Brevet FR2133728A1 — publié le 19721201

La présente invention concerne une composition convenant pour constituer la couche de réception d'encre d'une plaque de tirage présensibilisée, ainsi qu'une plaque de tirage en comportant, entre autres applications. 5 Le brevet des Etatc-Unis d'Amérique n° 3 136 637 décrit une plaque lithographique présensibilisée comportant une couche de résine diazo photosensiole sur laquelle se trouve une couche de résine organophile laissant passer le rayonnement actinique. Lorsqu'on expose cette plaque, on insolubilise la 10 résine diazo frappée par la lumière. On révèle la plaque en éliminant la résine diazo qui n'a pas été frappée par la lumière et la couche de résine organophile la recouvrant. Pour éliminer sélectivement la résine diazo non exposée, il faut tout d'abord utiliser un révélateur qui doit aussi rapidement 15 que possible (1) pénétrer à travers la couche organophile sans la dissoudre, de façon à atteindre la couche de résine diazo, et (2) dissoudre la résine diazo sous-iacente non exposée. Une fois la résine diazo non exposée dissoute, on peut éliminer la résine orrancphile "recouvrant la résine diazo dis-20 soute par frottement ou essuj'age léger. Les révélateurs qui possèdent ce double rôle ramollissent cependant inévitablement la totalité de la couche organophile. Lorsqu'on retire la résine diazo non exposée en frottant la surface de la plaque, on élimine non seulement la couche de 25 résine organophile située au-dessus de la résine diazo dissoute, mais éventuellement une partie de la résine organophile recouvrant la résine diazo exposée, du fait que la totalité de la résine organophile est ramollie. Cette perte de résine organophile dans les zones d'image provoque bien entendu une 30 diminution de la durée d'utilisation et de la définition des images dans les copies obtenues à partir d'une telle plaque. Selon la présente invention, on incorpore la résine diazo et la résine organophile dans une même couche, ce qui évite ^.d'utiliser un révélateur pouvant pénétrer la couche de résine 35 organique provoquant les problèmes précités. Ainsi, dans un mode de réalisation de l'invention, une composition organophile oléophile convenant entre autres comme surface de réception d'encre d'une plaqae de tirage, est constituée d'un mélange d'une résine de polyamide et d'une résine diazo photo 72 13152 2 2133728 sensible mutuellement solubles présentes en proportions suffisantes pour qu'on obtienne un revêtement sec constitué d'au moins 50% en poids de la résine diazo et d'au plus 50? en poids e-nviron de la résine de polyamide. En général, le revê-5 tement sec est constitué d'une proportion prépondérante de résine- diazo et d'une proportion moindre de la résine de polyamide, de préférence de plus d'environ 50% à environ 90% de la résine diazo et de 10% à moins de 50% environ de la résine de polyamide. On préfère que les proportions du mélange 10 soient telles que le revêtement sec soit constitué d'environ 60% à environ 70% en poids de résine diazo et d'environ 30% à environ 40$ en poids de résine de polyamide. Dans un autre mode de réalisation, une plaque de tirage est constituée d'un substrat de dimensions stables ayant une 15 surface hydrophile passivée, recouverte d'un revêtement d'une composition hydrophobe organophile constituée d'un mélange • homogène d'une résine diazo et d'une résine de polyamide mutuellement solubles, la résine diazo et le polyamide étant présents dans les concentrations précitées. 10 Les compositions organophiles décrites .ci-dessus sont dures, résistent à 1'abrasion et ont une résistance améliorée aux altérations provoquées par la chaleur et l'humidité. De plus, ces compositions, lorsqu'elles constituent un revêtement à la surface d'une plaque de tirage, peuvent être 25 révélées par des milieux qui attaquent pratiquement exclusivement leurs portions non exposées sans provoquer aucun ramollissement ni affaiblissement des portions exposées. Les brevets des Etats-Unis d'Amérique n° 2 826 501 et n° 3 201 247 décrivent des mélanges de résine diazo photo-30 sensible et de résine de polyamide constituant des revêtements organophiles pour plaques de tirage. Cependant, ces deux brevets indiquent que les constituants du composé de revêtement doivent être présents dans .certaines proportions . devant Strç respectées strictement, lé rapport pondéral de 35 la résine diazo à la résine de polyamide étant de 1 à 9. Ceci contraste avec la composition-de l'invention, qui nécessite une quantité prépondérante de la résine diazo par rapport à la résine de polyamide. De plus, alors que les brevets précités décrivent l'application après développement d'une 72 13152 3 2133728 émulsion de laque, la composition de l'invention fournit une plaque prête au tirage, ne nécessitant absolument pas de traitements ultérieurs. Des substrats appropriés pour la composition de l'inven-5 tion sont le papier, les pellicules de polymères tels que les polyesters comme l'acétate de polyvinyle, les textiles tels que la soie, les métaux tels que le zinc, le cuivre, l'aluminium et le verre. Avant d'appliquer la composition de revêtement à la surface d'un tel substrat en lithographie, 10 il est généralement nécessaire de passiver la surface pour éviter une interaction nuisible entre la surface et la résine diazo. Ces traitements de passivation peuvent également favoriser une bonne adhérence entre les parties du revêtement exposées à la lumière et le substrat, et contribuer à 15 réaliser une surface hydrophile pendant le processus de tirage. On préfère passiver les substrats métalliques selon le traitement au silicate décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2 714 066. D'autres traitements de passivation sont décrits dans les brevets des Etats-Unis d'Amé-20 rique n° 2 946 638 (hexahalogénure de zirconium), n°3 201 247 (traitement au phosphomolybdate) et n° 3 148 984. Des revêtements ayant le même effet sont décrits dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n° 3 l6l 517 et n° 3 196 785. Les résines de polyamide convenant à l'invention sont 25 des matières oleophiles hydrophobes qui sont dures, flexibles et résistantes à l'abrasion. La résine de polyamide et la résine diazo doivent être mutuellement solubles. On entend par mutuellement solubles, le fait que la résine de polyamide et la résine diazo photosensible sont toutes deux 30 solubles dans un milieu ou un système commun qui peut être constitué d'un ou plusieurs ingrédients permettant d'appliquer les deux constituants sur le substrat pour obtenir après séchage un revêtement homogène. On préfère les polyamides solubles dans les alcools. Des exemples de solvants appropriés 35 sont les alcools aliphatiques inférieurs en C^ à Cg, leurs mélanges avec l'eau ou les hydrocarbures chlorés, l'alcool benzylique, l'alcool furfurylique, l'acide formique et le phénol. On préfère des copolymères de caprolactame, le sel * d'hexamëthylènediamine de l'acide adipique et le sel d'hexa- 72 13152 14 2133728 méthylènediamine de l'acide sébacique. Ces copolymères, qu'on peut se procurer dans le commerce sous les noms d'Elvamide 8061, 8062 et 8063, sont solubles dans l'alcool, limpides, incolores, transparents, durs, flexibles, résistants à 1' 5 abrasion, aux moisissures, aux intempéries et possèdent les propriétés physiques suivantes : Méthode des (Nom norme s - ELVAMIDE commercial) ASTH 8061 b062 b063 iîl8ird5offllion D 789 149-160°C l4l-l49°C 157°C Poids moléculaire 20 000 20 000 20 000 Densité à 22,8°C D 742 1,08 1,08 1,08 Absorption d'eau (* en 24 h) D 570 2,0 2,3 3,0 Dureté Rockwell D 785 R 83 R 45 R 14 Résistance à la traction à 22,8°C (bars) D 638 3 356 2 268 1 406 Allongement à 22,8°C D 638 300% 300$ supérieu à 650$ L'Elvamide 8061 (nom commercial) présente una dureté et une résistance à l'abrasion remarquables, l'Elvamide 8062 (nom commercial)une flexibilité remarquable, mais on préfère, 25 dans la mise en oeuvre de l'invention, l'Elvamide 8063 (nom commercial), en raison de sa remarquable stabilité en solution. Les résines diazo qu'on mélange avec la résine de polyamide sont des matières photosensibles insolubles dans l'eau. 30 Les résines diazo doivent être solubles dans un solvant commun, c'est-à-dire mutuellement solubles, avec la résine de polyamide, pour qu'on obtienne un revêtement final constitué d'un mélange homogène intime. La préparation de résines diazo appropriées est décrite dans le brevet des Etats-Unis d'Amé-35 rique n° 2 714 066. Des exemples de sels utilisables du produit de condensation du paraformaldéhyde et de la p-diazo-diphénylamine comprennent les sels de phénol, de l'acide fluorocaprylique, et des acides sulfoniques suivants : l'acide triisopropylnapntalène-sulfonique, l'acide 4,4-bi- 72 13152 5 2133728 phényl-disulfoniqua, l'acide 5-nitro ortho-toluène-sulfonique, l'acide 5-sulfosalieylique, l'acide 2,5-diméthylbenzène-sulfonique, l'acide 2-nitrobenzène-sulfonique, l'acide 1,3,6-naphtalène-trisulfonique, l'acide 3-chlorobenzène-sulfonique, 5 1-acide 3-bromobenzène-sulfonique, l'acide 1-butane-sulfonique, l'acide 2-chloro-5_nitrobenzène sulfonique, l'acide 2,4-di-nitrobenzène-sulfonique, l'acide 2-fluorocaproylnaphatalène-sulfonique, l'acide fluorocaproylsulfonique, l'acide 4-nitro-benzène-sulfcnique, l'acide 2,5-dicnlorobenzène-sulfonique, 10 l'acide 2,4-diméthylbenzène-sulfonique, l'acide l-naphtol-5-sulfonique et l'acide paratoluène-sulfonique. On préfère un sel diazo dérivant du produit de condensation du paraformal-déhyde et de la p-diazophénylamine et de l'acide triisopropyl-naphtalêne-suifonique. 15 En plus de la résine diazo et de la résine de polyamide, la composition de revêtement peut comporter un ou plusieurs additifs qu'on peut déposer en utilisant le même solvant que celui utilisé pour la résine diazo et la résine de polyamide. On préfère comme additifs des colorants solubles dans l'alcool 20 qui forment un contraste visible entre les zones de la plaque exposée frappées par la lumière et les zones non frappées par la lumière et entre les zones d'image frappées par la lumière et la surface passivée de la base lithographique de la plaque révélée. Des colorants appropriés qu'on peut incorporer dans 25 la solution de revêtement avec la résine diazo et la résine de polyamide, sont l'Orasol Navy Blue 2RB, le Violet de méthyle, le Rouge Congo, et le Néozapon Blue HFL, BASF. Ces colorants peuvent être présents en une quantité suffisante pour conduire à une coloration visible après exposition de 30 la plaque lithographique, cette quantité atteignant généralement jusqu'à environ 7 parties pour 100 parties en poids par rapport au poids sec de la couche organophilique. On obtient une certaine amélioration de la résistance à l'abrasion, en ajoutant à la composition de revêtement des matières organo-35 philes telles que des résines époxydes, du chloro-acétate de polyvinyle, du chlorure de vinylidène, de l'acétate de poly-vioyle, de l'éthyl-cellasolve, et de 1'acéto-butyrate de cellulose, ce dernier composant étant préféré. On préfère 1'acéto-butyrate de cellulose commercialisé sous le nom 72 13152 6 2133728 d'EAB272-20, d'Eastman Chemical Products. Des quantités d'additifs résistant à l'abrasion atteignant environ 7 à 8 et de préférence 5 parties pour 100 parties en poids, par rapport au poids sec de la couche organophilique, se sont révélées ^ appropriées. La couche organophile forme une couche unique recouvrant le substrat lithographique qui est hydrophile et passive pour empêcher une interaction nuisible avec la couche organophile, en particulier avec la résine diazo qu'elle contient. On appli-que au substrat la couche organophile sous forme d'une solution et on élimine le solvant par séchage, soit dans les conditions ambiantes, soit à des températures élevées ou des pressions réduites, soit en combinant ces solutions, les conditions étant choisies de façon à ne pas altérer la résine diazo. Un ^ système solvant préféré est constitué d'un mélange 1/1 en poids de 2-mëthoxyéthanol et de n-propanol. D'autres systèmes solvants sont constitués de 2-inéthoxyéthanol et de rnéthanol, de dichlorométhane et de rnéthanol, d'alcool benzylique, et de rnéthanol et d'eau. 2o De façon générale, la durée d'utilisation de la plaque lithographique est proportionnelle au poids du revêtement sec. 2 Des revêtements pesant 220 à 230 mg/m permettent d'obtenir 2 5 000 a 10 000 copies. Un revetement ne pesant que 100 mg/m permet encore d'obtenir une plaque donnant 5 000 copies, si 25 l'on prend normalement soin de maintenir la presse propre et bien réglée. Des revêtements plus lourds, atteignant plusieurs 2 ^ ^ . . centaines de mg/m peuvent etre utilises, avec des expositions bien plus importantes, lorsqu'on désire un nombre de tirages plus élevé. On révèle la plaque selon l'invention en mettant la plaque exposée au contact d'un milieu révélateur constitué d'une solution aqueuse d'un a^ent mouillant. Un milieu révélateur préféré est une solution aqueuse de Duponol ME (nom commercial du sel de sodium du sulfate de lauryle technique). Lorsque la concentration de l'agent mouillant augmente, la durée de révélation diminue. Au-dessus d'une certaine concentration, qui est généralement d'environ 8% en poids dans le cas du Duponol ME, la vitesse de révélation diminue. De plus, la formation de mousse et la gélification augmentent avec la 30 72 13152 7 2133728 concentration de l'agent mouillant. Une gamme appropriée pour la concentration de l'agent mouillant est celle de 0,005% à 30%, de préférence de 0,5% à 30% ; et mieux de à 35? en poids, par rapport au poids total du révélateur. Le revêtement oléo-5 phile non exposé (iaelange de la résine de polyamide et de la résine diazo) est complètement élimine en 15 à 20 secondes sans qu'il y ait pratiquement d'effet nuisible sur les parties non exposées du revêtement. Ceci contraste avec les autres plaques de tirage comportant une surface en polyamide et le révê-10 lateur qu'on utilise dans ce cas. Le révélateur pour revêtement de résine de polyamide et de résine diazo décrit dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n° 2 826 501 et n° 3 201 2^7 précités, qui est constitué de N,N-diméthylformamide, d'alcool furfurylique et d'une petite quantité d'acide citrique, dissout 15 presque 50% du revêtement exposé dans les 5 secondes nécessaires pour éliminer les zones non exposées de façon à développer l'image. Au contraire, la combinaison de la plaque et de la solution aqueuse révélatrice d'agent mouillant préférée de l'invention permet l'élimination complète des régions non exposées 20 • avec une élimination pratiquement nulle ou faible des régions exposées. Des exemples d'autres agents mouillants (détergents et émulsifiants) qu'on peut utiliser en solutions aqueuses pour développer la plaque de l'invention sont l'Alconox (nom com-25 mercial d'un alkyllaurylsulfate de sodium), 1'octylsulfate de sodium, le laurylsulfate d'ammonium, le xylènesulfonate de sodium, le Duponol LS (nom commercial d'un mélange de sulfates de sodium à longue chaîne), le Salvo Laundry Soap (nom co/imer— cial), le Soy Dome Hand Cleaner (nom commercial) et le sel 30 monosodique de la NjN-dihydroxyëthylglycine. Les révélateurs précités sont généralement plus lents que le laurylsulfate de sodium préféré et, dans la plupart des cas, enlèvent une partie des portions exposées (par exemple jusqu'à environ 10# en poids) du revêtement oleophile de résine de polyamide et de résine di-35 azo, en même temps que lc-s parties non exposées, bien que cette action soit moins importante que celle du révélateur décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2 326 501. Il est étonnant que les solutions aqueuses d'agents mouillants aient ce pouvoir révélateur, car le mélange de résine 72 13152 8 2133728 de polyamide et de résine diazo est insoluble dans l'eau avant exposition, tandis qu'après exposition, on peut éliminer totalement les régions non exposées en utilisant les révélateurs aqueux décrits. 5 Du fait des propriétés de développement de la plaque de tirage de l'invention, on obtient des limites nettes, claires et régulières entre les zones d'image et le fond. Du fait que le développement procède d'un phénomène de solubilité à 1' échelle moléculaire,au lieu d'utiliser un ramollissement de 10 la couche d'image, une dissolution de la résine diazo exposée sous-jacente et une élimination physique de la couche d'image, on peut obtenir des résolutions extrêmement élevées. On peut atteindre plus de 2 090 lignes par cm, ce qui est un degré de résolution supérieur à plus de trois fois ce qu'on obtient 15 généralement avec un papier de qualité moyenne. En plus, du fait de la présence d'un pourcentage élevé de résine diazo très oléophile, on peut réaliser un dépôt d'encre plus régulier, ce qui assure non seulement une excellente qualité aux copies, mais permet une plus grande souplesse dans les compo-20 sitions d'encre. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description' détaillée qui suit de quelques exemples et à l'examen des dessins annexés qui représentent à titre non limitatif des modes de réalisation de l'invention. 25 Sur ces dessins : la figure 1 représente une coupe de la plaque lithographique de l'invention avant exposition ; la figure 2 représente la plaque de la figure 1 après exposition ; et 30 la figure 3 représente la plaque de la figure 1 après développement. Comme le montre la figure 1, une plaque lithographique 1 conforte une base 3 portant une surface 5 traitée au silicate sur laquelle se trouve une couche superficielle 7, contenant 35 entre autres une résine diazo photosensible insoluble dans l'eau et stable et une résine de polyamide comme précédemment indiqué, ainsi qu'un colorant qui rend l'image visible après développement. Dans la figure 2, les zones 9 de la couche superficielle 7 72 13152 9 2133728 ont été exposées à la lumière à travers un négatif transparent ou un stencil, ce qui provoque dans les zones 9 une réaction de la résine diazo qui la rend insoluble. Par suite, les zones 9 adhèrent également fortement à la couche de silicate 5 de la 5 plaque 1. Dans les zones non exposées 11 restantes de la couche superficielle 7, la résine diazo n'a pas réagi, et on peut; enlever les zones 11 en utilisant le milieu révélateur aqueux décrit. La figure 3 montre la plaque 1 qu'on a développée en 10 éliminant les zones non exposées 11 jusqu'à la couche de silicate 5. La couche de silicate 5 est hydrophile et oléophobe. Les zones 9 de la couche 7 demeurent après développement. En raison de leur caractère oléophile et hydrophobe, les zones 9 fixent les encres huileuses utilisées classiquement en litho-15 graphie. La plaque 1 illustrée dans la figure 3 est ainsi prête à être utilisée dans une presse lithographique. Dans les exemples suivants, les concentrations des solutions ou des compositions de revêtement, sont exprimées en grammes de matières dissoutes pour 100 g du poids total de la 20 solution. EXEMPLE 1 On prépare une solution de revêtement à 2% de matières solides ayant la composition suivante : Résine diazo : produit de condensation 1,26 g (63% de 25 du paraformaldéhyde et matières de triisopropylnaphta- solides) lène-sulfonate de diazo-diphénylamine Résine de polyamide : (DuPont) Elvamide 0,50 g (25% de 8063 (nom commercial) matières 30 Acéto-butyrate de cellulose (Eastman 0,10 g ( 5% de 272-20, nom commercial) matières solides) Orasol Navy Blue 2RB 0,14 g ( 7% de matières 35 Alcool n-propylique 49 g 2-rjié t h o x y - é 11, a n o 1 49 f. ital de la solution d£ revêtement . \J u » u u 72 13152 10 2133728 10 15 20 25 30 35 Pour des raisons pratiques et pour être sûr que les constituants solides soient en solution, chaque constituant solide, est préparé, conservé et utilisé sous forme d'une solution de départ : Poids de matières Solvant Matières solides solides (g) pour 100 g de solution de départ Diazo 2-méthoxyéthanol 5% 5 Polyamide - Alcool n-propy- Acéto-butyrate lique 5% 5 de cellulose 2-méthoxyéthanol 10% 10 Orasol Navy Blue 2-méthoxyethanol 10% 10 Lors de la préparation de la solution de revêtement, on maintient tous les constituants à 50°C et on réalise les additions en agitant doucement pour empêcher la précipitation. On ajoute 1,0 g de solution de départ d'acéto-butyrate de cellulose et 1,4 g de solution de départ d'Orasol Navy Blue à 25,2 g de solution de départ de résine diazo. On ajoute pour terminer la solution de revêtement, 22,90 g de 2-méthoxyéthanol, 39j5 g de n-propanol et, finalement, 10,0 g de solution de départ de polyamide. On filtre la solution de revêtement sur un filtre ayant une porosité de 1 n et on l'introduit dans la cuve de revêtement en utilisant une ventilation appropriée. On dépose alors un revêtement sur une structure de plaque présensibilisée continue, en utilisant la solution précédemment préparée et en lumière jaune atténuée. On fabrique en continu la structure de plaque présensibilisée selon l'exemple figurant dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2 71^ 066. En résumé, on prépare cette structure de plaque lithographique en nettoyant avec du phosphate trisodique une feuille d'aluminium lisse épaisse de 0,089 à 0,305 mm, puis en traitant avec une solution d'acide nitrique et en rinçant a l'eau. On traite alors la feuille avec une solution aqueuse de silicate soluble (silicate de sodium) et on la débarrasse des matières solubles dans l'eau restantes, On réalise ensuite le revêtement de la feuille continue d'aluminium en la faisant passer sur un cylindre plongé partiellement dans la solution de revêtement précitée avec une vitesse ae la feuille d'environ 1Ù0 à 210 cn/mr:. On maintient la temr ri .a '» ul'c 72 13152 a 2133728 de la solution de revêtement dans la cuve à environ 20°C. On 2 applique un revêtement pesant à sec environ 330 inrr/m , le poids exact du revêtement appliqué étant déterminé par la vitesse de la feuille, la température de la pièce, et la viscosité de la 5 solution de revêtement. On sèche alors à l'air la feuille revêtue, le côté revêtu étant placé dessus, en faisant passer la feuille dans une hotte ventilée. A la température ordinaire, le revêtement sèche en quelques minutes. On découpe alors, en lumière atténuée, la 10 feuille ainsi préparée, en plaques de taille standard, et on les place dans des emballages les mettant à l'abri de la lumière pour les distribuer aux utilisateurs. On conduit la totalité de l'opération en lumière atténuée. L'utilisateur retire la plaque de son emballage sous lu-15 mière atténuée, puis expose la plaque à la lumière actinique à travers un négatif photographique ou un stencil. Les conditions de manipulation de la plaque sont les mêmes que pour toute autre plaque métallique. Une amélioration considérable par rapport aux plaques de tirage existantes, est la résistance 20 à la chaleur, par exemple à 60°C, pendant plusieurs jours, à l'humidité et à la formation de halo, qui est caractéristique de cette structure. On peut essuyer l'humidité de la plaque. Après exposition, la plaque est pratiquement inaltérée par la chaleur, par exemple à 60°C pendant plusieurs jours, par l'hu-25 midité, ou par les doigts. Le mode d'exposition est le même que eelui décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique numéro 2 714 066. Par exemple, on expose la plaque à un arc au charbon de 140 ampères, à une distance d'environ 135 cm pendant une durée de 1,5 à 3 minutes ce qui expose de façon appropriée la 30 résine diazo photosensible. Après exposition, on verse abondamment sur la surface de la plaque, une solution aqueuse de traitement ayant la composition suivante : 35 Solution de développement {% pondéral) Eau 89 Duponol ME (nom commercial) 8 Formaldéhyde (37?) 0,8 Acide tartrique 0,425 Nitrate de magnésium 1,775 72 13152 12 2133728 On peut diminuer la formation de mousse en ajoutant 0,5$ en poids d'une silicone anti-mousse commercialisée sous le nom de SAG 470 Anti-Foam. Après quelques secondes, on peut éliminer de la surface de la plaque toutes les zones ne correspon-5 dant pas à l'image, par simple raclage ou en rinçant le mélange avec de l'eau. Après développement, la plaque est prête à être montée sur la presse. Si on doit attendre avant de l'utiliser, on traite la totalité de la surface de la plaque en la recouvrant soigneu 10 sement d'une solution aqueuse d'encollage, par exemple une solution aqueuse légèrement acidifiée de gomme arabique, qui protège la surface d'aluminium traitée au silicate sous-jacente dans les zones ne correspondant pas à l'image. Avant utilisation, on rince la plaque avec de l'eau pour éliminer la gomme 15 arabique. Sans autres traitements ultérieurs, on monte alors la plaque sur une presse lithographique offset classique pour réaliser le tirage. Avant exposition, la coloration de la surface de la plaque est jaune-vert par suite de la présence de la résine diazo 20 photosensible et du colorant. Après exposition, les zones ayant reçu la lumière sont bleues par suite de la présence du colorant, la coloration jaune de la résine diazo ayant été éliminée Les régions non exposées demeurent jaune-vert et tranchent nettement avec les zones bleues ayant reçu la lumière. 25 Lorsqu'on a réalisé sur la presse les réglages optimaux pour obtenir une bonne impression en exerçant la pression minimale de la toile contre la surface de la plaque, la plaque permet d'obtenir plus de 15 000 copies de texte et plus de 5 000 reproductions précises de demi-tons fins et de trames. Le trans 30 fert de l'encre par la plaque est exceptionnellement régulier, et il est très facile de maintenir l'équilibre entre l'encre et l'eau pendant la totalité du fonctionnement. Le pH optimal du distributeur est de 3,5-4,5, ce qui donne une plaque propre pendant tout le fonctionnement, même avec des arrêts prolongés. 35 Pour des périodes dépassant 1 heure, on facilite l'enroulement en recouvrant d'une solution de gomme arabique dans l'eau, légèrement acidifiée. Dans l'exemple précédent, le poids du revêtement est d'en- 2 ~ viron 330 mg/m . On prépare des revetements satisfaisants avec 72 13152 13 2133728 2 2 des poids compris entre 220 mg/m et plus de 22 000 mg/m Une presse classique bien réglée permet en général de réaliser 150 impressions par mg de poids de revêtement. La qualité de l'image est indépendante de l'épaisseur du revêtement. La structure décrite convient donc à des tirages d'importance quel-"' conque et n'est limitée que par l'augmentation rapide de la durée d'exposition nécessaire pour obtenir une conversion sa- • tisfaisante de quantités anormalement élevées de sensibilisateur diazo. Ainsi, pour des plaques de longue durée ayant un poids de revêtement de 1 100 mg/m ou plus, l'exposition peut être supérieure à 5 minutes. EXEMPLE 2 Comme dans l'exemple 1 ci-dessus, on prépare des solutions de départ contenant 5% du produit de condensation du paraformal-déhyde et du 5-nitro ortho-toluène sulfonate de p-diazodiphényl-amine dans le 2-méthoxyéthanol, 5% d'Elvamide 8061 dans le diméthylformamide et 10$ de Néozapon Blue HFL dans le 2-méthoxy-• éthanol. On mélange des portions des solutions de dépar es solvants à 50°C en agitant, dans les quantités indiquées pour obtenir la solution de revêtement. Quantité de solution de départ utilisée Quantité de matières solides dans la composition de revêtement .Pourcentage de matières solides dans le revêtement (, Résine diazo Résine de polyamide •' Néozapon Blue 20 18 1 1,00 g 0,90 g 0,10 g 50 45 5 Solvant ajouté (g) Poids total de solvant dans la composition de revêtement 2-méthoxyéthanol dimé t hy1fo rmamide 29,10 31,90 49 49 Total de la solution de revêtement 100 g En utilisant la composition de revêtement de cet exemple, on prépare une plaque de tirage lithographique satisfaisante 72 13152 14 2133728 10 15 20 25 30 selon le mode opératoire de l'exemple 1. EXEMPLE 3 Comme dans l'exemple 1 ci-dessus, on prépare des solutions de départ à 10% du produit de condensation du paraformaldéhyde et du 2-chloro-5_nitrobenzène sulfonate de p-diazodiphénylamine dans le dichlorométhane, et à 2% d'Elvamide 8062 (nom commercial) dans le rnéthanol. On prépare une solution de revêtement à partir des solutions de départ et de solvant additionnel par mélange et agitation à 50°C comme indiqué. Résine diazo Résine de polyamide Quantité de solution de départ utilisée (g) 18 10 Solvant additionnel (g) Quantité de Pourcentage matières de matières solides dans solides dans la composi- le tion de revêtement revêtement (s) 1,80 0,20 90 10 Dichlorométhane Méthanol 47,8 24,20 Poids total de solvant dans la composition de revêtement (g) 64 34 Total de la composition de revêtement 100 g En utilisant la composition de revêtement de cet exemple, on prépare une plaque de tirage lithographique satisfaisante, selon le mode opératoire de l'exemple 1. EXEMPLES 4 à 9 On développe les plaques préparées dans l'exemple 1 dans des solutions aqueuses de Duponol ME (nom commercial) de concentrations pondérales variables, et l'on obtient les résultats figurant dans le tableau ci-dessous : 35 72 13152 15 2133728 Exemple Concentration au Duponol ME g développement dans l'eau ** 10 20 25 30 4 0,008? 5 minutes 5 0,08% 1 minute 6 0,8$ 6 secondes 7 4,0$ 3,5 secondes 8 8,0$ 3 secondes 9 30,0$ 3 secondes Dans tous les cas, on obtient des développements satisfaisants, la perte des zones correspondant à l'image étant pratiquement nulle. A des concentrations plus faibles, inférieures à 0,1$, il est nécessaire de frotter légèrement. Cependant, ceci ne provoque aucune perte du revêtement exposé ^ de résine de polyamide et de résine diazo. Au-dessus d'environ 30$ en poids, il se forme une gélification importante dans le révélateur et une formation de mousse qui rendent ces concentrations indésirables. EXEMPLES 10 à 16 Pour établir l'effet des variations de concentration de la résine diazo et de la résine de polyamide, on prépare les compositions suivantes, en utilisant les mêmes résines que dans l'exemple 1. 10 11 12 13 14 15 16 $ de résine diazo par rapport à la combinaison résine de polyamide 10$ 25$ 37$ 50$ 63$ 80$ 90$ Résine diazo (g) 1,0 2,5 3,7 5,0 6,3 8,0 9,0 Résine de polyamide (g) 9,0 7,5 6,3 5,0 3,7 2,0 1,0 \ Chaque composition contient les constituants suivants, les quantités étant exprimées en grammes : Violet de méthyle 0,4 Alcool tétrahydrofurfurylique 0,7 35 Pormaldéhyde (solution à 37$) 0,7 Méthanol 291,8 Méthylcellosolve 97,3 400,9 72 13152 16 2133728 On revêt une plaque d'aluminium lisse traitée au silicate d'environ 1 100 à 1 5^0 mg/m^ de chaque composition. On compare les échantillons des exemples 10 à 16 par tirage sur une presse lithographique classique .jusqu'à ce que les résultats ne conviennent plus, et on compare également la facilité de révélation à l'état frais et après vieillissement accéléré. Après développement, on n'applique aux plaques ni laque ni renforçateur d'image. 00 C\J ra vH Cvl Nombre de tirages Développement à l'état ^'rais 2 heurei Thermomètre sec : 54,4°C Thermomètre humide 48,9°C 10 11 2 000 impossible difficile lent impossible 12 3 000 lent très difficile difficile 13 6 000 bon bon 14 15 15 000 6 000 facile très facile facile très facile . 16 11 0ÛÛ très facile très facile 72 hem es Thermomètre sec : 54Î4°C ThermomèJ re humide 48,9°C impossible impossible impossible très difficile facile très très facile facile CM m \—t rn \ i CM P-v 72 13152 18 2133728 Bien entendu, l'invention n'est nullement limitée aux exemples décrits et représentés, elle est susceptible de nombreuses variantes accessibles à l'homme de l'art, suivant les applications envisagées, sans qu'on s'écarte pour cela de l'esprit de l'invention. 72 13152 19 2133728 x- REVENDICATIONS 1.- Composition organophile, caractérisée en ce qu'elle est constituée d'un mélange d'une résine de polyamide et d'une résine diazo photosensible mutuellement solubles, prë- 5 sentes en quantité suffisante pour réaliser un revêtement sec constitué d'au moins 50% en poids de la résine diazo et d'environ 50% en poids au plus de la résine de polyamide. 2.- Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que la résine diazo et la résine de polyamide sont toutes 10 deux solubles dans l'alcool. 3.- Composition selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que la résine diazo et la résine de polyamide sont présentes dans des proportions suffisantes pour former un revêtement sec constitué d'environ 60 à environ 70% en poids de 15 résine diazo et d'environ 30 à environ ^0% en poids de résine de polyamide. 4.- Composition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que la résine de polyamide est un copolymère de caprolactame et de sels d'hexaméthylènediamine 20 d'acides adipique et sébacique. 5-~ Composition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3» caractérisée en ce que la résine de polyamide est un copolymère de caprolactame et des sels d'hexaméthylènediamine de l'acide adipique et de l'acide sébacique, et en ce que la 25 résine diazo est un sel du produit de condensation du para-formaldéhyde et de la p-diazodiphénylamine. 6.- Plaque lithographique présensibilisée comportant un substrat de dimensions stables, caractérisée en ce qu'elle comporte au moins sur une de ses surfaces un revêtement cons-30 titué d'au moins 50% en poids d'une résine diazo photosensible et d'au plus 5051 en poids environ d'une résine de polyamide, les deux résines étant mutuellement solubles. 7«- Plaque selon la revendication 6, caractérisée en ce que le substrat est un métal. 35 8.- Plaque selon la revendication 6, caractérisée en ce que le substrat est du papier. 9.- Plaque selon la revendication 6, caractérisée en ce que la résine de polyamide et la résine diazo sont solubles dans l'alcool. 72 13152 20 2133728 10.- Plaque selon l'une quelconque des revendications 6 à 9) caractérisée en ce que la résine diazo constitue environ 60 à environ 70% en poids du revêtement et la résine de polyamide environ 30% à environ 40? du poids du revêtement. 5 11.- Plaque selon l'une quelconque des revendications 6 à 10, caractérisée en ce que la résine de polyamide est un copolymère de caprolactame et~de sels d'hexaméthylènediamine de l'acide adipique et de l'acide sébacique, et en ce que la résine diazo est un sel de condensation du paraformal-10 déhyde et de la p-diazodiphénylamine. 12.- Plaque lithographique présensibilisée comportant un substrat de dimensions stables, dont on a passivé une surface pour la rendre hydrophile, et une couche organophile recouvrant la surface passivée, caractérisée en ce que la couche 15 organophile est constituée d'un mélange d'une résine de polyamide et d'une résine diazo photosensible mutuellement solubles, présentes dans des proportions suffisantes pour que le revêtement sec soit constitué d'au moins 50% en poids de la résine diazo et d'au plus 50% environ en poids de la résine de poly-20 amide. 13.- Plaque selon la revendication 12, caractérisée en ce qu'on a traité la surface du substrat avec un silicate soluble pour la passiver vis-à-vis du revêtement. 14.- Procédé de développement d'une plaque lithographique 25 présensibilisée, caractérisé en ce qu'il consiste : a) à exposer à un dessin de rayonnement actinique un article constitué d'un substrat de dimensions stables, ayant une surface hydrophile portant un revêtement organophile, constitué d'au moins 50% en poids d'une résine diazo photo- 30 sensible et d'au plus 50% environ en poids d'une résine de polyamide, les deux résines étant mutuellement solubles, de façon à former une image latente correspondant au dessin du rayonnement actinique ; et b) à développer cette image latente en mettant ce revêtement 35 au contact d'une solution aqueuse d'un agent mouillant pendant une durée suffisante pour éliminer les parties non exposées du revêtement. 15•- Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que l'agent mouillant est un sel de laurylsulfate.