de la matière sensible à l'énergie pour former un duplicata de l'original des microformes. 39 - Procédé suivant la revendication 38, caractérisé en ce qu'on prévoit une couche comprenant la matière sensible à l'énergie, un produit de condensation soluble dans l'eau d'un composé choisi à partir de composés diazolques, de composés asidoaromatiques et ce composés diazide et des produits de condensation de poids moléculaire élevé de ces composés. 40 - Procédé suivant l'une des revendications 38 et 39, caractérisé en ce qu'on prévoit dans la couche comprenant la matière sensible à l'énergie, une matière photo-sensible qui est soluble dans une solution aqueuse non toxique et qui renferme un composé choisi à partir du groupe comprenant les composés diazolques, lescoiposés azido-aromatiques, les composés diazide et les produits de condensation de poids moléculaire élevé de ces composés. 41 - Procédé suivant l'une des revendications 38 à 40, caractérisé en ce qu'on prévoit dans la couche comprenant la matière sensible à l'énergie, une matière polymérisable photosensible qui est soluble dans des solvants aqueux non toxiques et qui, sous 11 effet du rayonnement électromagnétique, se polymérise pour former une matière qui est eseentiellement insoluble dans le solvant aqueux. 42 - Procédé de production d'images caractérisé en ce qu'il consiste à prévoir une mince couche d'une composition comprenant d'environ 50 k atomique en poids à 100 % atomique en poids de tellure et à avoir cette couche en contact avec une solution aqueuse d'hypochlorite afin de dissoudre la composition de tellure. 43 - Procédé suivant la revendication 42, caractérisé en ce que la couche de la composition de tellure est obtenue sur un substrat par projection. 44 - Procédé suivant l'une des revendications 42 et 43, caractérisé en ce que la couche de la composition de tellure est obtenue sur un substrat par dépôt sous-vide. 45 - Procédé suivant l'une des revendications 42 à 44, caractérisé en ce que la couche de la composition de tellure est mise en contact avec une solution aqueuse d'hypochlorite qui renferme de 0,5 à 15 % en poids de chlore disponible. 46 - Procédé suivant l'une des revendications 42 4 45, caractérisé en# ce que la couche de la composition de tellure, est mise en contact avec une solution d'hypochlorite de sodium qui contient d'environ 0,5 à 30 k en poids d'hypochlorite de sodium. 47 - Solution, caractérisée en ce qu'elle se compose d'un solvant, d'une composition d'hypochlorite et dissous dans celleci du tellure. 48 - Matière formatrice d'images suivant la revendication 1, caractérisée en ce qu'il s'agit d'une composition constituée essentiellement de molybdène.