Brevet FR2111854A1 — publié le 19720609

L'invention concerne un dispositif composite à semiconducteur dont les différents éléments sont assemblés dans un corps semiconducteur monocristallin unique et dans lequel il est prévu av. moins un canal polycristallin traversant 5 une zone B monocristalline, qui s'étend jusqu'à la surface semi-conductrice, et servant pour l'établissement des contacts avec une zone A située à l'intérieur du corps semiconducteur, ce canal ayant le même type de conductivité que la zone A et s'étendant jusqu'à la surface semiconductrice. 10 De tels dispositifs sont connus dans certains circuits intégrés comportant des couches désignées sous l'appela-tion de "couches enrobées" (voir par exemple "Electronics" 17 mars 1969, page 185/186). Les transistors planar contenus dans de tels circuits présentent parfois un collecteur qui est contacté 15 sur la même face du cristal semiconducteur que la zone de base et la zone d'émetteur. Pour cette raison, le collecteur de tels transistors aboutit à une zone dissimulée à l'intérieur du corps semiconducteur du dispositif composite (nar conséquent, pour ainsi dire, une zone "enterrée") et ayant le type de conductivité du 20 collecteur, cette zone étant de son côté contactée par un canal polycristallin qui s'étend transversalement à travers la zone du collecteur jusqu'à sa surface au voisinage de la jonction base-collecteur et qui possède le type de conductivité de la zone "enterrée". 25 A présent, le problème de l'établissement des contacts dans des circuits intégrés complexes est la cause de restrictions sévères pour des raisons topologiques. Par conséquent, on est contraint de faire passer dans "différents plans" les voies conductrices nécessaires pour contacter les différents élé-30 ments dans le circuit. En pratique, cela signifie que l'on dépose une première couche isolante, en particulier une couche de SiO2, sur la surface semiconductrice et que cette couche sert de support d'une première partie des voies conductrices prévues. Cette couche isolante est ensuite, y compris les voies conductrices qu'elle 35 porte, recouverte par une deuxième couche isolante, qui est alors munie par une autre partie des voies conductrices. Les couches isolantes concernées ne sont alors percées jusqu'à la surface sous-jacente respective que lorsque l'on désire établir une connexion électrique entre les différents "plans d'établissement des 40 contacts" ou avec les électrodes sur la surface semiconductrice. 71 38180 2 2111854 Si on voulait multiplier les possibilités d'établissement de« contacts dans un circuit intégré, de la façon décrite, d'autres possibilités seraient toutefois encore souhaitables. Une possibilité serait la pose libre de fils de contact qui 5 cependant ne peut pas être prise en considération pour de nombreuses raisons connues ; une limite s'impose rapidement à l'emploi de différents plans de contact. Ceci est simplement dû au fait que, dans le cas des couches isolantes en matériau minéral, en particulier Si02, prises en considération exclusivement pour des 10 raisons technologiques, un nombre quelconque de ces couches ne peut pas être déposé sans que le dispositif à semiconducteur et les voies conductrices ne subissent une détérioration notable par suite du traitement thermique devant être utilisé chaque fois. Enfin, la possibilité quelquefois utilisée 15 d'un établissement des contacts dit "interne",par des couplages parasitaires de zones contigues possédant le même type de conductivité et appartenant à différents éléments, n'offre aucune solution utilisable. L'invention se propose donc de remédier à ces inconvénients. 20 Pour cette raison, l'invention a pour point de départ le dispositif composite à semiconducteur, défini plus haut, et lui donne une forme de réalisation particulière appropriée dans laquelle la zone A et le canal polycristallin la contactant ont le type de conductivité opposé par rapport aux zones monocris-25 tallines formant leur limitation et forment la partie constituante de la connexion électrique de deux éléments du dispositif. Un tel disposi.tif peut, par exemple, être réa-• . lisé en reliant de façon conductrice au moins une électrode des éléments dans le circuit intégré, ces éléments devant être reliés 10 électriquement entre eux, par l'intermédiaire d'une voie conductrice (isolée pnr rapport au corps semiconducteur à l'exception des zones de contact), avec une électrode contactant le canal polycristallin et/ou la zone A. Une autre possibilité prévoit le contact électrique entre la zone A et/ou le canal polycristal-35 lin à l'intérieur du corps semiconducteur en mettant une zone semiconductrice d'au moins un des éléments du circuit intégré devant être reliés électriquement entre eux, (cette zone semiconductrice présentant le type de conductivité de la zone A et du canal) en contact direct avec la zone A et/ou un canal polycris-^0 tallin dérivant de celle-ci. COPY 71 38180 3 2111854 La fabrication de la zone A s'effectue de façon appropriée suivant le procédé connu utilisé pour la réalisation de "couches enrobées" : on part d'une pastille monocristalline de silicium possédant un certain type de conductivité, on la 5 recouvre avec un masque de diffusion, connu dans la technique planar, et on fabrique une zone superficielle, fortement dopée, ramifiée le cas échéant, possédant un type de conductivité opposé au précédent, précisément la zone A. Cette zone superficielle et son entourage sont alors recouvertes de façon connue par une 10 ou plusieurs couches principalement monocristallines, du même matériau semiconducteur. Ces couches épitaxialss reçoivent le type de conductivité du matériau de base et donc le type de conductivité opposé comme la zone A. Dans cette couche épitaxiale, on fabrique main-15 tenant des canaux polycristallins à partir de la zone A qui ont le type de conductivité de cette zone et qui s'étendent jusqu'à la surface de la zone épitaxiale. On peut indiquer plusieurs possibilités à cet effet : 1.- Fabrication simultanée avec la couche épitaxiale : 20 Si l'on introduit après la fabrication de la zone A e-t avant le dépôt de la couche épitaxiale recouvrant la zone A et son entourage, une impureté superficielle déterminée, à l'endroit du canal polycristallin devant être fabriqué , le matériau semiconducteur recouvrant cette impureté sera polycristallin par op-25 position au matériau déposé sur les endroits de la surface du substrat ne présentant pas d'impuretés, Ce canal polycristallin s'étendant jusqu'à la surface de l'a couche épitaxiale. La modification du dopage du canal s'effectue par diffusion de substance dopante fournie par la phase gazeuse 30 et on vérifie que la vitesse de diffusion, dans le canal polycristallin, est dans tous le« cas plusieurs fois supérieure à la vitesse de diffusion dans les zones monocristallines. XI sera approprié de combiner ce procédé de modification du dopage du canal polycristallin à un procédé de 35 diffusion servant à la fabrication des éléments dans le circuit intégré, le masque de diffusion à utiliser ne recouvrant pas dans ce cas la surface libre du/ou des canaux polycristallins contactant la zone A (un canal polycristallin de contact disposé à la périphérie de la couche épitaxiale permet une modification du do-^0 page particulièrement rapide et radicale). Le processus de modifi- CDPV 71 38180 k 2111854 cation du dopage pour les canaux polycristallins e«t mis en oeuvre jusqu'à ce qu'une connexion parfaite, de faible valeur ohrai-que, soit réalisme entre la surface libre du canal polycristallin et la zone A. C'est pourquoi, pour contrôler cet état, il peut 5 être approprié de réaliser au moins deux canaux polycristallins reliant la zone A avec la surface de la couche épitaxiale. Une obtention déterminée d'impuretés à la surface de la zone A est possible, par exemple à l'aide d'un dépôt localisé par vaporisation d'une substance étrangère minérale, 10 en particulier une substance dopante qui, de façon avantageuse, détermine le type de conductivité de la zone A. Le dépôt par vaporisation peut-être réalisé en utilisant un masque de protection contre la vaporisation, constitué par une laque photosen sible. Si, après l'élimination du masque de protection contre la 15 vaporisation, on dépose à présent, à partir de la phase gazeuse, un matériau semiconducteur monocristallin à la surface du substrat ainsi préparée, le matériau déposé deviendra polycristallin aux endroits de la surface du substrat portant la couche de substance étrangère (qui présente au maximum une épaisseur atteignant o 20 seulement quelques A), à l'opposé du matériau situé aux autres endroits de la surface du substrat. On peut utiliser du silicium comme germe pour la croissance polycristalline ultérieure, dans des conditions de vaporisation appropriées. 2.- Fabrication des canaux polycristallins par dépôt localisé 25 pnr fusion de la couche monocristalline déposée à la surface de la zone A. Pour la fusion, on utilise de façon appropriée un faisceau électronique fin, commandé de façon déterminée, ou un faisceau laser, qui fait fondre la couche épitaxiale à des endroits dis-30 crets isolés. Dans le but de faire solidifier sous la forme de polycristaux ces endroits de substance fondue, on peut les recouvrir par vaporisation avec une couche de substance étrangère, par exemple du SiÛ2 qui est favorable à la formation de germes et qui peut être à nouveau ultérieurement facilement éliminée, et on peut 35 faire solidifier ensuite les endroits de substance fondue sous-jacents î la couche de formation des germes peut aussi être constituée par exemple par une substance dopante déterminant le type de conductivité de la zone A. Une technique avec la laque photosensible,au moyen de laquelle on 40 réalise un masque de protection contre la vaporisation, est néces 71 38180 5 2111854 saire pour une production déterminée d'impuretés qui sont à l'origine de canaux polycristallins. Ce masque recouvre la surface du substrat en dehors du ou des endroits à la surface de la zone A, à partir du ou desquels un ou les canaux polycristallins doivent 5 provenir. En utilisant ce masque de protection contre la vaporisation, on dépose alors par vaporisation une couche de substance qui est suffisamment mince pour rendre polycristallen le matériau semiconducteur déposé sur elle, et être ensuite complètement dissoute par le matériau semiconducteur polycristallin,jus- 10 qu'à disparaître. L'épaisseur de cette couche est par conséquent o au maximum de quelques A. Il est particulièrement approprié aue cette couche soit constituée par une substance dopante qui fournit le type de conductivité de la zone A. A l'exception du bore, de 15 telles substances dopantes peuvent être vaporisées à des températures relativement faibles. 3Fabrication des canaux polycristallins par conversion locale du matériau de la couche épitaxiale. dé.jà déposé sous forme de monocristaux. 20 Dans ce but, on fera fondre localement le matériau,déposé sous la forme de monocristaux de la couche épitaxiale au-dessus de la zone A, jusqu'à la profondeur de cette zone, et on fera à nouveau solidifier,sous la forme de polycristaux, le matériau fondu. La fusion s'effectue de façon appropriée à l'aide d'un 25 faisceau électronique ou d'un faisceau laser fin, dont le déplacement , au-dessus de la couche épitaxiale, est commandé. De façon appropriée, on maintient la pastille semiconductrice à une température élevée, ce qui facilite la fusion locale, Afin de solidifier, sous là forme de polycristaux, le matériau fondu, on dépose 30 par vaporisation sur sa surface une couche constituée par un matériau de substance étrangère et pouvant être à nouveau facilement éliminée ultérieurement ; la dite couche agissant comme germe de cristallisation sur le matériau fondu localement. Par exemple, on peut déposer dans ce but, par vaporisation, une couche 35 mince de SiO^. La modification du dopage des canaux s'effectue de la façon décrite dans la première possibilité. 4.- Fabrication des canaux polycristallins par vaporisation locale de la couche épitaxiale recouvrant la zone A et remplissage des trous engendrés dans la couche épitaxiale. avec un 40 matériau polycristallin. 71 38180 6 2111854 Par vaporisation locale de la couche épitaxiale, des trous sont créés dans celle-ci ; ces trous s*étendant jusqu'à la zone A. Pour celà, on peut utiliser de même des faisceaux électroniques fins ou des faisceaux laser. En outre, la 5 surface restante de la couche épitaxiale est recouverte de façon appropriée par un masque qui peut être constitué par exemple par SiOg ou Si^N^. Les trous sont alors remplis avec un matériau polycristallin déposé à partir de la phase gazeuse. Un dépôt polycristallin est, comme on sait, possible à de faibles températures 10 correspondantes. En outre, le gaz réactif est réglé de la façon usuelle,dans "l'épitaxie à travers un masque",connue, de sorte qu'en réalité le dépôt sur la surface semiconductrice - mais pas sur le masque recouvrant la surface semiconductrice à l'extérieur des trous formés par la vaporisation- est possible. Le matériau 15 polycristallin déposé dans les trous de la couche épitaxiale peut, par un choix convenable du gaz réactif, déjà prendre le dopage de 1b zone A. Il est tout-à-fait possible de faire partir d'une zone A plusieurs canaux polycristallins qui, dans ce cas, 20 après avoir traversé le matériau contigu à la zone A du type de conductivité opposé et de nature monocristalline, conduisent respectivement à des zones à contacter,appartenant respectivement à d'autres éléments du circuit intégré du type de conductivité de la zone A. D'autre part, il est possible de prévoir plusieurs 25 zones A qui sont du même type de conductivité et peuvent être reliées par une connexion conductrice par l'intermédiaire d'au moins un canal polycristallin. De plus, il est possible de prévoir deux zones A dopées de manière opposée avec des canaux polycristallin dopés de façon correspondante ; l'une de ces deux 30 zones A servant à contacter plusieurs zones conductrices du type n,tandis que l'autre zone sert à contacter plusieurs zones conductrices du type p des différents éléments prévus dans le circuit intégré. A titre d'exemple, on a décrit ci-dessous et illustré au dessin 35 annexé une forme de réalisation du dispositif suivant l'invention. Sur la facé plane d'une plaquette monocristalline de silicium 1, on réalise tout d'abord une zone superficielle A^ à conductivité de type p, fortement dopée (fig. l). Pour fabriquer cette zone, on peut utiliser n'importe quel processus 40 connu de modification du dopage, dans lequel la structure mono 71 38180 7 2.111854 cristalline à la surface de la zone 1 n'est pas perturbée. Par exemple, on peut utiliser, dans ce but, une diffusion ou une épi-taxie masquée (entre autres également, une épitaxie masquée à partir de la phase gazeuse). La figure 1 représente l'état obtenu 5 après l'élimination des masques éventuellement utilisés. La zone 1 peut aussi recouvrir, le cas échéant, toute la surface de la plaquette 1. Sur la surface de la plaquette 1 pourvue de la zone superficielle A^, on dépose alors de façon connue une couche 10 continue 2 de silicium monocristallin à conductivité de type n„ En utilisant l'une des possibilités décrites ci—dessus de fabrication des canaux polycristallins, on munit alors la couche épitaxiale 2 d'au moins un canal polycristallin 3» fortement dopé du type p, et partant de la zone A^, ce canal conduisant de la 15 zone A^ jusqu'à la surface libre de la couche 2. Cet état est représenté en figure 2e La couche épitaxiale 2 est, par exemple, di-mensionnée de telle sorte que son volume est suffisant pour la création d'éléments de circuits fonctionnels tels que,par exei-20 pie, des diodes ou des transistors. On prévoit par exemple deux éléments 4 et 5 de cette ^orte. Ils comportent par exemple des zones à conductivité de type p qui jouxtent le matériau à conductivité de type n de la couche 2. Le^ zones concernées à conductivité de type p des éléments 4 et 5 sont reliés respectivement par voie conductrice au moyen des canaux de surface 6 et 7 à conductivité de type p aux endroits où les canaux polycristallins 3 atteignent la surface de la couche 2. Par conséquent, une liaison conductrice entre les zones, à conductivité de type p, des éléments k et 5 est fabriquée à travers la zone A^, bien que celle-ci ne soit pas en contact direct avec chaque zone à conductivité de type p des éléments k et 5 (Fig.3)« Il est possible d'envisager, à partir du dispositif conforme à la figure 2, une autre forme de réalisation dans lrquelle est présent.maintenant en plus du système des con-35 tacts à conductivité de type p et constitué par la zone A^ et les canaux polycristallins 3» un autre système de contact analogue mais à conductivité de type n. Dans ce but, on réalise à la surface de la zone à conductivité de type n d'un dispositif conformeà celui de la figure 2, à l'extérieur des endroits où les canaux polycristal- 71 38180 8 2111854 lins à conductivité de type p atteignent la surface de la zone 2, au moins une zone superficielle fortement dopée du type n. Cet état est représenté sur la figure 4. Le dispositif est alors recouvert, sur la face pourvue de la zone superficielle A^> d'une 5 couche 8 épitaxiale monocristalline à conductivité de type p. Des canaux polycristallins 9» partant de la zone superficielle A,,, sont alors réalisés dans cette couche 8, ces canaux étant du type n+ et atteignant la surface libre de la zone 8 (Fig.5). Ils sont utilisés pour l'établissement des contacts des zones à conducti-10 vité de type n de composants qui sont réalisés dans la zone 8, de la même façon que les éléments 4 et 5 dans la zone 2. Dans ce cas, également, la zone 2,pour le circuit,peut contenir des éléments essentiels dont la surface est ensuite recouverte par le matériau à conductivité de type p de la zone. Cependant, le cir-15 cuit intégré est principalement réalisé dans la couche 8. Il est évident que le type de conductivité des zones, des exemples de réalisation décrits, peut être remplacé sans difficulté par le type de conduction opposé. Si des contacts quelconques entre des zones 20 du type de conductivité des zones A^ ou A^ d'éléments isolés et les 7ones A^ ou A,,, doivent être réalisés, on effectue alors les diffusions correspondantes servant à la fabrication de ces zones, de manière que ces dernières se trouvent soit en contact avec la zone A^ ou la zone Asoit avec un canal 3 ou 9 polycristallin 25 contactant ces zones. Les canaux 3 polycristallins à conductivité de type p se poursuivent dans le matériau à conductivité de type p de la zone 8, étant donné que leur surface agit comme germe d'impureté pour le processus épitaxial, lors de la fabrication de la 30 zone 8. Par suite de sa caractéristique polycristalline, le prolongement 10 des canaux 3 dans la zone 8 épitaxiale, à conductivité de type p, attire plus fortement la substance dopante. En outre, il est possible,à l'aide d'un processus de diffusion ultérieur, par exemple un processus de diffusion servant à la fabri-35 cation des zones à conductivité de type p du circuit intégré, d'augmenter le dopage de ces prolongements, de sorte que ceux-ci, en premier lieu, sont conducteurs du courant, tandis que les autres parties de la zone épitaxiale 8 ne sont que faiblement dopées,de la même façon que celles de la zone 2. 40 Dans l'exemple de réalisation,suivant la figu- 71 38180 9 2111854 re 5, il n'est pps prévu de connexion polycristalline entre les zones et Ag. On a donc deux systèmes des contacts électriques séparés l'un de l'autre, à l'intérieur du dispositif composite à semiconducteur, qui peuvent être utilisés comme croisement de 5 conducteurs,situé loin de la surface. Les connexions conductrices créées de plus par les canaux polycristallins sont conçues en premier lieu pour conduire le courant continu ou des courants de basse fréquence. L'utilisation de courants de haute fréquence est moins indiquée en raison de fcouplages capacitifs trop grands. 10 De plus, lors du fonctionnement des conducteurs et également lors de la construction des circuits intégrés, il faut faire attention à ce que les canaux polycristallins et les zones A, qui sont en liaison avec ceux-ci, ne puissent pas être polarisés en direct, par rapport à leur environnement à conductivité de type n. 15 Dans le cas où aucun contact direct n'est pré vu entre des zones d'éléments isolés dans le dispositif composite à semiconducteur et un canal polycristallin présentant la conductivité de la zone concernée à contacter ou la zone A, le canal polycristallin en question peut, par exemple, à l'endroit où il 20 atteint la surface semiconductrice avec une plage de contact, être pourvu d'une électrode incorporée par alliage ; une connexion métallique isolée par rapport au corps semiconducteur conduit alors de cette plage de contact vers la plage de contact de la zone concernée à contacter. Ceci est mis en évidence à l'aide 25 d'une autre forme de réalisation du dispositif représenté en figure 5. De plus amples détails sont représentés sur la figure 6, , sous une forme simplifiée. Dans ce but, la surface de la zone 8 à conductivité de type p est recouverte d'une couche isolante 9> par exemple en Si02 déposée par voie pyrolithique. 3a A chaque coin de la zone 8, on réalise respec tivement, dans la forme de réalisation donnée en exemple, un élément d'un circuit intégré qui peut être constitué par un certain nombre de zones à types de conductivité différents, montées avec imbrication réciproque. Les détails relatifs à cela 35 ne sont pas représentés, mais seules les limites de ces éléments 11, 12, 13 et 14 sont représentées. La couche isolante 9 s'étendra en général aussi au-dessus de« zones superficielles de ces éléments 11 à 14, afin de protéger tout particulièrement leur jonction. Un certain nombre de zones de contact de ces éléments 40 est ensuite mis à nu conformément à la fabrication usuelle de 71 38180 10 2111854 tels éléments suivant la technique planar. Ces zones peuvent être recouvertes par des électrodes. Dans la forme de réalisation donnée en exemple, seule une électrode est représentée pour chaque élément. Ler électrodes sont désignées par 15,16, 17 et 18. De 5 plus, dnns la couche d'oxyde 9» sont ménagés des endroits où les canaux polycristallins 9 ©t 10 atteignent la surface de la zone 8 Les électrodes 15-18 sont maintenant reliées respectivement à ces canaux polycristallins au moyen respectivement de voies conductrices 19, 20, 21 et 22 qui sont portées par la couche d'oxyde 9. 10 De cette manière, l'électrode 15 de l'élément 11 est reliée à l'électrode 17 de l'élément 13» dans le dispositif représenté sur la figure 6. La connexion électrique est formée de la voie conductrice 19» du canal polycristallin 9 à conduc tivité de type n, de la zone du deuxième canal 9 à conductivi 15 té de type .n+ et de la voie conductrice 21. D'autre part, l'électrode 16 de l'élément 12 e^t reliée à 1'électfcode 18 de l'élément lk. La connexion électrique se compose de la voie conductrice 20, d'un premier prolongement 10 du canal polycristallin à conductivi té de type p, d'un canal polycristallin à conductivité de type p 20 3, de la zone , d'un deuxième canal polycristallin 2, d'un prolongement 10 de ce canal et d'une voie conductrice 22. Les systèmes conducteurs,se croisant à l'intérieur dii dispositif et se composant de ces parties, peuvent être multipliés sans difficultés en utilisant plusieurs zones confor-25 mément aux zones 2 et 8 dans la figure 8. Elles peuvent être disposées du même côté ou du côté opposé de la pastille semiconductrice 1. En outre, la zone 2 et la zone A^ peuvent aussi avoir le type de conductivité opposé par rapport au cristal 1. La zone A2 et la zone 8 doivent alors avoir le type de conductivité du 30 cristal 1. XI faut encore mentionner une forme de réalisation avantageuse de l'invention, que l'on obtient lorqu'on pour suit les processus de diffusion ou autres procédés nécessaires pour le dopage de canaux polycristallins, jusqu'à ce que la jonc-35 tion d'un type de conductivité,ou type de conductivité opposé, se trouve à l'extérieur du canal polycristallin. On obtient ainsi une réduction supplémentaire des couplages indésirables. 71 38180 2111854 REVENDIC ATIONS 1.-Dispositif composite à semiconducteur dont les différents éléments sont assemblés dans un corps semiconducteur monocristallin unique et dans lequel il est prévu au moins un canal poly-5 cristallin traversant une zone B monocristalline, qui s'étend jusqu'à la surface semiconductrice, et servant pour l'établissement des contacts avec une zone A située à l'intérieur du corps semiconducteur, ce canal ayant le même type de conductivité que la zone A et s'étendant jusqu'à la surface semiconductrice, carao 10 térisé par le fait que la zone (A^) et le canal polycristallin (3) la contactant ont le type de conductivité opposé par rapport aux zones monocristallines formant leur limitation et forment la partie constituante de la connexion électrique de deux élément du dispositif. 15 2,- Dispositif composite à semiconducteurs suivant la revendication 1 caractérisé par le fait qu'un canal polycristallin conduisant à la zone A est pourvu d'une électrode et qu'il est prévu, entre cette électrode et une électrode d'un des éléments dans le dispositif composite, une voie conductrice isolée par rapport à 20 la surface semiconductrice. 3.- Dispositif composite à semiconducteurs suivant l'une des revendications 1 ou 2 caractérisé par le fpit qu'il est prévu entre une zone à contacter d'un élément du dispositif et la zone A et/ ou le canalpolycristallin la contactant, un contact direct à l'in 25 térieur du corps semiconducteur. 4.- Dispositif composite à semiconducteurs suivant l'une des revendications 1, 2 ou 3» caractérisé par le fait que plusieurs canaux polycristallins partent d'une zone A en direction de différents éléments du dispositif. 30 5.- Dispositif composite à semiconducteurs suivant l'une des revendications 1, 2, 3 ou 4, caractérisé par le fait que le changement du type de conductivité entre les canaux polycristallins et les zones monocristallines les entourant a lieu à l'intérieur des zones monocristallines. 35 6.- Dispositif composite à semiconducteurs suivant l'une des revendications 1, 2, 3» 4 ou 5» caractérisé par le fait qu'il est prévu au moins deux systèmes, constitués pnr la zone A et des canaux polycristallins et ne présentant l'un avec l'autre aucune connexion directe à l'intérieur du corps semiconducteur. 40 7.- Dispositif suivant l'une des revendications 1, 2, 3, 4, 5 ou 71 38180 12 2111854 caractérisé par le fait qu'au moins une zone A plane à conductivité de type p et au moins une zone A plane à conductivité de type n s'étendent parallèlement à une face plane du cristal semiconducteur du dispositif composite sans connexion entre elles, que 5 les deux zones A sont situées à des distances différentes de cette face plane, que de plus la zone A à conductivité de type p (zone A^) et la zone A à conductivité de type n (zone A.^), considérées à partir de la face plane nommée, se croisent, qu'au moins un canal polycristallin du type de conductivité de la zone A s'étend 10 depuis les parties de ces zones situées au-dessus des points de croisement, respectivement jusqu'à la dite face plane, et enfin, que chacun de ces canaux polycristallins est relié de façon conductrice avec une zone à contacter d'un composant à semiconducteur du dispositif composite. 15 8.- Procédé de fabrication d'un dispositif composite à semiconducteur suivant l'une des revendications 1,2,3,4,5»6 ou 7» caractérisé par le fait qu'on fabrique les zones A par diffusion à la surface d'un corps semiconducteur monocristallin et présentant le type de conductivité opposé, qu'on les recouvre ensuite par une 20 couche épitaxiale monocristalline du type de conductivité du substrat et qu'on réalise, dans cette couche épitaxiale, au moins un canal polycristallin du type de conductivité de la zone A. 9.- Procédé suivant la revendication 8, caractérisé par le fait que les canaux polycristallins sont fabriqués simulténément avec 25 la couche épitaxiale raonocristalline recouvrant la zone A, en créant des zones d'impuretés déterminées localement à la surface de la zone A et en déposant la couche épitaxiale sur la surface ainsi préparée de la zone A et de son environnement, dans des conditions dans lesquelles le matériau semiconducteur déposé sur la 30 surface non munie d'impuretés du dispositif croît sous la forme de monocristaux» 10.- Dispositif suivant la revendication 9» caractérisé par le fait que les impuretés locales sont créées par dépôt par vaporisation d'une mince couche de substance étrangère, en particulier 35 d'une substance dopante fournissant le type de conductivité de la zone A. 11.- Procédé suivant l'une des revendications 8,9 ou 10, caractérisé par le fait que les canaux polycristallins résultent d'une fusion localisée de la couche déposée, d'abord sous un état mono- ko cristallin, sur la zone A et sur son environnement en réalisant 71 38180 13 211.1854 après la fusion locale de cette couche jusqu'à la zone A recouverte par cette couche, la recristallisation de la zone fondue sous l'influence de germes d'impuretés déposées artificiellement. 12.- Procédé suivant la revendication 11, caractérisé par le fait 5 que, après la fusion, la partie fondue est ensuite recouverte par vaporisation avec une couche mince de substance étrangère, par exemple SiOp, et est ensuite amenée à solidification. 13.- Procédé suivant l'une des revendications 8, 9, 10, 11 ou 12, caractérisé par le fait que les canaux polycristallins résultent 10 d'une vaporisation locale de la couche épitaxiale recouvrant la zone A et du remplissage des trous engendrés qui s'étendent jusqu'à la zone A, avec le matériau polycristallin. 14.- Procédé suivant la revendication 13, caractérisé par le fait que le dépôt du matériau remplissant les trous dans la couche 15 épitaxiale est réalisé à des températures pour lesquelles ce matériau se présente obligatoirement à l'état polycristallin.