Brevet FR2113898A1 — publié le 19720630

La présente inventiop concerne le revêtement à l'aide d'une poudre d'homopolymère de chlorure de polyvinylè. On connaît bien le revêtement à l'aide de poudres de résines qui fondent sous l'effet d'un chauffage. On sait également que l'on peut faire fondre 5 des revêtements de poudres thermoplastiques en utilisant une vapeur de solvant à basse température. Cependant, aucune de ces techniques n'est applicable à du chlorure de polyvinylè homopolymère qui, comme on le sait bien, se dégrade par exposition à des températures élevées et qui est relativement difficile à traiter dans des solvants organiques bien qu'il possède une cer-10 taine solubilité limitée dans de tels solvants. Par suite, on utilise normalement le chlorure de polyvinylè,appliqué à partir d'un milieu constitué par un ou plusieurs solvants organiques,sous forme d'un copolymère contenant de l'acétate de vinyle copolymérisé qui diminue la résistance physique et chimique du polymère. On utilise également le chlorure de polyvinylè avec des 15 plastifiants donnant de la souplesse et de la flexibilité comme le phtalate de dioctyle etc., mais dans ce cas le plastifiant diminue la résistance physique et chimique du polymère. On ne peut utiliser du chlorure de polyvinylè homopolymère lui-même pour un revêtement ordinaire à l'aide d'une poudre parce que, lorsqu'on chaut-"20 fe la poudre pour tenter de la faire fondre à une température de 1650 C à 290* C, le résultat obtenu est toujours une poudre carbonisée. Si l'on plastifie le chlorure de polyvinylè homopolymère à l'aide des plastifiants classiques du type ester , la poudre plastifiée va se fondre pour former une pellicule sur une base de support. Cependant, la pellicule 25 est molle et très sensible aux solvants et l'adhérence à un métal, par exemple l'acier doux, est très médiocre. En fait, sous l'effet d'ion impact vers l'avant de 11,5 x. 10~^ kgm, le revêtement se sépare de la base de support» la Demanderesse a essayé de faire fondre des revêtements de poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère non plastifié en utilisant des vapeurs 30 de chlorure de méthylène (dichlorométhane), d'acétone ou de inéthyl-éthyl-cétone, mais cela n'a pas été couronné de succès. Le chlorure de méthylène ne réalise pas une fusion efficace de la poudre. lies deux cétones provoquent la formation d'une pellicule, mais l'action est excessivement lente, la pellicule est rugueuse et l'écoulement est médiocre. 35 Par conséquent, et jusqu'à présent, l'utilisation efficace de chlorure de polyvinylè homopolymère non plastifié dans la technologie du revêtement à l'aide de poudres représente un but que l'on a longtemps cherché à atteindre,mais auquel on n'est jamais parvenu. En fait, et pour obtenir des 4031"' 2 2113898 revêtements de poudre pour protéger des tuyaux; par exemple, on a dû faire appel à des systèmes onéreux de poudres d'époxyde et ces poudres durcissent pour donner des matières cassantes qui peuvent se craqueler sous lreffet d'un choc constituant un incident de l'installation pour produire une zone 5 fissurée où des forces eorrosives peuvent se concentrer, par exemple sous l'effet d'une action galvanique. Dans la présente invention, l'objet à revêtir comporte une couche appliquée de poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère représentant une résine médiocrement soliible et qui ne fusionne pas ou ne se fond pas pour 10 donner une pellicule par application d'un chauffage sans pression. On soumet cet objet, .comportant la couche de poudre, à l'action d'une vapeur de solvant organique ayant une température excédant 100° C, et excédant de préférence 115° G. L'objet se trouve à une température qui, comme la température ambiante, est inférieure à la température de la vapeur de solvant pour 15 provoquer une condensation limitée sur le substrat. De cette façon, la poudre de résine médiocrement soluble et que l'on ne peut traiter à chaud est soumise à l'action d'une vapeur très chaude de solvant organique pendant que les vapeurs du solvant se condensent sur le substrat. Ainsi, la poudre de résine est soumise simultanément à l'action de la vapeur chaude du solvant 20 organique et à l'action du liquide en cours de condensation, et cela provoque la fusion et la coalescence des particules de la poudre ainsi que la formation d'une pellicule continue non poreuse. Items un aspect important de la présente invention, on forme une pellicule de poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère qui adhère aux surfaces métalliques, et notanraent à l'a-25 cier ayant ou non subi un traitement d'apprêt. Il en résulte une pellicule raisonnablement adhérente dont le chlorure de polyvinylè est le constituant résine essentiel, qui est dure,possède une résistance au moins limitée aux solvants et, dans certains cas, il se développe sur de l'acier doux nettoyé une résistance suffisante aux chocs pour supporter un,choc vers l'avant de 30 0,368 kgm (appareil Gardner d'essais de résistance aux chocs). le solvant peut être n'importe quelle matière, organique ri^nn laquelle le chlorure de polyvinylè est soluble et qui bout à une température supérieure à 100° C environ pour former une vapeur condensable à la température opératoire choisie. La température opératoire ne va normalement pas excéder-35 300* C et de préférence elle ne va pas excéder 200°C. Le solvant peut être inerte (non reactif), et dans ce cas les solvants préférés sont des cétones dont le point d'ébullition est supérieur à 100° C, comme par exemple la pen-taxone (4-méthaxy-4-méthyl-pentanone-2) et la dibutyl-cétone. Ch peut inclure 71 4031 ï 3 2113858 une faible quantité de solvants plus puissants et dont le point d'ébullition est moins élevé comme le tétrahydrofuranne ou la méthyl-éthyl-cétone, pour augmenter la vitesse de formation de la pellicule. De façon similaire, on peut utiliser une faible quantité de dimethyl—suifoxyde pour le meme but. 5 Ces solvants plus puissants permettent une légère diminution de la température minimale, mais ils introduisent des complications du point de vue de la toxicité et du caractère critique des conditions opératoires. Selon une caractéristique"de la présente invention, on ne choisit pas le solvant parmi les liquides non réactifs dont le point d'ébullition est su--10 périeur à 100° C environ, comme les cétones à point d'ébullition élevé précitées, mais on choisit un monomère non saturé qui, de façon similaire, présente un point d'ébullition élevé et exerce une activité dissolvante comme le styrène, le vinyl-toluène, le méthacrylate de méthyle etc. On préfère tout particulièrement le styrène et le vinyl-toluène puisqu'ils ont un plus grand" 15 pouvoir dissolvant que le méthacrylate de méthyle. Malgré la température élevée d'application (égale ou supérieure à 100° C), on peut inhiber ces monomères non saturés pour éviter une polymérisation en phase liquide (au cours de l'ébullition du monomère destinée" à fournir la vapeur nécessaire), alors que le monomère non saturé sous forme de vapeur ne comporte pratiquement pas 20 d'inhibiteur ce qui en permet la polymérisation au moment du dépôt par condensation ou absorption dans la poudre de résine exposée. La polymérisation peut également avoir lieu au cours d'une opération facultative de cuisson que l'on peut effectuer après la formation de la pellicule voulue. On peut utiliser n'importe quel inhibiteur relativement non volatil d'une 25 polymérisation par addition afin d'éviter que le solvant monomère non saturé ne polymérise lorsqu'on fait bouillir le monomère liquide pour engendrer les vapeurs voulues. Le soufre constitue un inhibiteur efficace de la polymérisation pour les fins citées et il va servir pour illustrer le concept de l'invention. On utilise de façon souhaitable le soufre en une quantité 30 représentant 0,1 à 0,5 $ du poids du monomère non saturé. la 1,^-benzoquino-ne va constituer une autre illustration de ce concept, puisque sa concentration est très faible dans la phase vapeur. Une autre caractéristique du choix du solvant réside dans l'utilisation d'un mélange de solvants. Une partie du mélange des solvants est constituée 35 par un monomère non saturé polymérisable,du type décrit, et une partie du mélange des solvants est un solvant non polymérisable (non réactif) ayant un point d'ébullition supérieur au point d'ébullition du monomère polymérisable. L'utilisation d'un solvant polymérisable et d'un solvant non-polymc-risable a point d'ébullition plus élevé, en. mélange l'un avec l'autre, permet 71 40313 » 2113898 de mettre en oeuvre les solvants non saturés à des températures supérieures à leur point normal d'ébullition. Cela augmente apparemment les chances de polymérisation du solvant non saturé à mesure du dépôt de ce solvant, ce qui fournit directement des pellicules ayant une insolubilité supérieure dans les 5 solvants et réduit la nécessité d'un durcissement subséquent (par exemple par une cuisson). Il est bon également d'utiliser dans le mélange précité des solvants ixn mélange de monomères non saturés, une partie du monomère non- saturé étant un composé vinyl--aromatique comme le styrène ou le. vinyl--.-toluène et une se-10 conde partie du monomère non saturé étant un monomère acrylique comme le méthacrylate de méthyle. En fait, des mélanges de styrène ou de vinyl-toluène d'une part, avec le méthacrylate de méthyle d'autre part, selon des rapports pondéraux de 4:1 à 1:4, sont particulièrement intéressants en combinaison avec une cétone à point d'ébullition élevé comme la "pentoxone" puisque, de 15 cette façon, la pellicule de chlorure de polyvinylè que l'on produit est très lisse et présente une bonne adhérence ainsi qu'une résistance élevée aux chocs. L'invention se limite de façon spécifique à des résines canne les hotno-poljmères du type chlorure de polyvinylè qui, sous forme de poudre, ne su-20 bissent pas une fusion par l'application d'un chauffage en l'absence d'une pression. Cela nécessite que le polymère du type chlorure de polyvinylè ne comporte pratiquement pas de monomères copolymérisables capables de ramollir le polymère ou d'en augmenter la solubilité dans les solvants organiques. Sur cette base, les polymères préférés vont c emporter au moins 90 % environ, 25 et de préférence au moins 98 % environ en poids de chlorure de vinyle poly-mérisé. Parmi lès autres monomères pouvant être présents, l'acétate de vinyle va représenter la matière la moins souhaitable puisque l'acétate de vinyle augjnente beaucoup la solubilité et diminue les propriétés physiques du polymère. D'autres monomères, qui peuvent être présents sans altérer de façon 30 importante le caractère essentiellement homopolymère du polymère de chlorure de vinyle, sont des acides éthyléniques comme l'aeide fumarique, l'acide ita-conique, l'acide crotonique, l'acide méthacrylique ou l'acide acrylique, le chlorure de vinylidène, l'acrylonitrile, le méthacrylate de méthyle etc. Le chlorure de polyvinylè homopolymère peut être obtenu de toute façon souhai-35 tée, par exemple par polymérisation en émulsion ou par polymérisation en suspension ou en masse, et le poids moléculaire du polymère est une considération secondaire puisque 1 'invention est applicable à des polymères que l'on peut considérer comme ayant des poids moléculaires élevés, moyens ou faibles. 71 40311 5 2113898 la poudre de chlorure de polyvinylè peut contenir une certaine proportion de monomère polyraérisable tant que le chlorure de polyvinylè homopolymère, contenant le monomère absorbé, est encore incapable, sous forme de poudre, de se fondre sous la seule application, d'un chauffage. Ainsi, la poudre 5 de chlorure de polyvinylè homopolymère peut contenir un composé monovinyl- aromatique absorbé comme le styrène, le vinyl-toluène, ou le méthacrylate de méthyle, ou bien un polyacrylate ou un polyméthaerylate comme le méthacrylate de 1,4-butylène, ou une résine époxyde , ou bien des polyacrylates, ou des méthyacrylates. la matière absorbée peut comprendre des catalyseurs de poly-10 mérisation du type peroxyde etc., ainsi que des stabilisants classiques du chlorure de polyvinylè,pour faciliter la polymérisation au cours de la formation de la pellicule à température élevée, selon le processus envisagé ici ou bien.pendant quelque opération subséquente de cuisson, ou pendant les deux types de processus. On préfère des monomères qui, sous forme polyméri-15 sëe, ne ramollissent pas ïe chlorure de polyvinylè homopolymère. On les connaît sous le non de monomères durcissants. Lorsque des monomères polyéthyléniques sont absorbés dans la particule de chlorure de polyvinylè homopolymère, et en particulier si l'on soumet, après la fusion à l'aide d'une vapeur de solvant à température élevée, l'ar-20 ticle revêtu comportant la pellicule fondue à une cuisson, on peut encore améliorer la résistance aux solvants et la ténacité de la pellicule. Le substrat doit être à une température inférieure au point d'ébullition du système des solvants que l'on utilise pour provoquer une condensation ; de façon souhaitable, le substrat doit être à 10° C au moins au-dessous de 25 la température des vapeurs auquel il est soumis et de la température à laquelle on fait bouillir le solvant ou le mélange des solvants. Pour éviter une condensation excessive nécessitant un enlèvement rapide du substrat loin des vapeurs du solvant, il convient de préchauffer le substrat de façon que, lorsque l'on soumet le substrat, comportant la couche de poudre, à l'action 30 de la vapeur du ou des solvants, la température de ce substrat ne se situe pas à plus de 25° C environ au-dessous de la température des vapeurs. De préférence, les vapeurs du ou des solvants doivent être essentiellement saturées puisqu'une surchauffe importante des vapeurs peut empêcher/^ contact entre les vapeurs et le substrat plus froid et empêcher ainsi la réalisation de la çon-35 densation voulue. De même, on peut utiliser le substrat sans le préchauffer et il doit alors être retire des vapeurs du ou des solvants avant que ne se produise une condensation excessive, ce qui est praticable bien que moins intéressant. 4031T 6 2113898 Le temps de dépôt de la vapeur du ou des solvants peut varier considérablement entre environ 10 et 80 secondes et de préférence entre 20 et 60 secondes. L'exposition à la vapeur du ou des solvants ne peut se" continuer indéfiniment car, après la formation appropriée de la pellicule, celle-ci 5 risque de se dégrader sous l'effet d'une exposition prolongée. Une fois la poudre fraîchement fondue, on préfère laisser se volatiliser les solvants volatils éventuels, Sa fait, dans les circonstances normales, les solvants à point d'ébullition élevé que l'on utilise dans le présent procédé vont se vaporiser par simple exposition à l'air durant 30 minu-10 tes environ, en laissant une surface sèche au touoher. On peut encore sécher à l'air la pellicule ainsi produite, ce quinécessite normalement 12 à 24 - les heures. On peut également soumettre/ pellicules fraîches à un séchage forcé ■et les rendre sècnes /au toucher en envoyant sur ces pellicules un courant d'air a 50 -90 C s le séchage prend alors 1 à 5 minutes. On peut renforcer le durcissement en sou-15 mettant un revêtement qui est sec au toucher à des températures de cuisson de 150*-300° C pendant des périodes de temps comprises entre 30 secondes à la température à la température la plus élevée et environ 30 minutes ou davantage à la température la plus basse. 'Dans la mise en oeuvre de la présente invention, on peut former et main-20 tenir la couche de poudre de toute façon classique pendant qu'on laisse les vapeurs de solvants à des températures élevées se cooienser sur le svibstrat pour provoquer la fusion des particules de poudre et leur coalëscence pour former la pellicule continue et non -poreuse. Dans la pratique préférée, le substrat est métallique ou rendu conducteur d'une autre façon et l'on utili-25 se la force électrostatique pour déposer les particules de poudre sur le substrat. Ces particules de poudre vont rester associées par un mécanisme électrostatique au substrat pendant une période considérable dë temps en permettant l'immersion du substrat métallique dans un bain des vapeurs du ou des solvants organiques chauds. L'application électrostatique et l'adhérence des 30 particules de poudre sur un substrat métallique sont bien connues. la présente invention vise en particulier la production de.revêtements .qui sont raisonnablement adhérents à des surfaces métalliques sur lesquelles on les -dépose ; on comprendra cependant que l'on peut traiter le substrat, de façon à empêcher délibérément l'adhérence, par exemple' grâce au dépôt d'une 35 pellicule d'huile ou de ciré sur ce substrat et en^particulier grâce au dépôt d'une huile de méthyl-silicone de sorte que y1 puisse aisément enlever du substrat de support la pellicule qui est produite selon la présente invention. De cette façon, on peut former des pellicules libres, et notamment des feuilles continues ou bien, si le substrat présente me certaine configuration, 71 40313 7 2113898 on peut former des objets façonnés à parois minces épousant la forme du substrat sur lequel on effectue le dépôt. On a insisté ci-dessus sur les températures minimales, car elles ont une importance fondamentale } on désire cependant indiquer que, tant ou'on utilise 5 la vapeur du ou des solvants dans des conditions permettant une condensation, ce qu'on obtient en ayant le substrat à une température inférieure au point d'ébullition du liquide servant à former la vapeur, la limite supérieure de température ne constitue pas une ■caractéristique primordiale de la présente invention. Bien entendu, il existe une limite à l'élévation de température 10 que peut supporter la poudre de chlorure de polyvinylè ; cette limite est la température de carbonisation ou de brûlage de la poudre, et il convient d'éviter de telles températures, Exemple 1 On pulvérise de la poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère (di-15 mensions particulaires moyennes s 75-100 microns) pour un dépôt électrostatique sur un panneau,d'essai d'acier doux dégraissé (10 cm x 12,5 cm). On immerge ensuite le panneau,qui contient la poudre sous forme d'une couche adhérant par un mécanisme électrostatique à ce panneau à la température ambiante, dans un bain de vapeur durant 40 secondes bien que la durée de l'immersion 20 puisse se situer entre 20 et 60 secondes en donnant de bons résultats. De même, l'épaisseur de la couche de poudre peut varier entre 25 et 500 microns en donnant de bons résultats. Voici la composition de deux bains■ de vapeurs utiles : Bain numéro 1 : Pentoxone (4-méthoxy-4-méthyl-pentanone-2) ; gamme d'ébulli-25 tion : 147"-163° C. Bain numéro 2 : mélange 1:1 de styrène et de méthacrylate de méthyle ; gamme d'ébullition ï 119°-140° C. On. laisse le panneau, revêtu de la pellicule de' poudre fraîchement fondue,sécher par évaporation rapide durant 30 minutes. En général, un sé-30 chage par évaporation rapide est achevé lorsque la surface est sèche au toucher, Une fois la pellicule fondue sèche au toucher, on la soumet à un séchage forcé durant 5 minutes à 150° G, Si variante, on peut sécher la pellicule à l'air durant 12 à 24 heures. On préfère le procédé de séchage forcé en raison dé la rapidité de ce séchage. 35 Lorsqu'on immerge une couche de poudre de I75 microns fens le bain nu méro 1, la pellicule produite est très lisse, sensiblement continue et présente une épaisseur sensiblement uniforme d'environ 125 microns. L'épaisseur de la pellicule varie selon l'épaisseur de la couche de poudre que l'on fait 71 40311 8 2113898 fondre. On produit avec succès des panneaux revêtus d'une pellicule lisse et continue en utilisant chacun des bains,numéro 1 et numéro 2, mais le bain numéro 2 donne des revêtements ayant une plus grande dureté, une meilleure résistance à l'abrasion, une meilleure résistance aux solvants et une meil-5 leure résistance aux chocs. En fait, le panneau revêtu obtsnu à l'aide du bain numéro 2 supporte un choc de 0,268 kgm (appareil Gardner d'essais de résistance aux chocs) sans craquelures, brisures ou interruptions de la pellicule. Lorsqu'on utilise le bain numéro 1, les revêtements sont bons quoique moins remarquables que ceux produits à l'aide du bain numéro 2. On note 10 en passant que le bain numéro 1 produit une résistance moyenne à l'acétctie assez bonne bien que ce soit normal pour du chlorure de polyvinylè. Il est possible également d'améliorer le résultat obtenu à l'aide du bain numéro 1 seul en immergeant le panneau successivement dans le bain numéro 1 et dans le bain numéro 2. 15 Un chlorure de polyvinylè du commerce que l'on peut utiliser dans cet exemple pour produire les résultats indiqués est le "Diamond PVC" qualité 33j que l'on peut obtenir à la Diamond Alkali Company de Cleveland, Ohio, Etats-Unis d'Amérique. On atenté de faire fondre cette même poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère sans plastifiant en utilisant des températures com-20 prises entre 165° et 290° C, mais le produit résultant dans chaque cas a été une poudre carbonisée. Exemple 2 Lorsqu'on plastifie cette même poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère à l'aide de plastifiants classiques pour le ramollissement comme le phta-25 late de dioctyle (20 % du poids du polymère) et que l'on fait fondre à 232°-260° C, la poudre forme une pellicule continue et lisse. Cependant, la pellicule est molle et présente une dureté 2B à B;au lieu de H à 2H qui constitue une dureté typique pour l'invention, et la résistance à l'acétone diminue fortement. En outre, il y a très peu d'adhérence au panneau 30 d'acier doux (la pellieule ne supporte pas un choc de 11,5 x 10~^ kgm). Exemple 3 On répété les opérations des exemples 1 et 2 en utilisant une autre poudre de chloruré de polyvinylè homopolymère du commerce "QSAP-7n vendue par Union Carbide Corporation, Texas City, Texas (Etats-Unis d'Amérique). On ob-35 tient les mêmes résultats que ci-dessus. Exemple 4 Lorsqu'on répète les opérations des exemples ci-dessus en préchauffant le panneau jusqu'à une température inférieure de 20° C à la température des vapeurs du bain de vapeurs,on rend, plus rapide l'action de formation de la 71 40311! 9 2113898 pellicule et cette pellicule est moins sujette à une dégradation sous l'effet d'une immersion excessive. Dans les expériences indiquées ci-dessus, on applique la poudre de chlorure de polyvinylè à l'aide d'un pistolet à poudre Ransburg, modèle 322 AG 5 associé à me buse de pulvérisation plate et non,rotative. Le pistolet est alimenté par un dispositif d'alimentation Ransburg, modèle 231 BA ayant une tension maximale de 100 KV (courant continu) et une intensité de courant de court-circuit de 200 microampères* Bien entendu le revêtement électrostatique d'une poudre est bien connu et il n'est pas nécessaire d'utiliser l'é-10 quipement particulier indiqué ci-dessus. En outre, l'invention ne se limite pas au dépôt électrostatique puisqu'on peut appliquer par saupoudrage la poudre sur une surface horizontale ou bien l'appliquer d'une autre façon. H va de soi que l'invention n'a été décrite qu'à titre illustratif, mais non limitatif, et qu'elle est susceptible de diverses variantes en-15 trant dans son cadre et d'ans son esprit. 71 40313 4 10 2113898 RÉVMD:iCÀTI(K3 ■ I - Procédé pour produire des pellicules "à partir d'une poudre de chlorure de polyvinylè contenant au moins 90 de o^ôS^ure de vinyle polymérisé et qui ne fond pas pour former une pellicule lorsqu'on soumet cette poudre 5 à un chauffage en l'absence d'une pression, caractérisé en ce qu'on dépose une couche de cette poudre sur un substrat de support et l'on soumet cette couche de poudre sur le substrat à l'action d'une vapeur d'un ou plusieurs solvants organiques ayant une température excédant 100° C, le substrat ayant une température inférieure à la température de la vapeur afin de provoquer 10 une condensation de la vapeur du ou des solvants sur ce substrat ce qui soumet simultanément la couche de poudre à l'action de la vapeur chaude du ou des solvants organiques et à l'action du liquide qui se condense pour provoquer la fusion et la coalescence des particules de la poudre en une pellicule continue et non poreuse. 15 2 - Procédé selon la revendication, 1, caractérisé en ce que la vapeur du ou des solvants est essentiellement saturée. 3 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la vapeur du ou des solvants organiques présente une température excédant 115° C. v 4 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le solvant 20 organique comprend une cétane à point d'ébullition élevé. 5 - Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que la cétone est la 4-méthaxy-4-méthyl-pentanane-2 ou pentoxone. 6 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le solvant organique comprend un monomère non saturé à point d'ébullition élevé. 25 7 - Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'en fait bouil lir le monomère non saturé en présence d'un inhibiteur de polymérisation sensiblement non volatil pour fournir la vapeur de solvant. 8 - Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'on choisit le monomère non saturé dans l'ensemble constitué par le styrène, le vinyl- 30 toluène et le méthacrylate de méthyle. 9 - Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que les vapeurs de solvants organiques sont un mélange de styrène ou de vinyl- toluène, d'une part, et de méthacrylate de méthyle,d'autre part. .. « 10 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on préchauf- 35 fe le substrat jusqu'à une température inférieure de 10 à 25° G à-la température de la ou des vapeurs. II - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le chlorure de polyvinylè homopolymère contient au moins 98 % en poids de chlorure de 40313 11 2113828 vinyle polymérisé et ne comprend pratiquement pas de plastifiant qui permet--trait la fusion de la poudre lorsqu'on la soumet a l'action d un chauffage en l'absence d'une pression. 12 - Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que la poudre 5 de chlorure de polyvinylè homopolymère a absorbé un monomère polymérisable. 13 - Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que le monomère polymérisable est absorbé avec un catalyseur de polymérisation du type peroxyde. 14 - Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce qu'on choisit 10 le monomère polymérisable dans l'ensemble constitué par un composé monovinyl- aroraatique, le méthacrylate de méthyle ou un polyacrylate ou polyméthacry-late. 15 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on sou-net la couche de poudre à l'action de la vapeur du ou des solvants pendant une 15 période comprise entre environ 10 et environ 80 secondes. 16 - Procédé pour revêtir des substrats métalliques à l'aide d'une poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère qui ne fond pas pour former une pellicule lorsqu'on soumet cette poudre à l'action d'un chauffage en l'absence d'une pressiOQ/^ara^érfse"enece^qu^'on'fait'adhérer par un mécanisme 20 électrostatique cette poudre sur le substrat métallique pour y former -une couche de poudre adhérente, on immerge le substrat comportant cette couche de poudre adhérente dans un bain de vapeur de solvant organique^essentielle-ô"fc ment saturée/ayant une température de 100 à 300° C, le substrat ayant une température inférieure d'au moins 10° C à l'a température de la vapeior pour 25 provoquer la condensation de la vapeior du solvant sur le substrat et soumettre la couche de poudre à l'action simultanée de la vapeur chaude du solvant organique et à l'action du liquide qui se condense pour provoquer la fusion et . la coalescence des particules de poudre en une pellicule continue et non- poreuse, et l'on enlève du bain le substrat c emportant la pellicule ainsi for-30 mée. 17 - Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que le solvant organique est un monomère polymérisable, à non saturation éthylénique, fourni"- sous forme de vapeur chaude par l'ébullition de ce monomère en présence d'un inhibiteur sensiblement non volatil. 35 18 - Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'on fait bouillir le monomère en mélange avec un solvant organique non polymérisable et présentant un point dfébullition élevé. 19 - -Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que le solvant 71 40313 12 2113898 organique comprend, un mélange de styrène et de méthacrylate de méthyle. 20 - Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère contient du polyacrylate. ou du poly-méthacrylate absorbés. 5 21 - Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que la poudre de chlorure de polyvinylè homopolymère contient m catalyseur absorbé qui engendre des radicaux libres. 22 - Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'on immerge le substrat dans le bain pendant une période comprise entre environ 20 et 10 environ 60 secondes.