Brevet FR2121720A1 — publié le 19720825

212J720 la présente invention concerne un procédé de réalisation de dessins très précis et les applications commerciales de tels dessins, dans divers domaines techniques, ainsi qu'un élément photosensible mis en oeuvre au cours du procédé de l'invention. 5 On connaît déjà des matières pour caches qui comprennent un verre de chalcogène très soluble-eh solution alcaline, mais insoluble dans un acide. En pratique, on utilise une matière de cache comprenant un verre de chalcogène,de manière que la surface d'un organe à cacher soit d'abord revêtued'une réserve photographi-10 que en verre de chalcogène,/soit exposée à un dessin lumineux, les parties non exposées de la réserve étant alors retirées, c'est-à-dire que les parties du verre..de chalcogène non exposées sont retirées par dissolution sélective à une solution alcaline. Ce procédé de la technique antérieure destiné à la réalisation de 15 dessins sur un verre de chalcogène nécessite des phases intermédiaires compliquées, par exemple la mise en place d'une réserve photographique, le développement, le fixage et le retrait de la réserve. En conséquence, la précision du dessin est obligatoirement faible. 20 Un autre procédé connu met en oeuvre l'attaque d'une couche par de verre de chalcogène / une solution alcaline lors d'une irradiation lumineuse. Selon ce procédé, une réserve photographique n'est pas toujours nécessaire, et ceci est un avantage, mais la photosensibilité est remarquablement faible, et il faut en conséquence un 25 temps extrêmement long pour réaliser l'exposition d'un dessin jusqu'à ce que la vitesse de l'attaque de la partie exposée devienne supérieure à la vitesse de dissolution et de retrait des parties non exposées par la solution alcaline. De plus, la dissolution et le re- non trait des parties/exposées ont lieu simultanément à l'attaque 30 alcaline des parties exposées, si bien que la précision du dessin est faible, et en conséquence un tel cache n'est pas suffisaient bon en pratique comme cache précis. De plus, on connaît aussi comme matière de cache, un organe photosensible formé d'une couche de verre/chalcogène et d'une couche 35 métallique formant un stratifié. Cette matière met en oeuvre l'attaque du verre de chalcogène dans sa partie exposée par une solution alcaline, de manière analogue à une simple couche de 72 00683 2 2121720 verre de .chalcogène, mais la photosensxbilité est avantageusement améliorée en comparaison du verre de chalcogène à une seule couche. Cependant, la dissolution et le retrait des parties non exposées ont lieu simultanément à l'attaque alcaline des parties 5 exposées et en conséquence la précision du dessin est faible. De plus, l'attaque alcaline des parties exposées du verre de chalcogène est presque une attaque mécanique (affouillement), e.t il est difficile d'obtenir m dessin suffisamment précis. En particulier, la partie exposée elle-même du verre de chalcogène 10 est très . incomplète et les morceaux attaqués sont souvent fixés aux dessins en formant un flou. Ainsi, un tel cache ne con-vient pas car il n'est pas suffisamment précis pour la réalisation de circuits intégrés et de circuits intégrés à grande échelle. On utilise un stratifié connu formé d'une couche de verre 15 de chalcogène et d'une couche métallique comme organe photosensible pour former des dessins grossiers de verre de chalcogène par attaque, des parties exposées de la couche de verre par une solution alcaline. De plus, après la réalisation de tels dessins grossiers, la couche métallique correspondant aux parties où 20 le verre peut être retiré est soumise à une attaque, chimique avec formation d'un organe métallique de circuit. Cependant, la formation d'un tel dessin grossier d'un organe à circuit métallique met en oeuvre la différence entre les vitesses d'attaque alcaline des parties exposées du verre et la 25 vitesse de dissolution et de retrait des parties non exposées du . verre..Cette condition n'est pas facile à déterminer, et de plus le retrait par attaque alcaline est un type de retrait mécanique, si bien qu'on n'obtient pas de dessins nets et précis de façon satisfaisante. 30 L'invention concerne un élément photosensible comprenant une couche de support, une couche de verre de chalcogène recouvrant la couche de support et une couche métalliquè recouvrant la couche de verre, le métal pouvant diffuser dans le verre sous l'action des radiations lumineuses. Cet élément photosensible est 35 utilisé, pour la réalisation de dessins très précis. Ii.'invention concerne aussi un_ procédé de formation de dessins très précis selon lequel on applique un dessin lumineux 72 00683 3 2121720 sur un élément photosensible formé d'une couche support, d'une couche de verre de chalcogène recouvrant la couche support et d'une couche métallique recouvrant la couche de verre, le métal pouvant diffuser dans le verre sous l'action de radiations 5 lumineuses, en formant une partie diffusée, et on retire la couche restante de métal. - . L'invention concerne aussi des caches photographiques, des dessins de résistance électrique,des microphotographies,des caches de revêtement, des éléments photoconducteurs, des éléments de 10 comutation et des éléments de mémoire en mettant en oeuvre les éléments et les procédés décrits. L'invention ne présente pas les inconvénients des procédés antérieurs mettant en oeuvre un verre de chalcogène, car elle ne met pas en oeuvre l'attaque alcaline d'un tel verre. Elle permet 15 d'obtenir des dessins en verre/chalcogène, de résistance mécanique élevée, suivant un procédé facile à mettre en oeuvre. De plus un traitement de sensibilisation permet éventuellement d'améliorer la sensibilité de l'élément photosensible. Les dessins réalisés peuvent être utilisés pour de nombreuses applications 20 industrielles. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description, qui va suivre, faite en référence aux dessins annexés sur lesquels : la figure 1 représente un élément photosensible utilisé 25 pour la mise en oeuvre d'un procédé de l'invention ; les figures 2 et 3 illustrent un mode de réalisation dans le procédé de formation d'un dessin selon l'invention, la figure 2 illustrant une phase d'exposition et la figure 3 une phase de retrait de la couche métallique restante ; 30 la figure 4 illustre une phase d'un retrait de couche de verre de chalcogène dans des parties non exposées après le retrait de la couche métallique restante ; les figures 5 à 9 représentent des parties à diffusion mutuelle , ou "diffusées" ; 35 la figure 10 représente une courbe de Fraunhofer ; la figure 11 est une coupe agrandie d'une partie d'un diffuseur mutuel ; 72 00683 4 2121720 la figure 12 est une coupe agrandie d'une partie à diffusion mutuelle après retrait d'une couche de verre de chalcogène dans une partie non exposée ; la figure 13 est une coupe agrandie d'une partie à dif-5 fusion mutuelle après retrait d'une couche métallique restante ; la figure 14 est une coupe agrandie d'une partie à diffusion mutuelle formée par un procédé perfectionné ; la figure 15 est une coupe agrandie d'une partie à diffusion mutuelle formée par un procédé perfectionné ; 10 la figure 16 représente un élément photosensible de la technique antérieure ; la figure 17 représente une couche de support après retrait de la couche de verre de chalcogène dans un élément photosensible de la technique antérieure ; 15 la figure 18 représente l'état dans lequel est formé la figure 19 représente un état après le retrait d'une partie à diffusion mutuelle d'un élément photosensible représenté 20 selon la figure 18 ; la figure 20 représente un état après retrait de la couche non exposée de verre de chalcogène d'un élément photosensible tel que représenté selon la figure 19 ; la figure 21 représente des parties à diffusion mutuelle 25 formées dans un élément photosensible de la technique antérieure ; - la figure 22 représente un état de parties non exposées de couche de verre de chalcogène de l'élément photosensible représenté sur la figure 21 ; la figure 23 montre les parties diffusées de la figure 22 ; 30 la figure 24 représente un état dans lequel sont formées des parties à diffusion mutuelle dans un élément photosensible de l'invention ; la figure 25 illustre un état dans lequel est retirée la couche métallique restante de l'élément photosensible de la fi-35 gure 24 ; la figure 26 illustre un état dans lequel la couche de de verre/chalcogène dans les parties non exposées de l'élément de la figure 25 est retirée î la figure 27 illustre un état dans lequel les parties dé-40 passant sur la figure 26 sont retirées ; 72 00683 5 2121720 la figure 28 représente un élément photosensible de l'invention dans lequel sont formées des parties à diffusion mutuelle uniforme ; les figures 29 à 33 sont des diagrammes donnant la différence 5 de densité optique entre la partie à diffusion mutuelle et la couche de verre de chalcogène; la figure 34 représente un élément photosensible selon l'invention dans lequel sont formées des parties à diffusion mutuelle ; 10 la figure 35 illustre un état dans lequel la couche non expo sée de verre de chalcogène de l'élément photosensible de la figure 34 est retirée ; la figure 36 illustre un état dans lequel l'élément photosensible de la figure 34 est chargé ; 15 la figure 37 est une vue en plan d'un élément de commu tation réalisé selon l'invention ; la figure 38 représente un mode de réalisation d'un élément photosensible destiné à la réalisation d'un élément de commutation selon la figure 37 ; 20 la figure 39 est une vue en pian d'un élément photosensible de la figure 38 ; les figures 40 à 43 illustrent des phases de la formation d'un élément de commutation de la figure 37 ; la figure 44 représente autre mode de.réalisation de l'élément photosensible destiné s/réalisation d'un élément de com-25 mutation de la figure 37 ; la figure 45 représente la projection d'un dessin sur un élément photosensible de la figure 44 ; - ; * les figures 46 et 47 s1 ont dès diagrammes montrant la relation entre le courant et la tension d'un dessin réalisé selon l'in-30 vention ; la figure 48 représente 1'exposition d'un élément photosensible de l'invention à. un dessin ; les figures 49 à 52 illustrent des phases de la réalisation de dessins à partir de l'élément photosensible de la figure 35 48 ; la figure 53 illustre un traitement de l'élément, photosensible représenté sur la figure 49 avec une solution de revêtement ; 72 00683 2121720 6 et la figure 54 est un diagramme donnnant les caractéristiques d'absorption spectrale d'une partie à diffusion mutuelle et d'une couche de verre de chalcogène. désignent respectivement une couche métallique , une couche de verre de chalcogène, une couche de support et une couche à diffusion mutuelle. Selon un mode de réalisation de l'invention, on réalise 10 des dessins très précis en utilisant comme élément photosensible un stratifié formé d'une couche métallique, d'une couche de verre de chalcogène et d'une couche de support, le métal étant capable de diffuser dans le verre lorsqu'il est exposé à la lumière en mettant en contact du verre, par exposition suivant des dessins 15 lumineux destinés à former des parties de diffusion mutuelle dans la zone exposée, par diffusion du métal et du verre, et par retrait de la couche métallique restante qui ne contribue pas à la diffusion. Selon un' autre mode de réalisation de l'invention, en 20 plus du mode de réalisation cité, après le retrait de la couche métallique restante, une couche de verre de chalcogène dans la par-oie non exposée est retirée par une solution alcaline. Dans la réalisation de dessins selon l'invention, les forcesjd'adhérence mécanique de la partie diffusée à la couche 25 de verre sont si importantes que le retrait de la couche métallique ce détériore aucunement la partie à diffusion mutuelle. L'invention met en oeuvre cette caractéristique. Au cours d'une face de retrait de la partie non exposée de la couche de verre,à l'aide d'une solution alcaline, il n'y 30 a aucun, piiénomène d'attaque alcaline dans la partie à diffusion mutuelle et en conséquence on peut.retirer sélectivement de façon parfaite la partie non exposée de la couche de verre, l'invention met en oeuvre cette,caractéristique. l'élément photosensible selon l'invention a une-adhérence 35 mécanique, remarquablement importante entre la partie diffusée "" et la couche de verre. - . r - La figure .-1 représente un élément photosensible comprenant 5 Sur les figures 1 à 54, les références 1, 2, 3 et 10 72 00683 7 2121720 •une couche métallique 1, une couche 2 en verre de chalcogène et une couche de support 3. Il faut noter que, suivant l'acception courante, le terme "chalcogène" utilisé dans le présent mémoire désigne l'oxygène, le soufre, le sélénium et le tellure. 5 les figures 2 à 4 illustrent un procédé de réalisation de dessins, la figure 2 représente l'exposition d'un élément photosensible de la figure 1. la lumière 4 est projetée sur l'élément photosensible à travers un dessin original 5 ayant des parties claires 6 et des parties sombres 7. En conséquence, il 10 se forme des parties 10 à diffusion mutuelle dans les parties exposées 8 de l'élément photosensible. Il n'y a pas de variation des parties non exposées. la figure 3 illustre une phase de retrait de la couche métallique restante après l'exposition. Sur la figure 3,1a couche 15 métallique correspondant aux parties exposées 8 donne une partie 10 diffusée, et la couche métallique correspondant aux parties 9 non exposées est retirée, comme représenté dans le présent mémoire, en formant des dessins grossiers. On peut traiter ceux-ci avec line solution alcaline de manière à dissoudre la couche de verre 20 correspondant aux parties 9 et à former des dessins comme représenté sur la figure 4. la formation de parties diffusées est représentée sur la.figure 2.1a formation varie en fonction des conditions d'exposition, et de l'épaisseur de la couche métallique et de la couche de verre de l'élément, car la formation de 25 parties diffusées commence à l'interface entre le métal et le verre, et la profondeur de la diffusion est proportionnelle à la quantité de radiations lumineuses ; en conséquence, l'importance de la partie diffusée formée dans chaque couche dépend de la quantité d'énergie lumineuse reçue de manière générale. 30 Selon l'invention, l'état de diffusion mutuelle illustré par la figure 2 est observé lorsque l'épaisseur de la couche métallique est habituellement inférieure à 0,2 micron, l'exposition étant effectuée du côté de la couche métallique. Dans ce cas, cette couche reçoit plus d""énergie lumineuse que la couche de verre, .se 35 et l'ensemble de la couche' transforme en couche diffusée, car la couche métallique est fine, alors que seule une partie de la couche de verre est transformée en couche diffusée, l'épaisseur 72 00683 8 2121720 de la couche métallique est choisie de manière à être inférieure à 0,2 micron, bien que l'énergie lumineuse puisse atteindre l'interface entre le métal et le verre. L'état de diffusion mutuelle représenté sur la figure 5 est 5 obtenu par exposition du dessin, du côté de la couche de support. Le verre de chalcogène est habituellement transparent, et en conséquence une épaisseur pouvant atteindre plusieurs dizaines de microns est possible pour la couche de verre, dans le cas de l'exposition du côté de la couche de support, en vue de la formation 10 d'une couche diffusée. Celle-ci, sur la figure 5, occupant la totalité du verre et une partie de la couche métallique montre que la couche de verre reçoit plus d'énergie lumineuse que la couche métallique, et en conséquence l'épaisseur de la couche de verre est suffisamment fine pour qu'il se forme une couche dif-15 fusée sur toute l'épaisseur de la couche de verre. La partie diffusée représentée sur la figure 6 est obtenue lorsque l'épaisseur de la couche métallique et celle de la couche de verre sont suffisamment faibles, ou lorsque l'exposition est réalisée avec une lumière intense pendant une longue période, avec 20 la diffusion telle que représentée sur les figures 2 et 5. Lorsque les deux couches, métallique et vitreuse, sont suffisamment fines, il n'apparaît pas de différence entre l'énergie lumineuse atteignant la couche métallique et l'énergie lumineuse atteignant la couche de verre, car la différence de profondeur de la couche 25 diffusée est de préférence inférieure à 0,2 micron, 1'épaisseur de la couche de verre étant inférieure à 3 microns. Lors de l'exposition par une lumière intense pendant un temps suffisamment long les différences entre les énergies lumineuses atteignant une couche métallique .et une couche de verre ne deviennent pas 30 des différences de profondeur de la partie à diffusion mutuelle formée, car l'exposition est .très importante. L'état de diffusion représenté sur la figure 7 est observé lorsque la couche métallique et la couche de verre sont épaisses ou lorsque l'exposition est réalisée avec une faible lumière, pen-35 dant une courte période, comme représenté sur les figures 2 et 5. Comme le montre la figure 7, la couche diffusée est réalisée seulement au voisinage de l'interface entre les deux couches. 72 00683 9 2121720 les figures 8 et 9 représentent des couches à diffusion, mutuelle qui occupent une plus grande partie de l'une des deux couches que de l'autre. De telles couches diffusées, sont obtenues par combinaison des conditions opératoires de la figure 7 avec 5 celles des figures 2 ou 5 (différence entre l'énergie lumineuse reçue par les deux couches du fait de la différence, du sens d'exposition ou de l'épaisseur des couches). Selon l'invention, l'exposition du dessin est effectuée dans des conditions telles que l'énergie lumineuse atteint l'inter-10 face entre la couche métallique et la couche de verre, et il se forme une couche diffusée, comme représenté sur les figures 2, et 5 à 9, chacune de ces couches pouvant être utilisée pour la formation de dessins très précis. les métaux qu'on utilise selon l'invention sont ceux qui 15 peuvent diffuser dans le verre de chalcogène lorsqu'ils sont exposés à une énergie lumineuse. Par métal, on désigne selon l'invention, non seulement les éléments métalliques simples, mais aussi les matières telles que les alliages qui ont un aspect métallique ainsi que les composés intermétalliques. 20 Des exemples de métaux sont Ag, Zn, Cd, Nn, Ga, M, Cr, Cu, In, Bi, Sn et Tl, les alliages contenant les métaux cités, des composés capables de fournir un tel métal ou un tel ion métallique par décomposition, des semi-conducteurs au silicium et au germanium, des composés intermétalliques contenant Ga, As, 25 In et Sb, des éléments ayant certaines propriétés métalliques du Groupe V de la classification périodique des éléments, par exemple As -Sb et analogues, et les éléments chalcogènes eux-mêmes par exemple S, Se et Te. Parmi toutes ces matières, celles qu'on préfère comprend 30 un ou plusieurs éléments du groupe formé par Ag, Zn, Cd, Kn, Ga, Cr, Cu, In, Bi, Sn, Tl, Ge et Te, du point de vue de la photosensibilité. la couche métallique est formée sur une couche de verre de chalcogène. la couche métallique peut être réalisée selon la technique antérieure, par exemple par dépôt de vapeur 35 sous vide, par pulvérisation, par revêtement à l'état fondu et analogue, l'épaisseur de la couche métallique est habituellement comprise entre plusieurs dizaines de microns et 0,01 micron. 72 00683 10 2121720 Des couches d'épaisseur supérieure à plusieurs dizaines de microns ne sont pas utiles au point de vue pratique car la couche métallique est retirée lors de la phase initiale de réalisation des dessins. De plus, lorsqu'une couche métallique est épaisse, il 5 faut ion temps très long, ce qui est un inconvénient pour retirer la couche métalligue et il faut des conditions d'attaque "sévères. Lorsque la couche métallique a une épaisseur supérieure à 0,2 micron, la transmission lumineuse devient faible et il est nécessaire d'effectuer l'exposition du côté de la couche de sup-10 port. Dans ce cas, cette dernière doit être transparente, et il faut une grande expérience pour focaliser le dessin, car celui-ci est projeté à travers la couche de support, qui est relativement épaisse, et la couche de verre. De plus, la résolution du dessin est réduite par réfraction et diffraction de la lumière par les 15 deux couches. En conséquence, l'épaisseur de la couche métallique est de préférence inférieure à 0,2 micron. La limite inférieure pour l'épaisseur de la couche métallique, c'est-à-dire 0,01 micron, est fixée de manière à faciliter la réalisation d'une couche uniforme. Cependant, même lorsque la 20 couche a une épaisseur supérieure à 10 microns, on peut mettre avantageusement en oeuvre l'invention. La couche de verres de chalcogène sont S, Se, Te, est une couche de matière vitreuse contenant au moins un élément chalcogène, par exemple S, Se et Te, comme constituant principal. 25 Des exemples de verre chalcogène sont S, Se, Te, le système As-S, le système As-Te, le système As-Se, le système S-Si, le système Se-Te, le système Sb-Se, le système Sb-Te, le système Bi-Se, le système Bi-S, le système Se-S, le système Ge-S, le système Ge-Se, le système As-S-Se, le système As-S-Se-Te, 30 le système As-Sr-Se-Ge, le système As-S-Ge, le système S-Se-Ge, le système As-Se-Ge, le système Bi-Te, le système As-S-Te, le système As-Se-Te et le système Sb-As-S. Le verre peut contenir divers éléments activateurs. De tels éléments sont des iiologènes, Cu, îb, Sn, Ge et Si. En particulier, 35 on préfère utiliser I, Br, Tl, Si et Ge, du point de vue de la photosensibilité. On peut former la couche de verre comme on forme la couche 72 00683 n 2121720 de métal. L'épaisseur de la couche de verre est habituellement comprise entre plusieurs dizaines de microns et 0,03 micron, mais l'épaisseur peut être supérieure aux valeurs de cette plage. 5 Le verre de chalcogène est très transparent et, en conséquence, il n'est pas nécessaire de modifier le sens de la projection du ou dessin (projection du côté du support/du côté de la couche métallique) en fonction de l'épaisseur de la couche de verre. Pour former une couche uniforme de verre, il faut que l'épaisseur.soit 10 supérieure à 0,03 micron. Pour former des dessins particulièrement précis, il est efficace de former une fine couche de verre de chalcogène. Par' exemple, dans la formation d'un cache photographique, lorsque la couche de verre est épaisse, l'épaisseur des parties de projection dans le dessin grossier obtenu devient 15 importante et la focalisation du dessin devient difficile. De plus, plus la partie de projection est épaisse et plus la quantité de lumière passant dans la partie concave en son centre est importante, et moins cette quantité de lumière est faible à la périphérie de la partie concave. En conséquence, la partie périphérique 20 est obscure et la précision est relativement faible. En conséquence, l'épaisseur de la couche de verre est de préférence inférieure à 3 microns, notamment inférieure à 1 micron. Comme le montre clairement la description qui précède, il est souhaitable pour la réalisation de dessins à intérêt indus-25 triel, d'utiliser une couche métallique et une couche de verre aussi fines qu'on peut le tolérer. Dans ce cas, il est nécessaire d'utiliser une couche de support pour renforcer l'organe photosensible. La couche de support n'a pas toujours à être transparente, et il peut s'agir d'une matière cristallisée, de céra-30 miques, de verre, de papier, d'une pellicule organique, d'un métal et d'une matière composite, par exemple une électrode transparente . La lumière elle-même utilisée pour l'exposition peut être ultraviolette, visibles du proche infrarouge ou il peut s'agir 35 d' un faisceau de corpuscules, par exemple d'électrons ou d'ions. La réponse spectrale de l'élément photosensible est presque identique à la courbe d'absorption du verre de chalcogène,. mais elle est parfois décalée du côté des grandes longueurs d'ondes. 72 00683 12 2121720 Il faut noter que ce décalage est dû à l'action mutuelle à l'interface du métal et du verre. lorsqu'on veut former une partie diffusée profonde dans une couche de verre et qu'on utilise des radiations allant du 5 proche ultraviolet à l'infrarouge, on utilise de préférence de la lumière correspondant à l'extrémité d'absorption du verre chalcogène, car la lumière à la longueur d'onde correspondant à l'extrémité d'absorption a un coefficient d'absorption relativement faible dans la couche et peut en conséquence atteindre 10 "une profondeur relativement importante. la réponse spectrale de l'élément photosensible change en fonction du temps, depuis le début de la projection lumineuse, la diffusion du métal dans la couche de verre commence avec la projection lumineuse et on obgerve la réponse correspondant à 15 l'absorption du verre contenant l'élément métallique. Des sources lumineuses pratiques et économiques sont des lampes à vapeur de mercure à haute pression et à très haute pression, des lampes au xénon, des lampes à éclair au xénon, des lampes à électrodes de tungstène contenant de l'iode et des lampes à argon. Dans le 20 cas d'exposition-à faisceau électronique , la densité nécessaire de charge varie suivant le type du métal et du chalcogène, ainsi que de la tension d'accélération,mais elle est habituellement —4. —8 2 comprise entre 10 et 10~ Coulomb/cm . Par retrait de la couche métallique restante après exposition, 25 on réalise aussi une fixation qui empêche une sensibilisation ultérieure . Dans le cas des figures 2 et 6, la couche métallique restante n'existe que sur les parties non exposées, mais dans les cas des figures 5, et 7 à 9, il existe du métal sur les couches dif-30 fusées dans les parties exposées, ainsi que dans les parties non exposées, et on retire tout le métal restant. Le retrait du métal restant peut être effectué par exemple par dissolution, à l'aide d'un produit chimique, par amalgame avec le mercure et par projection d'un faisceau corpusculaire chargé. 35 Les produits chimiques utilisés pour retirer la couche métal lique sont d'un type capable de dissoudre le métal. On utilise de préférence un acide, un liquide oxydant ou une solution acide 72 00683 )3 2121720 de divers agents réducteurs utilisés dans le traitement photographique. On peut citer par exemple les acides nitrique , chlo- 1*acide rhydrique , sulfuriaue , l'eau régale, un mélange contenant de/ chromique , le nitrate d'ammonium, le chlorure ferrique, le 5 nitrate ferrique, le persulfate d'ammonium, le permanganate de potassium et le ferrocyanure de potassium. On peut axxssi retirer la couche métallique restante par amalgame, c'est-à-dire qu'on forme un amalgame en dissolvant le métal dans le mercure. Ce retrait peut être effectué directement 10 par trempage de l'élément photosensible après exposition, dans un bain de mercure, ou dépôt d'une petite quantité de mercure sur une face de la couche métallique après exposition, et étalement uniforme à la surface de la couche par compression, puis retrait du mercure ou nettoyage de la surface de la couche avec un élé-15 ment approprié retenant le mercure et dans lequel celui-ci se trouve. On peut utiliser comme faisceau corpusculaire, des ions produits par décharge sous vide ou dans un gaz, ou des élec-' trons. le faisceau corpusculaire est projeté à la surface de 20 la couche restante qui peut être retirée rapidement. Lorsque la couche métallique comprend un métal amphotère, par exemple du zinc, on peut utiliser une solution alcaline diluée. Selon l'invention, on utilise une solution alcaline pour retirer une couche de verre de chalcogène dans les parties 25 non exposées. Comme solution alcaline, on peut utiliser une base forte, par exemple de la soude ou de la potasse, ou une base faible, par exemple du carbonate de sodium, de l'ammoniaque, du carbonate de potassium dans un solvant, par exemple de l'eau ou de l'alcool. Le temps de traitement, c'est-à-dire d'attaque, 30 dépend de la concentration de la solution et du type du verre. En général, lorsqu'on utilise une base forte, le temps d'attaque est court. Pour réaliser le dessin selon l'invention, ou pour utiliser un élément photosensible de faible sensibilité comme élément 35 très photosensible, on peut appliquer un traitement sensibilisateur avant la formation du dessin. Par exemple, on soumet l'élément"photosensible à-un 72 00683 14 2121720 traitement de vieillissement à une température supérieure à la température de transition du verre de chalcogène. Le mécanisme théorique de la sensibilisation par vieillissement de l'élément photosensible n'est pas très clair, mais il faut tenir compte 5 des considérations suivantes. Lors de la formation de la partie diffusée d'un élément photosensible comprenant une couche de verre de chalcogène et \me couche métallique, la chaîne de la structure de chalcogène est cassée par l'énergie lumineuse,et la partie d'extrémité de 10 chaîne obtenue modifie le métal de la couche en accélérant la diffusion du métal dans le verre. Ce phénomène correspond à la propriété de cristallisation du verre de chalcogène. La chaîne d'un tel verre qui cristallise facilement est facile à casser. Ceci apparaît par le fait que.la transition d'un état quasi vi-15 treux irrégulier à l*état cristallin de l'arrangement atomique accompagne le réarrangement atomique, et celui-ci se produit facilement dans les structures à chaîne courte et cassée , en comparaison des structures à chaîne longue. En conséquence, la réalisation d'un verre de chalcogène facile à cristalliser provoque 20 la sensibilisation de l'élément photosensible. La sensibilisation par vieillissement est provoquée par de une transformation d'une couche / verre de chalcogène en un état facile à cristalliser. La sensibilisation par vieillissement donne effectivement un élément très photosensible qui est,de plus,utile 25 dans le cas suivant. . Oh dépose une couche de verre très sensible contenant une grande quantité de Se, Te, As et Tl, puis une couche métallique et on constate qu'il se forme une partie diffusée indésirable, dès le dépôt, sous l'action des radiations thermiques provenant 30 de la source de vaporisation ou par activation de vapeur, et ceci pose évidemment un problème lors de l'utilisation pratique ultérieure. En conséquence, le verre de chalcogène utilisé pour le dépôt du vide doit avoir une sensibilité relativement faible, Dans ce cas, le vieillissement est réalisé après formation de l'élément 35 photosensible, et il permet d'utiliser un verre relativement peu sensible comme élément très sensible. Le vieillissement à la*chaleur est réalisé par chauffage du verre à une température comprise 72 00683 15 2121720 entre une température inférieure de 50°C à la température de transition vitreuse du verre et une température supérieure de 80°C à la température de transition vitreuse pendant une période convenable. De préférence, la plage de vieillissement est comprise 5 entre une température inférieure de 20°C à la température de transition vitreuse et une température supérieure de 20°C. à cette température, le vieillissement est réalisé habituellement par élévation de la température à la valeur de vieillissement pendant 10 mn à 5 heures, puis maintien à cette température pendant 30 mn 10 à 10 heures. Si on veut utiliser un élément particulièrement photosensible selon le procédé de l'invention, il est commode de prendre un élément photosensible ayant un métal dont le point de fusion est inférieur à 400°C et portant une couche métallique formée 15 à une température de dépôt inférieure à 500°0. Un tel élément photosensible est particulièrement efficace dans les cas suivants. On peut réaliser des éléments photosensibles par diverses méthodes, mais le dépôt sous vide est le plus souhaitable du point 20 de vue industriel pour la formation d'une couche métallique, lorsqu'un métal est vaporisé à partir d'une réserve, de manière que le métal se dépose à la surface d'une couche de verre, les radiations thermiques du dispositif- de chauffage de la source de vaporisation parviennent jusqu'au visible et au proche infrarouge, 25 et il se forme donc une partie diffusée au cours du dépôt de vapeur lorsqu'on utilise une matière très sensible. En d'autres termes, l'élément photosensible obtenu est déjà exposé lors de la réalisation et l'élément métallique a diffusé dans la couche de verre. Ceci pose une difficulté importante pour l'utilisation pratique 30 des éléments très sensibles. l'invention permet de résoudre ce problème de réalisation par l'utilisation d'un métal à bas point de fusion, inférieur à 400°C,permettant la réalisation d'un élément très sensible, lorsqu'un métal unique a une température de fusion inférieure à 35 400°C, on peut former une couche du métal seul, mais si la température de fusion est supérieure à 400°C, on peut l'utiliser sous forme d'un alliage à bas point de fusion. 72 00683 16 2121720 Des exemples de tels métaux sont In, Cd^ Sn, Bi, Se, Tl, Pb et Ga, ainsi que leurs alliages, par exemple le système In-G-a, les alliages ayant au moins deux composants choisis dans Bi, Pb, Sn et Cd, par exemple Bi-Sn-Zn, Bi-Pb-Sb, Sn-Mn, Sn-Ag, 5 et Pb-Sb. Des exemples de métaux à température de fusion supérieure à 400°C sont Ag, Cu, Zn, Hn, Ni, Te, Sb, G-e et Mg.- Ces métaux sont utilisés comme alliage à bas point de fusion par combinaison avec les métaux cités à bas point de fusion. En particulier, Ag et Cu sont d'excellents métaux formant un élément 10 très photosensible, mais la propriété de diffusion est très sen- donc sible lors de la réalisation du dépôt sous vide, et il n'est/pas possible de réaliser des éléments photosensibles non exposés donnant satisfaction. Cependant, selon l'invention, on forme une couche métallique en utilisant Ag et Cu comme alliage à bas point 15 de fusion pour former un élément photosensible totalement non exposé,et , en pratique, seuls Ag et Cu à l'état élémentaire sont préférentiellement sensibles à la lumière et diffusent dans la couche de verre de manière à former un élément très photosensible. 72 00683 17 2121720 10 15 20 25 Des exemples représentatifs d'alliages sont les suivants : Ag-Bi (teneur en Bi supérieure à 80 yo)t Ag-Cd (teneur en Cd supérieure à 95 /»), Ag-Ca (teneur en Ga supérieure à 55 c/°) t Ag-Hg (Hg,. 90-95 7°)t Ag-In (teneur en.In'supérieure à 70 "/<>), Ag-Li (teneur en Li supérieiare à 9 #)» -Ag-Pb (teneur en Pb supérieure à 93 Ag-Te (Te, 62-86 ?»), Ag-TI (teneur en Tl supérieure à 92 >0» Cu-Ga (teneur en Ga supérieure à 87 7°), Cu-Sn (teneur en Sn supérieure à 93 $), Cu-Hg (teneur en -Hg supérieure à 95 fo] environ), Cu-In (teneur en In supérieure à 95 c/°) , Cu-Te (Te, 78-86 70)» Ge-Sn (teneur en Sn supérieure à 95 S»), Mg-Pb (teneur en Pb supérieure à 91 7°) , Mg-Sn (teneur en Sn supérieure à 92 7>) et ÎTi-Sn (teneur en Sn supérieure à 99 $).(Les pourcentages donnés sont des pourcentages en poids). Lorsque l'alliage ou le composé intermétallique est déposé en phase vapeur, il est préférable d'utiliser un procédé de dépôt très rapide selon lequel on vaporise de petites quantités de matière, de manière à éviter des variations de composition ou de la non-uniformité de la pellicule déposée. Le tableau I donne les points de fusion des métaux simples et des alliages cités. La température optimale de dépôt est comprise entre 350 et 450°C pour les métaux ayant une température de fusion inférieure à 200°C, et entre 450° et 500°C pour les autres matières. TABLEAU I Composition d'alliage (Pourcentage en poids) Température de fusion, °C Bi (44,7) Pb (22,6) Sn (8,3) Cd (5,3) In (19,1) 46,7 Bi (35,6) Pb (49,1) Hg (15,3) 106 Bi (50,0) Pb (26,7) Sn (13,3) Cd (10,0) 70 In (40) Ga (60) 60 30 Bi (48,0) Pb (28,5) Sn (14,5) Sb (9,0) 227 Bi (56,0) Sn (40,0) Zn (4,0) 180 Bi (53,59) Pb (42,41) Sb (4,0) 158 Sn (73,5) Cd (24,5) Zn (2,0) 163 Sn (71,0) Zn (9,0) 199 35 Sn (98,0) Kn (2,0) 200 Sn (96,5) Ag (3,5) 221 Pb (87,5) Sb (12,5) 247 72 00683 18 2121720 Pb 82,5) Cd (17,5) 248 Ag 20) Bi (80) 390 Ag 50 Cd (95) 400 Ag 37) Ga (63) 375 Ag 5) Hg (95) 380 Ag 30) In (70) 400 Ag 91) Li (9) 400 Ag 7) Pb (93) 400 Ag 29,4) Te (70,6) 351 Ag 1,5) Te (98,5) 291 Cu 13) Ga (87) 400 Cu 2) Hg (98) 200 Cu 5) In (95) 400 Cu 7) Sn (93) 400 Cu 16) Te (84) 340 Ge 5) Sn (95) 400 Mg 2,2) Pb (97,8) 258 Hg 2) Sn (98) 200 Ni 1) Sn (99) 400 20 Dans le procédé de réalisation des dessins de l'invention, on peut ajouter une phase d'exposition ou de chauffage à blano de manière à former des dessins ayant une précision et des propriétés mécaniques très élevées. Les figures 10 à 15 illustrent l'avantage de telles phases supplémentaires. 25 Lorsque les dessins réalisés selon l'invention sont utilisés comme caches ayant une précision extrêmement élevée pour la réalisation de circuits intégrés et par intégration à grande échelle, la diffraction de la ligne apparaît remarquablement dans des dessins ayant une dimension de l'ordre du micron, comme représènté 30 sur la figure 10. La figure 10 représente une image de diffraction de Fraun-hofer produite lors de la formation d'une image par une source comprenant une fente, et 1?ordonnée représente l'intensité lumineuse dans le plan de formation d'image, les abcisses représentant la 35 distance en direction perpendiculairement à la direction de la fente, le point 0 correspondant au centre de l'image de la fente. La relation entre la largeur "bn de la fente et l'image de diffrac- 72 00683 19 2121720 dépend de la relation entre "b" et la longueur d'onde. Etant donné ce phénomène de diffraction, la partie diffusée obtenue formée par une exposition fine d'un dessin est représentée sur la figure 11. Un fin dessin est projeté du côté de la 5 couche métallique sur un élément photosensible comprenant une couche 3 de support, une couche 2 de verre de chalcogène et une couche 1 de métal, bien que ce dernier diffuse dans la couche de verre et donne une partie diffusée 10. la diffusion apparaît sur la figure 11 qui représente en trait interrompu la coupe de la partie 10 diffusée. Ce phénomène se produit du fait de la diffraction due à la fente. Au centre de la partie exposée, la quantité de lumière est maximale et l'importance de la diffusion est élevée, la vitesse de diffusion étant rapide, alors qu>!gâ.a périphérie de la partie exposée, la quantité de lumière est faible et l'importance de la 15 diffusion du métal est aussi faible, la vitesse de la diffusion étant faible. la couche métallique présente au niveau de la partie 9 non exposée reste telle qu'elle et ,en conséquence,le cas échéant on retire cette couche métallique, puis on attaque sélectivement 20 la couche de verre avec une solution alcaline, en formant un élément tel que représenté sur la figure 13» avec un creux au voisinage de la couche de support. Dans certains-cas, ce creux détériore la résistance mécanique entre la couche de support et la partie diffusée. En conséquence, ce creux empêche souvent la for-25 mation d'un dessin très précis, pour des raisons de précision ou" de résistance. On résout ce problème en effectuant une exposition ou un chauffage supplémentaire à blanc, les figures 13 à 15 illustrent ce phénomène. Suivant un procédé de formation de dessin , 30 on retire la couche restante de métal pour obtenir le dispositif représenté sur la figure 13. Ensuite, comme représenté sur la figure 14, on réalise une exposition à blanc à l'aide de lumière 11. Cette exposition modifie la section de la partie diffusée, qui devient rectangulaire. Ensuite, on retire sélectivement la couche 35 de verre de la partie non exposée par attaque laissant un dessin comme représenté sur la figure 15. En conséquence, ce dessin est robuste et durable. 72 00683 20 2121720 On peut expliquer de la façon suivante l'amélioration de la partie diffusée 10 de la figure 13. Celle-ci montre que 1/importance de la diffusion de l'élément métallique dans la partie 10 est élevée dans la partie centrale et qu'en superficie, la 5 forme correspond pratiquement à un demi-cercle. Lorsqu'on réalise une exposition à blanc de la partie diffusée, l'élément métallique déjà diffusé continue à diffuser» étant donné le gradient de densité de diffusion, car il ne pénètre plus par diffusion dans le métal à la partie supérieure de la partie dif-10 fusée. En conséquence, la diffusion a lieu en direction longitudinale et transversale, mais celle-ci est réduite à une valeur extrêmement faible. Au contraire, au milieu de la partie inférieure de la zone diffusée, la densité du métal est faible et la diffusion du métal provenant de la partie supérieure ainsj/qu'en direc-15 tion horizontale et verticale accroît la diffusion du métal, si -bien que l'élément prend l'aspect représenté sur la figure 14. la considération théorique précédente n'est pas nettement confirmée, mais en tout état de cause, le dessin final obtenu est représenté sur la figure 15» sa résistance mécanique étant très élevée. 20 On peut prévoir un tel effet par application uniforme d'une énergie accélérant la diffusion du métal, par exemple l'énergie thermique,à la place de l'exposition à blanc. En général, les radiations lumineuses préférables pour la diffusion du métal dans le verre sont celles dont la longueur d'onde 25 est comprise entre 300 et 600 nanomètres et qui sont fortement absorbées par le verre. De telles radiations sont absorbées à la surface de la couche de verre et ne pénètrent pas profondément. En conséquence, il est préférable de réaliser une projection en blanc depuis la , 30 face opposée à celle à laquelle on a appliqué la projection du dessin. Pour la réalisation d'un chauffage à blanc, on porte alors l'élément photosensible après fixation à une température convenable. De préférence, celle-ci est inférieure à la température 35 de transition vitreuse. Celle-ci, dans le cas d'un verre de chalcogène, est habituellement faible, et elle est au maximum de l'ordre de 300 à 400°C. Elle est même parfois inférieure à 100°C. 72 00683 21 2121720 la température de transition vitreuse dépend non seulement de la composition, mais aussi des conditions de réalisation, ainsi que par la présence de quantités d'impuretés. En conséquence, on doit choisir de façon convenable une température de chauffage, 5 habituellement entre la température ambiante et "2QO°C; On va maintenant comparer le procédé de l'invention aux procédés de la technique antérieure. (1) la formation du dessin selon l'invention est complètement différente de celle de la technique antérieure. 10 (2) la formation du dessin selon l'invention met en oeuvre l'insolubilité de la partie diffusée dans une solution alcaline, alors que, selon la technique antérieure, on met en oeuvre le phénomène d'attaque de la partie diffusée par une solution alcaline. (3) la superposition des couches métallique et vitreuse 15 de l'élément photosensible de l'éinvention est l'inverse de celle qu'on utilise selon la technique antérieure. (4) la précision des dessins obtenue selon l'invention est bien supérieure à celle qu'on obtient avec la technique antérieure. (5) la finesse du dessin réalisé selon l'invention est bien 20 supérieure à celle des dessins réalisés selon la technique antérieure. (6) la résistance mécanique du dessin réalisé selon l'invention est bien supérieure à celle de ceux de la technique antérieure. (7) l'invention est facile à mettre en oeuvre, .en comparaison 25 des procédés de la technique antérieure.;' les avantages cités apparaissent clairement dans les exemples suivants. Dans les exemples comparatifs 1 à 5, les échantillons 1 à 4 concernent des éléments photosensibles portant une couche de verre 30 de chalcogène de la composition suivante : Verre de chalcogène Epaisseur de la couche Echantillon 1 -^s2S3 2,5 M- Echantillon 2 As2Se2ÎeQ ^ 2,5 \i Echantillon 3 AsgS^ ^ ^ 2,5 H 35 Echantillon 4 AsgS^^Se^Geg 2,5 P- la couche de support est une plaque de verre. 72 00683 22 2121720 15 20 25 le tableau ci-dessous donne des exemples de solutions alcalines utiliséespour la dissolution du verre non exposé ou l'attaque de la partie diffusée. Composé ITaOH 10 a conc. a dil. b conc. b dil. c conc. c dil. d conc. d dil e conc. e dil. NaQH XOH EOH nh4OH eh4OH Na2S îIa2S lïa2C03 Wa2C05 Concentration 0,3 £ 0,03 ' 0,3 0,03 1o 30 1o 10 1o Solution saturée Solution saturée diluée 100 fois 10 fo 1 fo Dans les exemples de comparaison 1 à 5, l'exposition est réalisée par mise en contact d'un dessin original avec une face d'un élément photosensible, et application de lumière fournie par une à vapeur lamp^/de mercure à très haute pression de 250 watts, a une distance de 25 cm pendant 15 minutes. Exemple comparatif N° 1 (Dissolution et retrait de la couche de verre de chalcogène ave c une solution alcaline). On trempe un élément photosensible tel que représenté sur la figure 16, ayant une couche de verre correspondant aux échantillons 1 à 4, dans une solution alcaline a à e, et on mesure le temps nécessaire pour que l'élément 16 soit transformé en l'élément 17, du fait du retrait total de la couche de verre. Le tableau II donne le résultat de ces essais, l'unité de temps étant la minute. 72 00683 23 TABLEAU II 2121720 Base Echantillon Solution 1 2 3 4 dil. 10 20 30 35 a conc. 2-3 3-4 4-6 8 b ail. 15 25 40-50 50 conc. 3-4 4-5 4-7 10 dil. 30 40-50 55 C conc. 1-2 2-3 3-4 4-6 d dil. 10 20 30 30-40 conc. 1-2 2-3 2-4 4-6 dil. 10 20 30 30-40 e conc. 2-5 3-7 5-10 8-15 15 Le tableau II montre clairement que le verre de chalcogène est soluble dans une solution alcaline, qu'il se dissout dans une solution alcaline concentrée en moins de temps que dans une solution alcaline diluée et que le temps de dissolution varie avec le type de chalcogène. 20 Exemple comparatif 2 (Procédé de formation d'un dessin de la technique antérieure avec un élément photosensible connu et une solution alcaline diluée). On réalise l'exposition d'un dessin sur un élément photosensible représenté sur la figure 18, la couche métallique étant 25 une couche d'argent de 10 microns d'épaisseur, de manière à former une partie diffusée. On immerge alors l'élément photosensible dans une solution alcaline (a diluée à e diluée) de manière à former un élément, tel que représenté sur la figure 19» Le temp^fen minutes nécessaire pour le retrait de la partie diffusée est mesuré. Le 30 tableau III donne les résultats. On mesure la résolution pour un élément après retrait de la couche de métal dans la partie exposée (correspondant à une partie dans laquelle s'est formée une partie diffusée) de l'élément photosensible de la figure 19, à l'aide d'une solution d'attaque contenant un mélange d'acide chronique. 72 00683 24 2121720 TABLEAU III Echantillon 1 2 3 4 a dil. 5 10 10-15 15-20 b dil. 5-10 7-15 15-25 20 c dil. 5-10 7-15 15-25 20-30 d dil. 5 10 10-15 15-20 e dil. 5-8 10-15 15-20 20-25 Résolution 10 u 10 n 10 u 10 u 1 Dans ces expériences, lorsque la partie diffusée est trai- 10 tée par une solution alcaline aqueuse, destinée au retrait de la partie diffusée, il se confirme que celle-ci est attaquée mécaniquement, les parties attaquées n'étant pas|iu tout dissoutes. De plus, une partie des morceaux: attaqués mécaniquement reste fixée au dessin qui devient obscur (affouillement) • 15 Lorsqu'on trempe ensuite l'élément de la figure 19 dans une solution alcaline, les parties non exposées du verre sont retirées et laissent un dessin comme représenté sur la figure 20. Cette opération nécessite presque le même temps que celle qui est nécessaire au retrait avec des solutions a à e diluées dans l'exemple 20 de comparaison 1 ci-dessus. Comme le montre les résultats, la partie diffusée est insoluble dans une solution alcaline aqueuse, et la partie diffusée est retirée par attaque mécanique avec une solution alcaline diluée, la vitesse de retrait étant supérieure à la vitesse de 25 dissolution des parties non exposées de la couche de verre par une solution alcaline diluée. Le procédé de la technique antérieure met en avant le phénomène du retrait des parties diffusées par une solution alcaline diluée, et il tire avantage de la différence relative des vitesses 30 d'attaque mécanique de la partie diffusée et de dissolution du verre non exposé. De plus, dans la réalisation de dessins selon la technique antérieure, l'attaque mécanique de la partie diffusée n'est pas totale et les morceaux détachés restent cependant fixés au dessin obtenu, en réduisant la précision et la finesse du des-35 sin. 72 00683 25 2121720 Exemple comparatif I'T° 3 (Procédé de formation d'un dessin selon la technique antérieure, avec un élément photosensible connu et une solution alcaline concentrée). 5 En suivant le mode opératoire de l'exemple comparatif îf° 2, on utilise les solutions a à e concentrées à la place des solutions a à e diluées, et du cuivre à la place d'argent comme couche métallique pour l'élément photosensible. l'élément photosensible dans lequel la partie diffusée est 10 formée comme représenté sur la figure 21 est trempée dans une solution alcaline concentrée et la couche non exposée de verre de chalcogène est d'abord dissoute et retirée, et on poursuit ensuite le trempage dans une solution alcaline concentrée pour retirer la partie diffusée, comme représenté sur la figure 23. le tableau TV 15 donne le temps nécessaire au retrait de la couche de verre non ex- de posée et la résolutioiyl'élément obtenu par retrait de la couche métallique dans la partie non exposée par attaque chimique suivant l'exemple comparatif ÎT° 2. l'unité pour les valeurs numériques du tableau est la minute. 20 TABLEAU IY Echantillon 1 r 2 3 4 a conc. 2-3 3-4 4-6 8 b conc. 3-4 4-5 4-7 10 c conc. 1-2 2-3 3-4 4-6 d conc. 1-2 2-3 -2-4' ■4-6 e conc. 2-5 3-7 5-10 8-15 Résolution 10 jx environ .10 y, environ 10 {x environ 10 y environ lors de la mise en oeuvre du présent exemple comparatif, 30 il se produit une attaque mécanique de la partie diffusée au cours de la phase de dissolution du verre non exposé et, en conséquence, le dessin ainsi formé n1est, pas suffisamment uniforme pour qu'on puisse obtenir un fin dessin d'une dimension inférieure à 10 fi. 35 le temps nécessaire au■retrait du verre non, attaqué est presque identique à celui qu'il faut avec les solutions-,a à e 72 00683 26 2121720 concentrées dans lfexemple comparatif ÏT° 1. Le temps nécessaire au retrait mécanique de. la partie diffusée est presque le même qu'avec les solutions a à e diluées de l'exemple comparatif N° 2• Une partie des morceaux détachés de la partie diffusée est fixée 5 aux dessins. Les résultats ci-dessus montrent clairement que la vitesse d'attaque mécanique de retrait de la partie diffusée est presque constante, quelle que soit la concentration de la solution alcaline aqueuse. De plus, lorsqu'on dilue une solution alcaline con-10 centrée pendant le procédé de la technique antérieure, la vitesse de dissolution de. la couche non exposée est supérieure à la vitesse d'attaque mécanique de la partie diffusée, et le retrait par attaque mécanique de la partie diffusée est simultané à la dissolution du verre non exposé. En conséquence, la résolution est très 15 faible. En d'autres termes, lorsqu'on utilise une solution alcaline concentrée, la différence relative entre les vitesses de retrait du verre non exposé et de retrait de la partie diffus:ée est si faible que les deux actions de retrait ont lieu simultanément, ce qui ne permet pas d'obtenir des dessins de précision élevée. 20 Exemple comparatif H° 4 (Procédé de formation d'un dessin selon l'invention) On utilise un élément photosensible constitué par une couche métallique (10 n d'argent), une couche de verre de calchogène et une couche de support disposées dans cet ordre (échantillons 25 1 à 4) pour former la couche diffusée* comme représenté sur la figure 24. Dans ce cas, la couche métallique a 10 n d'épaisseur et la projection du dessin faite du côté de la couche métallique ne peut pas parvenir à la couche de verre. En conséquence, la projection est effectuée du côté de la couche de support. Alors, la 30 couche métallique restante est retirée par attaque avec un mélange d'acide chronique (figure 25) et l'élément photosensible est trempé dans une solution alcaline aqueuse qui dissout et retire les parties non exposées du verre (figure 26). Le temps de trempage nécessaire pour cette dissolution et 35 son retrait est presque identique à celui des exemples comparatifs 1 à 3, avec les solutions a à e concentrées et diluées. Le dessin 72 00683 27 2121720 obtenu comme représenté sur la figure 26 est suffisamment précis pour la reproduction de fins traits de 2 [i. Au contraire, lorsqu'on trempe l'élément photosensible de la figure 26 dans une solution aqueuse alcaline pendant plus d'une 5 heure, on observe le retrait de la partie diffusée par détachement et mécanique,/il ne reste que la couche de support, comme représenté sur la figure 27. On considère que ce phénomène est dû à la dissolution alcaline de la couche de verre entre la partie diffusée et la couche support. 72 00683 28 2121720 Dans cet exemple comparatif, on n'observe pas de phénomène d'attaque mécanique, ou d'affouillement, dans la partie diffusée au cours de la dissolution et du retrait du verre non exposé à l'aide d'une solution alcaline concentrée. En conséquence, on 5 n'observe pas du tout le phénomène présenté par les morceaux affouillés de la partie diffusée fixés aux dessins comme représenté sur la figure 26, et le dessin a une finesse qui n'est pas réduite. La couche non exposée de verre est dissoute et retirée 10 quelle que soit la concentration de la solution aqueuse alcaline. De plus, lorsqu'on utilise un élément photosensible ayant une couche d'alliage Cu^q AggQ de 0,07 micron d'épaisseur à la place d'une couche d'argent de 10 microns d'épaisseur dans cet essai comparatif, et qu'on réalise une exposition du côté de la 15 couche métallique pendant 2 minutes, on observe une finesse de 1 micron. Les essais comparatifs 1, 2, 3 et 4 permettent de tirer certaines conclusions. Dans le procédé de formation de dessins de l'invention 20 (figures 25 et 26), il ne se produit pas d'affouillement de la partie diffusée par une solution alcaline aqueuse. Selon le procédé de l'invention, le verre non exposé peut être dissous sélectivement et retiré de façon parfaite et on peut obtenir un dessin ayant une finesse supérieure d'un facteur 10 à celle qu'on 25 obtient selon la technique antérieure. Le procédé de l'invention ne met pas en oeuvre la différence relative des vitesses de dissolution et de retrait du verre non exposé et d'affouillement et de retrait de la partie diffusée comme selon la technique antérieure. En conséquence, les 30 conditions opératoires ne sont pas aussi sévères selon l'invention que selon la technique antérieure. Dans la formation de dessins selon la technique antérieure, on retire une partie diffusée insoluble en solution alcaline par affouillement, à une vitesse supérieure au retrait du verre qui 35 est très soluble en solution alcaline à certaines concentrations. Ceci est sans doute dû. à une interaction à l'interface de la partie diffusée et de la partie qui l'entoure. Dans les éléments 72 00683 29 21.21720 photosensibles de la technique antérieure, il se forme une partie diffusée comme représenté sur la figure 18. Une solution alcaline commence à dissoudre la couche non exposée de verre qui est très soluble dans la solution alcaline. D'autre part, la partie dif-5 fusée n'est pas directement affectée par la solution alcaline. Cependant, l'interface entre la partie diffusée et la couche non exposée est facile à pénétrer par la solution alcaline, et celle-ci pénètre rapidement dans l'interface et affaiblit l'adhérence mécanique entre les deux éléments, en atteignant l'interface 10 entre la partie diffusée et la couche métallique. Si l'adhérence mécanique entre la partie diffusée et la couche métallique est rapidement affaiblie par la solution alcaline et si l'adhérence mécanique est complètement supprimée par une grande quantité de solution alcaline ayant pénétré, la partie diffusée n'est pas re-15 tirée par dissolution, mais par affouillement. De plus, lorsque la solution alcaline a une faible concentration, on considère que la vitesse de dissolution du verre non exposé est si lente que l'affouillement de la partie diffusée a lieu en premier, les résultats des essais comparatifs 1, 2 et 3 peuvent être expli-20 qués par le mécanisme décrit. Selon la formation de dessins de l'invention, on traite l'élément dans l'état de la figure 25 avec une solution alcaline. Selon le procédé de l'invention, on n'observe aucun phénomène d'affouillement de la partie diffusée par une solution alcaline, 25 et la couche diffusée forme une interface avec la scouche vitreuse seulement. En conséquence, la raison pour laquelle l'affouillement de la partie diffusée n'a pas lieu est évidente. En d'autres termes, l'abaissement de l'adhérence mécanique à l'interface entre la partie diffusée et le verre, provoqué par une solu-30 tion alcaline, est extrêmement faible en comparaison de l'abaissement de l'adhérence entre la partie diffusée et la couche métallique, si bien qu'il ne se produit*pas d'affouillement de la partie diffusée. Sur les figures 18 et 25, même si l'exposition est:suffisante 35 pour la formation d'une couche diffusée dans toute l'épaisseur de la couche métallique de la figure 18 et stir toute l'épaisseur de la couche de verre de la figure 25, selon la formation de la 72 00683 30 2t21720 technique antérieure, la couche métallique qui perd rapidement son adhérence mécanique avec la partie diffusée du fait de la solution alcaline, forme une interface entre la couche métallique et la partie diffusée et, selon l'invention, celle-ci ne 5 forme pas d'interface avec la couche métallique. Cette différence délicate et l'équilibre de la structure n'entraînent pas de retrait par affouillement de la partie diffusée selon l'invention. Exemple comparatif 5 10 Comme on l'a représenté sur la figure 28, on utilise une - pellicule de résine époxyde comme couche de support. On forme un stratifié comprenant une couche métallique (2 microns d'argent), une couche de verre de chalcogène (3 microns) et la couche de support pour réaliser un élément photosensible, et on réalise 15 une exposition à blanc de manière à former une partie diffusée autour de l'interface entre la couche métallique et la couche de verre. Ensuite, on fixe la couche de support et on l'arrache depuis le côté de la couche métallique à l'aide d'un dynamomètre, et il se produit un détachement facile dans la position A (inter-20 face entre la couche métallique et la partie diffusée). Ensuite, l'interface de la partie diffusée et de la couche métallique est mise sous traction et il se produit une séparation dans la position B (interface du verre et de la partie diffusée). Le tableau Y donne la force de traction nécessaire aux 25 points A et B. TABLEAU V 30 Bchantil-lon 1 2 3 4 A moins de 1 kg/cm2 moins de 1 kg/cm2 moins de 1 kg/cm2 moins de 2 1 kg/cm B Environ 20 kg/cm2 Environ 20 kg/cm2 Environ 30 kg/cm2 Environ 2 40 kg/cm Ces résultats montrent que l'adherence mécanique al'intérêt face de la partie diffusée/de la couche de verre est bien supé-35 rieure à celle qui existe entre la partie diffusée et la couche métallique. De. plus, le procédé de l'invention met en oeuvre la partie diffusée corne partie de formation de dessins, comme repré 72 00683 31 2121720 10 senté sur les figures 25 et 26, si "bien que ce dessin a une résis tance mécanique élevée. La résistance à une solution alcaline d'une interface entre la partie diffusée et la couche de verre et d'une interface entre une partie diffusée et une couche de métal correspond à l'adhérence mécanique de cet essai comparatif. Lorsqu'on utilise, dans les exemples comparatifs 1 à 5, Cd, Mn, Sn et Te à la place d'argent comme couche métallique, on obtient presque les mêmes résultats, mais le. temps d'exposition du dessin est le double de celui qu'on utilise pour l'argent. L'une des utilisations industrielles les plus importantes des dessins obtenus selon l'invention est les caches photographiques. Ceux de l'invention ont une précision suffisante pour la fabrication de circuits très denses, par exemple de circuits intégrés, de cir 15 cuits miniatures et analogues. Les avantages du cache photographique de l'invention sont sa grande précision, sa transparence et sa densité optique dans la partie diffusée, ainsi que les autres caractéristiques de la combinaison d'une couche de verre de chalcogène et d'une couche métallique. La précision d'un cache photo-20 graphique selon l'invention est à peu près dix fois supérieure à celle d'un cache classique, et on peut obtenir au maximum 2000 à 3000 traits au mm. Le cache photographique de l'invention n'a pas d'opacité a due/ la couche métallique, étant donné le retrait préparatoire 25 de la couche métallique, et il est transparent dans la plage vi- V sible. La partie diffusée formant le dessin (ou à la fois la partie diffusée et la couche de verre) a une faible densité optique flpmn la région visible et une densité optique élevée dans l'ultraviolet et le proche ultraviolet. Comme on utilise habituellement, 30 lorsqu'on utilise des caches photographiques, de la lumière ultraviolette ou du proche ultraviolet, le cache de l'invention est utile car la mise en place du cache sur un substrat et la focalisation sont effectuées de façon visible, le cache remplissant cependant son rôle pour la lumière à la longueur d'onde utilisée. 35 En conséquence, l'opération est facile et les résultats sont excellents. De plus, l'effet de cache de la partie diffusée qui forme le dessin est bien supérieur à celui des caches classiques 72 00683 32 2121720 de verre de chalcogène, et le cache de l'invention a une densité optique élevée pour une longueur d'onde particulière à utiliser. En conséquence, l'opération donne un contraste élevé, le cache photographique de l'invention peut être réalisé dans une couche 5 extrêmement fine par préparation d'un élément photosensible fin, étant donné sa densité optique élevée, l'avantage d'une très grande finesse est la facilité de focalisation et la possibilité /es taches formées au bord du dessin du fait de l'effet Fraunhofer ou de l'irrégularité de la quantité de lu-10 mière reçue à la surface du dessin ; ainsi est évitée une diminution de la précision due à une irrégularité de la face latérale du dessin formé par traitement avec une solution alcaline de retrait des parties non exposées, lorsque le dessin de l'invention est utilisé comme cache.photographique, la couche de verre 15 de chalcogène est formée de manière que la partie diffusée moins de 200 nanomètres d'épaisseur, et forme un cache extrêmement fin de très haute précision, permettant d'obtenir les avantages cités. Bien que le cache de l'invention soit réalisé par exposi-20 tion d'un dessin, retrait d'une couche métallique restante puis retrait du verre non exposé, il est possible de ne pas retirer la couche non exposée de verre, pour obtenir un cache utile de façon satisfaisante, la description qui suit concerne cette considération. 25 On peut modifier et régler l'épaisseur de la couche de ver re, en fonction de l'utilisation prévue du cache. Bar exemple, lorsque le dessin est utilisé comme cache pour la fabrication de circuits intégrés, l'épaisseur est telle que la densité optique est suffisante pour la source de l'impression(par exemple compri-30 se entre 1,0 et 3,5, de préférence entre 2,0 et 3,5). lorsqu'on utilise des rayons ultraviolets, l'épaisseur de la couche de verre est comprise entre 50 et 200 nanomètres. lorsqu'on utilise une impression par projection dans une application particulière, on met en oeuvre une exposition monochromatique, par exemple pour 35 la raie g (436 nanomètres) ou e (546 nanomètres) de la lampe à mercure, et en conséquence, le dessin doit avoir une densité optique suffisante pour cette longueur d'onde. 00683 2121720 33 Le tableau VI donne la transmission et la densité optique pour les raies g et les raies e du verre non exposé et pour la partie diffusée dans plusieurs cas. TABLEAU VI Verre de chalcogène seur, nanomètres ITon exposé à la raie g Diffusé par la raie g lion exposé à la raie e Diffusé par la raie e Transmission M Densité optique Transmission (?») Densité opti-aue Transmission M Densité optique Transmission m Densité apti-aue Asgfe^ 400 18 0,75 10 2,0 90 0,05 60 0,2 As Se 200 2 1,7 0,3 2,5 80 0,1 40 0,4 As2Se^ 200 1 2,0 0,5 2,3 70 0,15 20 0,7 500 0,1 3,0 0,06 3,1 40 0,4 10 1 ASgSgSe 300 3,5 1,5 0,8 2,1 45 0,35 20 0,7 AS2S3 350 1 2,0 0,1 3,0 80 0,1 40 r\ A As24S70Te - 300 3 0,1 3,0 0,1 3,0 25 0,6 10 ■ 2,0 20 le tableau VI .montre que la densité optique de la partie dif fusée pour la raie g est comprise entre 2 et 3» et supérieure à celle correspondant à la raie e, qui est comprise entre 0,2 et 1,0 j en conséquence, la partie diffusée à un effet important de cache pour la raie g et un effet bien moins important pour la raie e, 25 qui se trouve dans la plage visible, si bien qu'il s'agit d'un cache transparent j ainsi,la différence de densité optique entre la partie diffusée et la partie non exposée, pour la raie g, est de l'ordre de 0,5 à 1,0, ce qui donne l'avantage des caches de l'invention. 30 lorsque le dessin produit par les seules phases d'exposition et de retrait de la couche métallique est utilisé comme cache photographique, on met en oeuvre la différence des densités optiques entre les parties diffusée et non exposée . 72 00683 34 2121720 Sx on considère à nouveau les données du tableau VI de ce point de vue# lorsque la différence de densité optique est de l'ordre de 1,0, on peut utiliser l'élément comme cache. Pour obtenir une différence supérieure de densité optique, on doit choisir 5 le verre approprié de chalcogène. Il est souhaitable d'utiliser un verre de chalcogène dont la densité optique pour une longueur d'onde prédéterminée (par exemple la raie g de la lampe à mercure) est inférieure à 0,5 environ, la partie diffusée formée par exposition à la lumière 10 ayant une densité optique supérieure à 2,0, c'est-à-dire que la différence de densité optique est supérieure à 1,5. Un tel verre de chalcogène convenant pour un élément photosensible peut être par exemple un verre contenant S en quantité importante. Un tel verre riche en soufre est une matière efficace selon l'invention. 15 Dans ce cas, l'épaisseur de la couche de verre est de pré férence inférieure à 1 micron et notamment à 0,5 micron, pour favoriser la précision et l'obtention de la densité optique voulue. le verre inapproprié de chalcogène ayant une différence insuffisante de densité optique entre la partie exposée et la par-20 tie diffusée peut être par exemple un verre de chalcogène contenant plus de 5 f° en poids de chalcogène, un verre contenant en grande quantité des éléments tels que Sb, Tl, Te, Ge et Si. De tels éléments doivent être chassés et doivent constituer moins de 20 atomes 7° de la composition au total. 25 Le verre approprié riche en soufre peut être par exemple As5Q S50, As2Q S80, As1q Sgo dans le système As-S, As2Q S?0 Se1Q, As^q Sj-q Se2o» As20 S40 Se40* "^20 S50 S®30 da21S le s3rs't®me As-S-Se AS15 Sq0 Te10 dans le système As-S-Te, AS^q Sb1Q SgQ, As^ Sb dans le système As-Sb-S et As^Q S^ Ge.^, "ô"s20 S60 Ge20' As30 S60 30 Ge-jQ dans le système As-S-Ge. La densité optique de la partie diffusée peut aussi être directement réglée par l'épaisseur de la couche métallique. Lorsque cette dernière est relativement épaisse, la couche diffusée est riche en métal, bien qu'une exposition suffisante soit néces-35 saire, et la densité optique est importante. L'épaisseur de la couche métallique est comprise entre 0,005 et 0,2 micron, de préférence entre 0,01 et 0,1 micron, pour favoriser l'obtention des 72 00683 35 2121720 densités optiques et de la photosensibilité voulue. Les figures 29 à 34 représentent des diagrammes des phénomènes cités pour divers verres de chalcogène. Sur ces dessins, les abscisses représentent la longueur d'onde en millimicrons et les ordonnées 5 la différence AD des densités optiques de la partie diffusée de la partie non exposée (la couche de verre elle-même), l'épaisseur de la couche de verre est d'environ 400 millimicrons, la couche métallique utilisée ayant une épaisseur de 200, 300 et 500 angstrSms, le métal utilisé étant Ag. Ces figures montrent 10 toutes que la valeur de AD varie dans une grande mesure pour chaque épaisseur de la couche, et la valeur de AD s'élève rapidement dans la plage des courtes longueurs d'ondes. la figure 29 illustre les exemples des systèmes As-S et As-Sb-S. La figure 30 illustre des exemples du système As-S-Se. 15 Sur ces deux figures, on observe une élévation rapide de la valeur de AD vers les courtes longueurs d'ondes. la figure 32 illustre des exemples de As2 S^ avec ou sans addition d'iode dans un rapport molaire de 0,57 à 1,98 mole d'iode par mole de As2 S^, et ce phénomène implique que 3.'élévation ra-20 pide dans la plage des courtes longueurs d'ondes n'apparaît pas lorsqu'on ajoute beaucoup d'iode ; en conséquence, on ne peut pas obtenir le contraste élevé et les éléments ne conviennent pas pour la réalisation de cache photographique réalisé par exposition et retrait de la couche métallique. 25 la figure 33 illustre des exemples de As-S-Te, et on observe une 'variation uniforme de la valeur de AD dans toute la plage visible pour le verre riche en Te, et en conséquence la transparence disparaît. Pour un verre pauvre en Te, on observe une élévation rapide de la valeur de AD, si bien qu'un tel verre peut être utili-30 sé comme cache transparent. De plus, cette figure illustre une caractéristique qui est fonction de la modification de la couche métallique, si bien que la densité optique de la partie diffusée varie et assure une large plage, en fonction de l'épaisseur de la, couche métallique, le cache photographique obtenu par retrait de 35 la seule couche métallique et fixation sans retrait de la couche non exposée de verre est un cache transparent stable qui ne varie pas au cours du stockage. Comme l'attaque d'une couche de verre 72 00683 36 2121720 par une solution alcaline n'est pas mise en oeuvre dans la réalisation ci-dessus, une perte dans les phases préparatoires est faible et l'opération est simple, si bien que le prix est faible. Du fait qu'il n'y a pas de phase d'attaque, il est facile d'obte-5 nir une résolution dépassant 2000 traits par mm et même 3000 traits par mm. De plus, comme il n'y a pas de retrait de la couche non exposée de verre, il n'y a pas de surface irrégulière et en conséquence, la résistance est suffisante. Un tel cache a un contraste élevé ou une irradiation assurant l'impression du des-10 sin sur une plaquette de semi-conducteur, et il constitue un cache transparent destiné à la fabrication d'un élément de circuits intégrés ou d'éléments intégrés à grande échelle. Un tel cache est transparent dans la plage visible. On peut utiliser un tel cache pour exposer le dessin sur une 15 réserve photographique. Une telle réserve est en général sensible aux longueurs d'ondes inférieures à 450 millimicrons. L'exposition peut être réalisée à l'aide d'un cache ayant une différence de densité optique supérieure à 1,5» et de préférence supérieure à 2,0 dans la plage de longueurs d'ondes inférieure à 450 millimi-20 crons, avec une lumière à une telle longueur d'onde. On mesure la différence de densité optique entre la partie formant le dessin (c'est-à-dire la partie diffusée) et le fond (c'est-à-dire la couche de verre elle-même). On peut éventuellement choisir la réserve photographique 25 à utiliser dans les matières classiques. On peut citer comme telle matière de la technique antérieure par exemple la matière "KPR" (Kodak Photo Resist, disponible chez Kodak), "KMER" ("Kodak Métal Etch Resist", disponible chez Kodak), "TPR" (disponible chez Tokyo Oyo Kagaku), "Shipley AZ'1350" (disponible chez 30 SHIPLEY), "KTFR" ("Kodak Thin Film Resist», disponible chez Kodak). On peut citer comme agentsd'enlèvement destiné à la dissolution d'une réserve photographique dans la partie exposée par exemple le trichloréthylène, le chlorure de méthylène, le produit "AZ" (disponible chez SHIPLEY), et l'acide sulfurique concentré chaud. 35 L'exposition est réalisée à travers le cache, placé sur la plaque métallique, la plaque de verre ou la plaquette semi-conductrice, sur la matière formant un dessin par attaque. 72 00683 37 2121720 De plus, le cache de l'invention peut être utilisé comme cache de réserve anti-acide, par mise en oeuvre de la résistance aux acides de la partie attaquée. Dans ce cas, les couches photosensibles sont réalisées sur la plaque à attaquer avec un acide, 5 c'est-à-dire que la couche de support de l'élément photosensible est la plaque à attaquer. On réalise sur l'élément ainsi forme l'exposition, le retrait de la couche métallique restante, le retrait du verre non exposé et l'attaque de la couche de support avec un acide. 10 Le dessin de l'invention peut aussi être utilisé en micro photographie, surtout à résolution élevée, et pour la formation d'un dessin image. Le cache transparent cité peut évidemment être utilisé en microphotographie. Lorsqu'il existe une différence de densité optique entre la partie diffusée et le verre non exposé 15 pour une certaine longueur d'onde, on peut utiliser le dessin comme microphotographie. Dans ce cas, les conditions, le mode opératoire et les dispositifs sont analogues à ceux qu'on utilise pour le cache photographique. Le dessin réalisé selon l'invention est un dessin de résis-20 tance électrique. Dans la partie diffusée formée dans la couche de verre et la couche de métal, des variations physiques et chimiques provoquent une diminution de là résistance superficielle dans la partie diffusée, par rapport à la partie non^exposée. Sur la figure 34, la résistance de la partie/diffusée est 25 réduite comme représenté sur la figure, et la résistance de la partie 9 non exposée reste élevée, du fait de sa résistivité élevée, c'est-à-dire qu'elle est à l'état isolant, l'ensemble formant une résistance. Celle-ci peut être utilisée comme'résistance électrique très précise. En particulier, dans le dessin représen-30 té sur la figure 35 où la couche de support est en matière conductrice, le dessin résistant ainsi formé est utilisé par exemple pour un circuit électrique de haute résolution (en particulier pour un circuit de micro-électronique). Le dessin de la résistance peut aussi être utilisé pour d'autres applications, par exemple 35 comme modèle pour la mise en oeuvre d'un procédé par photographie électrostatique comme représenté sur la figure 36. Le dessin représenté sur la figure.34 est soumis à des charges électriques 72 00683 38 2121720 de manière qu'il reste une charge 12 sur la partie non exposée, du fait de sa résistance élevée. Comme la partie 10 a une faible résistance, la charge électrostatique disparaît et ne peut pas rester sur la partie diffusée. 5 le dessin latent ainsi formé est développé avec une poudre colorante chargée qui forme un dessin visible. Dans un autre procédé de photographie électrostatique, on peut former un dessin latent en utilisant le dessin sur la figure 35, et en mettant en oeuvre la différence de résistance entre 10 la couche de support et la couche diffusée. Selon les techniques de photographie électrostatique, la différence de charge électrostatique est suffisante pour la formation d'un dessin latent. Sur la figure 35 où la couche de support est en matière conductrice, par exemple en métal, la. charge reste dans la partie diffusée. 15 lorsque la couche de support est en matière isolante, par exemple en pellicule de résine synthétique, la charge reste en grande partie dans la couche de support et forme le dessin latent. Selon la technique antérieure, le réglage éventuel peut être réalisé par un choix convenable de la matière de support et du verre de 20 chalcogène. Le tableau VII donne des données de comparaison des sensibilités électriques du verre non exposé et de la partie diffusée. Dans ce tableau, l'élément photosensible est constitué par une couche de verre de chalcogène de 500 millimicrons d'épaisseur et 25 une couche métallique d'argent de 50 millimicrons d'épaisseur, la source d'irradiation étant une lampe à vapeur de mercure très haute pression de 250 watts placée à 30 cm, l'exposition durant 7 minutes. 72 00683 39 2121720 TABLEAU VII Résistivité ( Qcm) Verre de chalcogène Partie diffusée Partie non , exposée 4AsS,.S.Te 4 4 4As1,5S3,5'S1,5Te1,5 As0Se^..As0Te_ 3As0Se^»AsriTe_ 2 5 2 5 sh2s3 10 As0S_ 2 5 10 10 14 13 10 12 10 10 10 14 10 10' 10' 10' 10- 8 L'utilisation selon une variante du dessin de résistance de l'invention s'effectue comme représenté sur la figure 4, sur laquelle la surface de l'élément comprend des électrodes convenables en fonction du dessin formé. 15 Les caractéristiques électriques de la partie diffusée obte nue selon l'invention concernent d'importantes modifications de la photoconductivité, la force électromotrice sous irradiation, de la résistance et de la tension (c'est-à-dire de l'effet de commutation ou de l'effet de mémoire) et analogue, par comparai-20 son avec la partie non exposée. De telles caractéristiques de la partie diffusée assurent que le circuit électrique a une stabilité élevée au cours du fonctionnement, a une longue durée et est très fiable, notamment sous l'irradiation lumineuse, tout en étant facile à entretenir. On peut utiliser un tel élément de circuit 25 électrique comme élément résistant, élément de commutation, élément de mémoire, élément photoconducteur, élément de photopile, condenseur et de toute sorte d'autres éléments, ainsi qu'en combinaison avec les éléments cités sous diverses formes. La figure 37 représente un exemple d'article terminé formé 30 de tels éléments, représentés en plan, un support isolant 3 portant une électrode 13, les parties 10 et 10' diffusées étant destinées à former un élément de commutation. La réalisation de l'élément de la figure 37 est représentée schématiquement sur les figures 38 à 43. Sur la figure 38, la couche 2' de verre de chalco- 72 00683 40 2121720 gène et les couches 1 et 1' de métal sont formées uniformément sur la plaque isolante 3 de base, en formant un élément photoconducteur. la figure 39 représente en plan le dispositif de la figure 38, les couches métalliques 1 et 2' étant réalisées à la 5 surface, la couche métallique a de préférence une épaisseur inférieure "à 200 millimicrons. la figure 40 représente une coupe des parties 10 et 10l formées par l'exposition. Lorsque l'élément est exposé par projection à travers un dessin d'origine, les couches 1 et 1' sont disposées dans la couche 2' et forment 10 les parties 10 et 10' respectivement. La figure 41 représente l'élément fixé après retrait de la couche métallique restante. La figure 42 représente l'élément dans lequel la couche de verre est retirée. Un verre de chalcogène en général est remarquablement hydrophobe et n'absorbe pas d'humidité et en conséquence, 15 la résistance de fuite à la surface est en général élevée. Lorsqu'on utilise un tel verre isolant comme matière de départ, il n'est pas nécessaire de retirer le verre dans les parties non exposées, et on le laisse dans l'élément. En d'autres termes, on peut réaliser l'élément uniquement par exposition et retrait 20 du métal restant, avec obtention d'une isolation élevée. La figure 43 montre l'élément d'un circuit électrique terminé par réalisation des électrodes 13 destinées à une association avec une ligne. On peut réaliser l'élément représenté sur la figure 37 sui-25 vant les procédés décrits. Les figures 44 et 45 représentent des variantes destinées à la réalisation du produit de la figure 37» La figure 44 montre l'élément dans lequel la plaque isolante 3 porte une ^couche 2 et une couche 2' elle aussi en verre de 30 chalcogène mais de composition différente. Ensuite, la couche métallique 1 est formée sur les deux couches. La figure 45 montre la formation des parties diffusées 10 et 10' dans les couches 2 et 2' par exposition. Après cette opération, l'élément est réalisé comme représenté sur les figures 41 à 43 par retrait de la 35 couche métallique restante, retrait de la couche non exposée de verre et réalisation d'électrode. De plus, lorsqu'on réalise un tel élément électrique, la formation des parties diffusées en direction verticale dans les 72 00683 2121720 41 couches métalliques et de verre n'est pas absolument nécessaire dans toute l'épaisseur comme représenté sur. les figures 2, 5 et 7 à 9 et comme décrit précédemment. La figure 46 est un diagramme représentant les caractéris-5 tiques électriques de l'élément de commutation réalisé selon l'invention. Les abscisses donnent la tension entre deux électrodes portées- par la plaque de verre, les ordonnées représentent le courant passant entre les électrodes. Lorsque la tension est inférieure à une valeur de seuil» l'élément est à l'état isolant 10 (représenté en A sur la figure 46). Lorsque la tension atteint la valeur de seuil, la résistance de l'élément chute rapidement en environ 10. seconde et l'élément devient conducteur* La va- g riation de la résistance atteint environ 10 Q cm. A l'état conducteur, la tension chute comme représenté en 15 B sur la figure 46. De plus, lorsque la tension diminue, l'élément revient à l'état isolant. De plus, lorsque la tension diminue elle suit la droite A de la figure 46. La reproductibilité est bonne, si bien qu'on peut recommencer l'opération. La figure 47 représente les caractéristiques d'un élément 20 à mémoire dans lequel l'élément de commutation de l'invention est utilisé comme élément de mémoire. La réalisation à l'état conducteur est interprétée comme dans le cas de la figure 46. Lorsque la tension diminue depuis l'état B, l'élément présente une relation courant-tension représentée par la droite O, si bien que 25 l'élément est à l'état conducteur. Lorsque la tension atteint 0, l'état conducteur se maintient, à faible résistance. Pour un certain verre de chalcogène, la faible résistance est permanente.' Dans d'autres verres, la résistance peut revenir progressivement à la valeur qu'elle a lorsque l'élément est isolant. Il peut 30 falloir plusieurs jours ou plusieurs semaines, ou un temps plus ou moins long pour que l'élément revienne à l'état isolant. Ceci dépend de la composition du verre. Pour une certaine composition, on peut favoriser la variation par l'irradiation lumineuse. Par exemple, dans As2 contenant Ag, le temps 35 de retour est de plusieurs semaines et dans un exemple du système Ge-As-îe, l'élément est fixé en permanence. On peut obtenir l'effet de commutation dans le système Si-Ge-As-Ie. 72 00683 42 2121720 Dans l'élément à mémoire, il est souhaitable de fixer en permanence la faible résistance. Lorsque la tension est appliquée, la caractéristique de la droite G de la figure 47 se reproduit, lorsque la tension dans l'état B est obtenue par des impulsions, 5 un état enregistré est effacé et l'état isolant est rétabli. En conséquence, on peut utiliser la mémqire de l'invention comme élément réversible, notamment dans un calculateur. Comme on peut réaliser un fin dessin selon l'invention, la mémoire peut avoir une densité très élevée. 10 Le dessin de l'invention peut être aussi utilisé comme élé ment photoconducteur ou comme photopile. On sait dans la technique que la résistance d'un verre de chalcogène varie sous l'irradiation lumineuse, ce qui influe sur la force électromotrice. La photoconductivité du verre de chalcogène varie par dif-15 fusion. De plus, lorsqu'on utilise l'élément de l'invention comme condensateur, il comprend une fine couche isolante de verre de chalcogène placée entre deux fines électrodes. Le condensateur n'a pas une grande capacité, car il lui faut un grand espace. Dans un circuit composite ou un circuit intégré utilisé, avec d'autres 20 circuits, un tel condensateur convient bien du fait.de sa faible épaisseur. 72 00683 43 2121720 Pour d'autres éléments que ceux qu'on a décrits précédemment, on peut mettre par exemple en oeuvre l'invention pour réaliser une inductance, à l'aide d'une partie diffusée en spirale, un élément destiné à former un revêtement sur un semi-conducteur, 5 ou une matière destinée à être combinée avec un semi-conducteur, par exemple sous forme d'une diode ou d'un transistor. -De telles réalisations sont évidentes pour l'homme de l'art, à la lecture du présent mémoire. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, la couche 10 de support étant alors en matièrg^onductrice, l'élément,après retrait de la couche métallique restante, est trempé • dans un liquide de revêtement qui forme un dessin très précis. Un tel dessin est revêtu par un métal. De plus, la trame du dessin revêtu peut être réalisée par retrait de la couche dersupport. 15 l'utilisation de l'élément photosensible comme dessin de revêtement est basée sur le fait qu'une coucha de verre de chalcogène est très isolante et que la partie diffusée est relativement conductrice, la différence de résistance entre ces deux parties fi Q étant d'environ 10 à 10 ohms.cm. De plus, l'utilisation est 20 basée sur le fait que la couche de verre exposée à un dessin lumineux est dissoute préférentiellement, la couche conductrice de support étant directement en contact du liquide de revêtement. De plus, les figures 48 à 52 représentent des phases de la réalisation d'un dessin de revêtement, selon un mode de-réalisation pré-25 féré de l'invention, le revêtement de l'invention est nettement différent de celui qu'on réalise selon la technique antérieure, la figure 48 représente l'exposition d'un dessin destiné à la préparation d'un dessin de revêtement, la plaque 1 de support est en métal, et elle porte la couche 2 de verre de chalcogène. la partie 30 10 diffusée de la figure 49 est formée par exposition, comme décrit à propos de la figure 48. Ensuite a lieu le revêtement comme représenté sur la figure 53 dans une solution 15 contenant l'élément photosensible et une électrode 14, l'élément étant réalisé comme représenté sur la figure 50 après mise sous tension, la par-35 tie conductrice formée par diffusion est dissoute ou décomposée dans une solution de revêtement. Ensuite, la surface de la couche de support conducteur est réalisée sélectivement, et sur cette surface 72 00683 44 2121720 est formée la couche 16, comme représenté sur la figure 51. Cependant, au cours de la formation d'une couche de revêtement, la couche 2. disparaît progressivement par un mécanisme mal connu, et elle disparaît enfin totalement, le temps nécessaire à l'éli-5 mination totale peut être réglé de manière à être analogue au temps nécessaire à la formation suffisante de la couche de revêtement. Comme le montre la figure 52, la condition de revêtement est choisie de manière que, lorsque le revêtement est terminé, on ait obtenu le produit. Comme le montre clairement la description qui 10 précède, ce procédé met en oeuvre la différence des vitesses de décomposition ou de dissolution de la partie diffusée et celle de la partie non exposée. En conséquence, chaque fois que la couche de verre est épaisse et que la diffusion n'est pas suffisante dans le sens de l'épaisseur, on peut former le dessin analogue 15 de revêtement en utilisant un long temps de revêtement. Pour revêtir le dessin placé sur la surface du support conducteur, il n'est pas nécessaire d'utiliser un procédé particulier de revêtement. On peut mettre en oeuvre un procédé classique, par exemple en utilisant une solution classique, par exemple d'acide chromique eonte-20 nant 250 g d'anhydride chromique, 2,5 g d'acide sulfurique et 1 litre d'eau, une solution aqueuse contenant 60 g/l de cyanure de zinc, 60 g/l de cyanure de sodium, 75 g/l de soude caustique et 75 g de sulfure de sodium, une solution contenant 65 g/l de cyanure de sodium, 45 g/l de cyanure de cuivre et 3 à 5 g/l de soude, 25 ou une solution aqueuse de sulfate de cuivre. l'invention est illustrée par les exemples détaillés suivants, qui sont non limitatifs. BXEiCPLB 1 30 g d'arsenic et 19,2 g de soufre de pureté élevée sont 30 disposés dans un tube de quartz scellé chauffé à 620°C pendant 5 heures environ au four électrique, puis rapidement refroidis, si bien qu'ils forment un verre As^S^. Cette matière est mise en poudre et on recueille 1 g de poudre qu'on introduit dans une nacelle de tantale. On réalise le 35 dépôt en phase vapeur de sur une plaque de verre nettoyée aux ultrasons et disposée dans l'appareil de dépôt, le vide qui —5 règne est de 10 torr, la température de la source est d'environ 72 ÔÔ683 45 2121720 300°C> la température de la plaque est la température ambiante et la distance entre la source et la plaque est d'environ 30 cm. la couche déposée (verre de chalcogène) a une couleur jaune-orangé, elle est transparente et a une épaisseur de 500 mu environ. 5 2g d'argent de pureté élevée sont introduits dans une na celle de tungstène et déposés sous vide sur la couche de verre de —5 chalcogène, le vide étant de 10 torr et la température de la source étant d'environ 800°0. On réalise l'exposition sur un dessin proche de la pellicule à deux couches formée par - Ag. 10 l'exposition est telle que sa durée est d'environ 7 minutes et lg&istance de' la source de radiation , une lampe à vapeur de mercure à très haute pression de 250 -watts et 30 cm. Il se forme un g dessin résistant de 10 ohms.cmdans la partie exposée, et le dessin conducteur d'argent dans la partie non exposée. 15 le tableau VIII donne la variation de la résistance en fonc tion du temps d'exposition, des parties exposées. TAB1BAU VIII Temps d'exposition Résistance (ohms-cm) (minutes) 20 0 1014 3 109 7 108 On trempe les couches résultantes pendant 1 seconde environ dans un mélange liquide d'acide chromique (K^C^O^-H^SO^) de ma- 25 nière à retirer l'argent. Dans les parties exposées, la résistance 8 >-14 ést de 10 ohms-cm et dans les parties non exposées de 10 ohms-cm. (Après retrait de l'argent, la partie exposée devient rouge-orangé, et elle a l'aspect différent des parties non exposées, le dessin étant visible avant l'attaque). 30 Une telle variation de la coloration de la partie exposée de As2S^ apparaît sur la figure 54 qui représente les courbes de transmission. Sur la figure 54, les ordonnées représentant la transmission,, la courbe A représente la partie non exposée du verre et la courbe B la partie exposée (c'est-à-dire diffusée). 35 En d'autres termes, la courbe A donne la transmission spectrale de la couche de verre et de la plaque et la courbe B la transmission spectrale de la composition qui subit de plus lé dépôt 72 00683 46 2121720 d'argent» l'exposition, puis le retrait d'argent restant par le mélange liquide contenant l'acide chromique. Après retrait de l'argent, As2S^ est trempé dans une solution saturée de potasse alcoolqùe pendant environ 10 secondes, 5 pour dissoudre et retirer rapidement As^^ dans les parties non exposées, si bien qu'il se forme un dessin très fin. Comme solution alcaline d'attaque du'verre non exposé, on peut aussi utiliser avec autant de satisfaction une solution aqueuse à 3 c/° de ITaOH et une solution aqueuse saturée en Ba(0H)2. 10 Le dessin ainsi obtenu a une densité optique suffisante pour la raie g du. mercure et une transparence relative pour la raie e et, en conséquence, il est utile comme cache original utilisé avec un projecteur d'exposition, ainsi qu'avec une machine d'impression de circuit intégré, par exemple la machine "PPC-1" 15 fabriquée par Canon K. E. Sur une plaquette de silicium recouverte de silice Si02, on dépose en phase vapeur As2S^, puis de l'argent pour former des couches de 200 et 50' mu respectivement, par dépôt sous vide dans les mêmes conditions que décrit précédemment. 20 Après impression à travers un cache sur les couches à l'aide de la machine "PPC-1", on retire la couche d'argent, puis la partie non exposée à l'aide d'une solution aqueuse à 3 % de BaOH de manière à former le dessin de réserve de verre. Ensuite, on attaque la plaquette de silicium à l'acide fluorhydrique. On constate 25 que la couche de verre résiste à l'acide fluorhydrique. La résolution pratique est de l'ordre de 1 ^i. Lorsqu'on utilise une réserve photographique, la présentation d'onde stationnaire due à l'interaction de la lumière réfléchie à la surface de la plaquette assure un durcissement insuffisant, si bien que la résolution et 30 la finesse sont réduites. Lorsqu'on utilise legfcouches de métal et de verre selon l'invention, on n'c^serve pas ce phénomène. Le tableau IX donne les caractéristiques, notamment la sensibilité, d'un autre verre que As2S^. 72 00683 47 TABLEAU IX - f1) 2121720 Verre de chalcogène 4AsS^.s^ïe 4As1,5S1,5*S1,5Te1,5 As^e^.ASgTe^ 3As0Se_.As0Te^ 2 5 2 5 As^Te^ 10 Sb2S5 ks£3 Sensibilité relative 100 15 100 20 1,0 2,0 TABLEAU IX - Solubilité dans une base de la partie non exposée bon incomplet bon bon bon bon 15 20 Verre de chalcogène 4AsS4.S4Te 4As1,5S1,5-S1,5Te1,5 As0Se^.As0Te-j 2 3 2 5 As^jTe^ Sb2S3 As2S^ Résistance dans un liquide oxydant bon bon bon bon bon Caractéristique du dessin Actif à l'obscurité Pour le tableau IX, l'épaisseur de la fine couche métallique d'argent est de 50 m|i et celle de la couche de verre est de 25 500 mp. La sensibilité relative désigne les valeurs relatives estimées en fonction de l'inverse du temps nécessaire pour obtenir un dessin transparent, la valeur 100 étant attribuée au système 4AsS4.S4Te. La caractéristique des expériences précédentes est indiquée 30 par la solubilité en solution alcaline et la résistance à un liquide oxydant. La sensibilité selon l'invention dépend de la combinaison sélective du verre de chalcogène et du métal composant les éléments photosensibles de l'invention. Pour choisir de façon convenable le verre et le métal utilisés, on doit considérer 35 les qualités de retrait de ces couches et la transmission en plus de la sensibilité. 72 00683 48 2121720 le tableau X donne les résultats observés, notamment en ce qui concerne la transmission dans plusieurs cas. TABLEAU X - (1) 5 Verre de chalcogène Zn Cr Métal Mn Ni Cu As^e^.ASgTe^ O X O X O 3As2Se^. As2Te^ X o O X X 4S1,5lS1,5* S1,5Te1,5 . X o O X Ô As2S3 X X O o O 10 Sb0Se, 2 3 X X X X ' X As2Te X X O X X As0Se^ 2 5 X X O O O Sb2S5 X X O X X TABLEAU X - (2) Verre de chaloogène Cd In Métal Ga Bi Te As^Se^. As2Te^ O X X X X 3As2Se^. As2Te^ O X X O X 4S1,5As1,5" S1,5Te1,5 o X O O X As2S^ o X O O O Sb0Se, 2 3 X. X X X X As2Te X X X X X ASpSe^ O O X O X t ^ Sb9S, o X X X X 25 Dans l'expérience du tableau X, la couche de verre a 500 mu d'épaisseur et la couche de métal 50 mp.. L'exposition est réalisée à travers le dessin original à une distance de 30 cm de la source qui est une lampe à vapeur de mercure très Iiaute pression de 250 watts. Dans le cas représenté par (^) on observe 30 la différence de solubilité entre les parties exposées et non exposées lors d'une exposition de 5 à 10 minutes. Dans le cas 72 00683 49 2121720 repéré par x, on n'observe pas de différence de solubilité dans une exposition pour un temps de 10 minutes. EXa-IPLE 2 Sans les mêmes conditions que l'exemple 1, la couche 5 de 200 m}i d'épaisseur est réalisée d'abord sur la plaque de verre par dépôt sous vide, puis la couche d'argent de 100 mji d'épaisseur est formée pour réaliser l'élément photosensible. L'exposition est appliquée à cet élément ainsi réalisé, par1 le même procédé que dans l'exemple 1» lia période nécessaire pour former le 10 dessin approprié aussi fin que dans 1 ' exemple 1 est de 10 à 12 minutes. " BX6KPLB 5 Dans les mêmes conditions que dans l'exemple 1, la couche de 1000 mji d'épaisseur est formée sur la plaque de verre 15 par dépôt, puis la couche de Ag de 200 mp. d'épaisseur est formée par dépôt sous vide, de manière à réaliser l'élément photosensible. L'exposition est appliquée à l'élément photosensible ainsi réalisé à travers un dessin image suivant le mêm^opCTatoire que dans l'exemple 1. lie résultat équivaut à un temps très long pour obte-20 nir le dessin transparent voulu. Lorsque l'exposition est appliquée par le côté de la plaque de base en verre, le temps d'exposition est de 8 minutes, mais la résolution du. dessin formé est faible. EXEMPLE 4 25 Comme dans l'exemple 3 » la couche As^p^. de 1000 mp. d'épais seur est formée sur la plaque de verre de base, puis la couche Ag de 500 cm est formée par dépôt en phase vapeur, de manière à réaliser l'élément photosensible. L'exposition est appliquée du côté de la plaque de base à l'élément, de manière à foraer le 30 dessin image. Le résultat est que le temps d'exposition nécessaire est de 10 minutes, nais la résolution du dessin sur le verre de chalcogène est faible. EXg-:PL5 5 Après mise en place de l'élément photosensible de X'exenple 35 1 très près d'un cache en chrome formant un dessin d'essai destiné à la fabrication de circuits intégrés, l'exposition est appliquée à partir d'une lampe au xénon de 500 watts, et on 72 00683 50 2121720 réalise le développement dans une solution froide de SaOH à 3 7°i lavage à l,eau et séchage. On observe comme résultat un dessin reproduit avec une fidélité suffisante, la résolution pratique étant de 1,5 p. 5 SXEIIP15 6 Le dessin de circuits intégrés est appliqué sur 1'élément photosensible de l'exemple 1 par exposition d'un faisceau électronique. les conditions d'exposition sont telles que la tension —6 2 accélératrice est de 25 kY et le courant est de 10 coulomb/cm . 10 le dessin de verre chalcogène est réalisé de la même manière que dans l'exemple 1.- Le dessin obtenu est fin. BXBISPlg 7 Sur une plaque de verre "îfesa" revêtue d'oxyde d'étain, on forme une co-ehe de 4(S_ ,-As*, c-Te. j- d'environ 500 mp. d'épais- 15 seur par dépôt sous vide, puis on forme une couche d'argent d'environ 500 mp. d'épaisseur, par dépôt sous vide, pour réaliser l'élément photosensible utilisé dans cet exemple, le 4{S^ ^-As^ j-Te. j. est synthétisé à partir d'un mélange de j-As, j- et de S_ cfe, c en rapport molaire 4:1. 20 Après mise en place d'un cache approprié sur l'élément pho tosensible, l'exposition a lieu à une distance d'environ 30 cm à l'aide d'une lampe à vapeur de mercure à très haute pression de 250 watts pendant environ 1 minute, la couche d'argent restante est retirée par un mélange liquide contenant de l'acide chromique. 25 le verre de chalcogène est extrêmement résistant à l'acide et ne varie pas. la partie non exposée est retirée par une solution saturée de soude alcoolique, la partie diffusée reste collée à la plaque de support. Il faut noter que l'argent diffuse sélectivement dans 4(S. j-As, K)S. cTe en provoquant la différence de solubilité 30 en solution alcaline entre la partie diffusée et la partie non exposée. On dépose Au à la surface de la partie ciffusée pour former une couche d'environ 200 np. d'épaisseur, et on utilise l'élément comme circuit de mémoire. Une tension d'essai est appliquée entre une électrode "îlesa" que 35 et une electrode, et elle montre/la tension d'environ 500 Y/cm ■3 assure une chute de résistance d'environ 10 . lors du retrait de la charge, on observe que la résistance reste à sa faible valeur. 72 00683 51 2121720 En d'autres termes, la présentation d'un phénomène de mémoire est confirmée. De plus, lorsqu'on applique une forte irradiation à partir d'une lampe à vapeur de mercure très proche, de 250 watts, la résistance élevée revient. Lorsqu'on applique un champ élec- 5 trique supérieur à 500 V/cm d'irradiation, on n'observe pas de chute de la résistance. Dans la partie non exposée, on n'observe 12 pas le phénomène cité et l'état isolant reste à 10 ohms.cm. EXEMPLE 8 On réalise un élément analogue à celui de l'exemple 7 en uti-10 lisant les mêmes matières, mais on remplace Ag par Cu, et on suit le même/opératoire que dans l'exemple 7. La partie diffusée reste collée à la plaque de base, la caractéristique photoconductrice étant observée dans la partie diffusée, mais non dans la partie non exposée. 15 Lorsque l'irradiation est appliquée du côté de l'électrode "lïesa", on peut utiliser l'élément comme cellule photoconductrice. EXEMPLE 9 On réalise un élément photosensible analogue à celui de l'exemple 7, mais on utilise 2(S„ j-As. j-)S. ^Te comme verre de Jl J 1 f J I 9 0 20 chalcogène. Le résistance électrique de la partie diffusée diminue de l'ordre d'environ 104, en comparaison de la résistance de la partie non exposée. L'élément ne varie pas pour diverses tensions et on peut l'utiliser comme résistance élevée. non De plus, on retire la partie/exposée par traitement avec 25 une base de manière à former un dessin résistant. Le dessin peut être utilisé omme résistance par mise en place d'électrodes aux deux extrémités du dessin. Bien que le procédé classique de réalisation d'un élément résistant en couche mince par impression soit connu, on peut faci-30 lement réaliser l'élément résistant ayant les mêmes caractéristiques selon l'invention. EXBLIPLB 10 A la surface polie d'une plaquette de verre de chalcogène ayant la composition As^Te^Ge^, d'épaisseur de l'ordre de 1 ma, 35 on dépose sous vide ÀSrp^ de manière à former une couche d'environ 1 [i d'épaisseur, puis on dépose Gd de manière à former une couche d'environ 0,03 H d'épaisseur. On utilise un tel élément photo 72 00683 52 2121720 sensible pour une irradiation ultérieure. Après avoir mis en place un cache comportant des traits sur la couche de Cd, on réalise l'irradiation à l'aide d'une lampe|à vapeur de mercure très haute pression de 250 -watts, dis-5 posée à 30 cm, pendant 5 minutes environ, les parties non exposées de la couche de Cd sont retirées à l'aide d'un mélange d'acide chronique, puis les parties non exposées du verre de chalcogène sont dissoutes et retirées dans une solution saturée de soude alcoolique. Le traitement alcalin pendant environ t minute assure un 10 retrait total de la partie non.exposée, avec une légère attaque de la surface de As20Te^0Gre^0. A la surface de la partie non exposée et sur la face arrière de la plaquette, on dépose sous vide un alliage ITiCr pour former les électrodes de dessins se croisant, l'élément ainsi formé peut être utilisé comme matrice de mémoire. 15 la couche As2S^ dans laquelle est diffusé Cd forme une résis tance série appropriée dans un élément de mémoire de As^Te^Ge et permet de régler le courant à l'état conducteur. Il y a un groupe A d'électrodes de lignes à la surface, une ligne An étant numérotée à partir de l'extrémité, et un groupe B de lignes d'élee-20 trodes sur la face arrière, une ligne Bm étant numérotée à partir de l'extrémité, lorsqu'on applique une tension supérieure à la valeur de seuil comme signal d'écriture entre l'électrode An et 1'électrode Bm, l'élément de mémoire de la ligne n colonne m a une résistance qui varie. On peut réaliser de cette manière une 25. écriture pour chaque élément de la matrice, et la lecture peut être effectuée par détection de la résistance d'un élément à mémoire qui lit le signal pour une tension suffisamment faible. De plus, le signal mis en mémoire peut être effacé avec une impulsion dépassant la tension de seuil. On sait qu'une mémoire à semi-30 conducteur vitreux peut conserver des enregistrements trèEjfdenses lorsque la source d'énergie cesse de fonctionner par accident. Selon l'invention, on réalise facilement une mémoire à semi-conduc-' teur vitreux de grande densité. EXEMPLE 11 35 la matière utilisée est réalisée à l'aide d'une plaquette de ASf- j^Te^ * en suivant le même mode opératoire que dans l'exemple 10, avec un revêtement de 0,1 ^ de Te. Avec un cache for 72 00683 53 2121720 mant un dessin maillé, on a appliqué une exposition suffisante comme dans Itexemple 10, puis on retire Te restant par dissolution à l'acide nitrique. On forme un certain nombre de partiesdiffusées suivant un réseau sur la plaquette, les parties diffusées présen-5 tent une variation irréversible par une charge d'environ 500 Y/cm, ce qui indique une action de mémoire, les parties non exposées conservent une résistance pour la même charge, la résistivité étant de l'ordre de 10^ ohms-cm. Sur la matière, on réalise deux électrodes linéaires sur les 10 deux faces par le même mode opératoire que dans l'exemple 10, de manière à former une matrice de mémoire. EXEI-IP1E 12 On forme une couche de verre de chalcogène AS^Si^ 2Gei d'environ 2 p. d'épaisseur sur une plaque de base en molybdène, 15 puis une fine couche Te de 0,1 p. d'épaisseur. On applique à la matière ainsi formée l'exposition et la fixation décrites dans l'exemple 10. la mesure avec une sonde indique la caractéristique de commutation illustrée par la figure 47, dans la partie diffusée, la valeur de seuil est d'environ 20 104 Y/cm, et les variations de résistivité sont comprises entre environ lO^ohms-cm et environ 10 ohms-cm,pour une chute extrême? ce phénomène indiquant que la matière peut être utilisée comme élément de commutation. EXEMPLE 15 25 On dépose en phase vapeur une couche ^a20^80 ^4^ épais seur sur une plaque de base en verre, puis on dépose une couche d'argent de 40 mp d'épaisseur pour former un élément photosensible. Après mise en place d'un cache original très près de la couche d'argent, on réalise une exposition avec une lampe à vapeur de mer-30 cure très haute pression de 250 "watts à une distance de 25 cm, pendant 3 minutes. Ensuite, on trempe l'élément dans une solution aqueuse à 1 A de nitrate ferrique pendant 30 secondes pour retirer l'argent qui n'a pas réagi, l'élément obtenu a uns densité optique d'environ 0,4 dans les parties non exposées (transparentes) et d'en-35 viron 2,5 dans les parties diffusées (opaques) pour la raie g de la lampe àjmercure, à une longueur d'environ 430 mu. Il s'agit ainsi d'un cache transparent excellent. 72 00683 54 2121720 EXEMPLE 14 On utilise une couche -^s20^70^e10 ^'environ 80mp d'épaisseur comme verre de chalcogène et une couche de Cu d'environ 60 mp et d'épaisseur comme couche de métal,/on réalise un cache transparent 5 comme décrit dans l'exemple 13. Sa densité optique est de 0,5 dans les parties non exposées (transparentes) et d'environ 3,0 dans la partie diffusée (opaque) pour la raie à 430 m[i. La longueur d'onde d'exposition utilisée pour l'exposition d'une plaquette est inférieure à 450 mp. pour une sensibilité d'une réserve 10 photographique. L'impression est réalisée par exposition à la lumière blanche pendant plusieurs minutes, avec un cache transparent ainsi réalisé, la lumière d'exposition ne pouvant pas passer dans les parties opaques, cette caractéristique indiquant l'effet remarquable de la réservoe photographique à cet emplacement. 15 EXEMPLE 15 A l'aide du cache de l'exemple 13, on réalise comme décrit ci-dessous l'impression d'une plaquette de silicium. La plaquette de silicium porte un dessin de densité élevée réalisé par un procédé tel que la diffusion par isolement, la 20 diffusion par résistance et la diffusion par émission, et de l'or est diffusé de manière à former une électrode au cours d'une phase ulétieure. Sur cette plaquette, on dépose une couche de "K.M.E.K." d'environ 1 |i d'épaisseur , à l'aide d'un cône, de manière à former une réserve photographique. Le cache ...réalisé ' dans 25 l'exemple 1 est monté sur un projecteur "PPC-1". Lorsque le dessin du cache correspond au dessin produit sur la plaquette par la o raie e d'une lampe à mercure (54611), la transparence est excellente, si bien qu'il est facile de réaliser la mise en place. Lorsque la mise en place est difficile, dans le cas de l'utilisation 30 d'un cache classique en chrome ou à émulsion de sel d'argent, notamment dans le cas de fines parties transparentes diffractéès sur la face par exemple d'un dessin d'électrode , le cache de l'invention assure une correspondance facile et précise des caches. O L'exposition est réalisée avec la raie g (4358A) de la 35 lampe à mercure. La source de l'appareil "PPC-1" est une lampe à vapeur de mercure très haute pression fonctionnant sous 100 volts 72 00683 55 2121720 et de 500 watts, l'intensité de l'exposition étant de 5000 {iwatts par centimètre carré, le temps d'exposition étant de 10 secondes. Après démontage de la plaquette, on la développe par trempage pendant 60 secondes dans un liquide de développement de la réserve 5 "K.H.E.R.", puis on la rince pendant 60 secondes,avec obtention d'un dessin de réserve photographique, la surface de la plaquette est attaquée par un mélange d'acide nitrique et d'acide chlorhydrique qui retire la réserve. On obtient un dessin précisjd'électrode. 72 00683 56 2121720 EXEMPLE 16 Une couche de verre de chalcogène de composition et de 400 np d'épaisseur est déposée en phase vapeur sur une plaque plane de verre. Ensuite, un alliage à bas point de fusion et 5 de composition Sn 96,5 10 A l'élément photosensible ainsi formé, on applique une O exposition en lumière bleue (4880 A ) d'un laser à argon avec une intensité de 150 mtf/cm , à l'aide d'un obturateur d'appareil photographique au millième de seconde. La partie exposée perd son aspect métallique et devient opaque, indiquant ainsi une 15 réaction suffisante. Ensuite, le métal restant est dissous et retiré par un mélange d'acide chromique, puis légèrement attaqué par une solution alcaline diluée qui retire le verre de chalcogène non exposé. La partie diffusée forme un dessin. De plus, il faut noter que le dessin est utile sous forme 2C suffisamment transparente uniquement après le retrait de la couche métallique et la fixation du dessin. EXEMPLE 17 On forme la même couche de verre de chalçogène que dans l'exemple 16 et on dépose de l'argent par-dessus. On réalise ce 25 dépôt d'argent avec une source d'argent disposée dans une nacelle en tantale à environ 1100°C. Comme la diffusio-n a eu déjà lieu au cours du dépôt en phase vapeur, la surface de l'élément ne varie pas, même sous forte exposition,et en conséquence, le retrait d'une couche métallique avec un mélange de bichromate 30 ou de nitrate d'ammonium n'est pas possible du fait de la formation préalable de la diffusion de la couche métallique, et on n'observe aucune variation. L'enregistrement d'un dessin ne peut pas être effectué. Lorsqu'on utilise Cu (température de vaporisation 1200°C), Zn (température de vaporisation 600°C) et Te 35 (température de vaporisation 600°C) à la plage de Ag, on ne peut pas obtenir un enregistrement suffisant du dessin du fait de la diffusion observée au cours du dépôt en phase vapeur. 72 00683 57 2121720 EXEMPLE 18 Oïl utilise As2Te2 comme verre de chalcogène et Sn comme métal, avec une température de 480°C, pour former une couche de verre de 300 mp et une couche de métal de 30 mp. La photosensibilité —2 2 5 de l'élément ainsi formé est de 5 x 10 cm /erg (la valeur utilisée pour la mesure est l'inverse de l'énergie nécessaire ( ° pour obtenir une réaction avec la lumière à 4880 A). EXEMPLE 19 En utilisant Sb^e^ au. lieu de As2Te^ comme verre de chalco-10 gène, Cd et un alliage de Ag-Te (29,4 - 70,6 fo en poids) comme couche métallique à la place de Sn, on forme deux types d'éléments comme dans l'exemple 18. La sensibilité est, dans le cas —2 2 du cadmium, de 2 x 10 cm /erg et,dans le cas de Ag - 'Te, de 2 10 cm /erg. 15 EXEMPLE 20 Un alliage à bas point de fusion ayant une composition Sn-Cd-Zn dans, le rapport 73,5, 24,5 et 2,0 fi en poids,est déposé sous vide sur un verre de chalcogène Sb2S2Te, la température de vaporisation étant de 400° et 600°C. La photosensibilité de mmi P 20 l'élément formé par vaporisation à 400°C est d'environ.10 cm /erg, mais l'élément formé par vaporisation à 600°C ne donne pas de dessin par exposition. La couche -superficielle de' coloration presque métallique ne peut être dissoute d'ans un mélange d'acide chromique et dans un autre liquide oxydant. 25 EXEMPLE 21 Un verre de chalcogène formant une couche d'environ 300 mp d'épaisseur et de composition As^Sg^Te^ est réalisé sur une plaque de verre de base par dépôt en phase vapeur, puis on forme une couche d'argent de 50 mp d'épaisseur par dépôt sous vide. 30 Ensuite, on réalise une exposition avec une lampe à vapeur de mercure sous haute pression de 250 IiT à environ 25 cm, de manière à imprimer un dessin original pendant 1 minute. La partie non exposée restante de la couche d'argent est retirée par un mélange d'acide chromique. 35 A partir du côté de la plaque de base, on applique des de radiations ultraviolettes/longueur d'onde comprise entre 350 et 400 mp., obtenues avec un filtre de verre, de façon uniforme 72 00683 pendant 15 minutes environ. Ensuite, l'élément est attaqué pendant 6 secondes par une solution saturée de soude caustique contenant de l'éthanol, donnant un dessin transparent. Après lavage à l'eau, on n'observe pas d'affouillement de la couche déposée. Après 5 séchage, on utilise l'élément comme cache photographique pour impression par contact, la résistance est suffisante pour l'utilisation. EXEMPLE 22 Une couche de 500 mp. environ d'épaisseur de verre de 10 chalcogène de composition As^^Sg^Te^ est formée sur une plaque de base en acier inoxydable par un dépôt en phase vapeur, puis une couche de cuivre de 30 mp d'épaisseur est formée par dépôt en phase vapeur. L'exposition et la fixation sont réalisées comme décrit dans l'exemple 21. L'élément est chauffé à environ 80°C 15 pendant 5 minutes. Ensuitef l'attaque alcaline analogue à l'exemple 21 donne un dessin transparent. Ensuite, après lavage à l'eau, on n'observe pas d'affouillement de la couche déposée. Après séchage, on peut utiliser en pratique le dessin comme cache photographique. 20 II faut noter que la diffusion du métal perpendiculairement à la couche est due au chauffage uniforme et que la diffusior en direction horizontale est négligeable, et en conséquence, on n'observe pas de réduction de la résolution. On peut probablement considérer qu'il y a une différence remarquable entre la vitesse 25 de difftision thermique de la partie exposée dans laquelle il y a peu de diffusion, et celle qui existe dans la partie non exposée. Un essai d'*obtention d'une diffusion suffisante par allongement du temps d'exposition ne conviendras, car la lumière 30 s'échappe sur les bords du dessin dans la partie non exposée, du fait de la réflexion multiple entre la plaque de base et une couche métallique, si bien qu'il se forme des taches et un flou, un long temps d'exposition n'étant d'ailleurs pas intéressant au point de vue industriel. 35 EXEMPLE 23 On réalise une couche dé 500 mp d'épaisseur en verre de chalcogène de composition As2Se^GeQ sur une plaque de base 58 2121720 72 00683 59 2121720 en verre par pulvérisation gfoaute fréquence, puis, sur cette couche, on dépose une couche de cuivre de 50 mp d'épaisseur par dépôt en phase vapeur. L'exposition de l'élément ainsi formé donne un dessin visible. Ensuite, on place du mercure à la surface 5 de l'élément et on déplace ce mercure à la surface pendant plusieurs minutes pour retirer la couche de cuivre de la surface. EXEI-TPT.-E 24 Une couche de verre de chalcogène de composition As^e^Te^ ^ de 300 mp d'épaisseur est formée sur une plaque de base en 10 verre par dépôt en phase vapeur, puis une couche d'alliage Cu^g gASgo 1 épaisseur es't formée par dépôt sous vide. L'exposition de l'élément photosensible ainsi formé donne un dessin visible. On laisse l'élément pendant environ 1 heure et il est mis au contact de mercure liquide, la couche métallique 15 étant pratiquement retirée et assurant la fixation de l'élément. EXEMPLE 25 Une couche As^S^ d'environ 400 mp d'épaisseur est formée sur une plaque de base en verre, et une couche d'argent de 50 mp d'épaisseur est formée par dépôt en phase vapeur, l'ensemble 20 formant trois éléments. Un élément n'est pas traité, les deux autres sont chauffés au four électrique à une température de 220°C et maintenus à cette température pendant 1 heure pour l'un et 3 heures pour l'autre respectivement, le four étant alors arrêté, les éléments restant dans le four jusqu'au refroidissement à la 25 température ambiante. On expose les trois éléments ainsi traités à une lampe à vapeur de mercure sous haute pression de 250 W, disposée à 25 cm. La période nécessaire pour la disparition de l'aspect métallique de la surface de la couche d'argent est mesurée, et les résultats 30 apparaissent dans le tableau XI. TABLEAU XI Temps de vieillissement Temps d'exposition Pas de vieillissement 6 minutes 1 heure 1 minute 50 secondes 35 3 heures 30 secondes EXEMPLE 26 1 Uw Une couche de verre/chalcogène de composition As^S^Te 72 00683 60 2121720 de 500 m^i d'épaisseur est formée sur une plaque de base en verre et subit un traitement de vieillissement pendant 1 heure. Après ce vieillissement, une couche d'argent de 50 mp. d'épaisseur est —6 formée par dépôt en phase vapeur, le vide étant de 10 torr, 5 la source ayant une température de 1100°C, l'ensemble formant un élément photosensible (A). D'autre part, la même couche d'argent au est forcée sur la couche non soumise/vieillissement, dans les mêmes conditions, et force un élément photosensible (B). L'élément (A) présente une faible réflexion métallique pour la couche 10 d'argent, et son aspect est différent de celui de l'élément(B).Dans l'élément (A), la couche de verre est extrêmement sensibilisée par le vieillissement qui provoque une réaction au cours du dépôt. La couche superficielle de l'élément (A) ne peut pas être dissoute ni retirée par le traitement de la technique antérieure 15 destiné à l'affouillement ou au retrait d'une couche métallique, par exemple à l'aide d'un mélange d'acide chromique (K^C^O^ -B^SO.^). (il faut noter que la couche diffusée est insoluble dans l'acide). Au contraire, la surface d'argent de l'élément (B) est facile à retirer. 20 On applique pendant 10 secondes la même exposition que dans l'exemple 25 à l'élément (B). La couche superficielle n'est pas facile à retirer par le traitement cité précédemment. De plus, il faut noter que le vieillissement selon l'invention est très efficace pour l'enregistrement d'un dessin. Une partie 25 exposée peut être fixée par cristallisation dans le verre de chalcogène lorsque l'exposition est appliquée à un élément comprenant un support et du verre de chalcogène. EXEMPLE 27 Une couche As2S^ d'environ 1 ia d'épaisseur est formée sur 30 une plaque d'aluminium par dépôt en phase vapeur, puis on forme une couche/de 50 m^j. d'épaisseur pour former l'élément photosensible. On applique celui-ci à une exposition par une lampe à vapeur de mercure sous haute pression de 250 W, puis on retire la couche de chrome à l'aide d'un mélange d'acide chromique. 35 Lorsque l'élément est mis en place dans une solution de revêtement comprenant 0,75 g par litre de cyanure de potassium et d'or, 7 à 8 g par litre de potassium libre et 15 g par litre de phosphate 72 00683 61 2121720 de sodium à 60°C, sous agitation légère, le revêtement classique d'or de l'élément s'effectue avec une densité de courant de p 1 ampère/cm", et permet la réalisation d'un déssin en or de grande finesse. 5 On sait,dans la technique,réaliser des dessins métalliques de diverses couleurs, par exemple jaune, rouge, rose et "blanc. En conséquence, l'invention assure la formation utile d'un dessin coloré. EXEMPLE 28 ..... d'étain 10 Lorsqu'un verre "ÎTesa" portant une couche d'oxyde/ est utilisé comme plaque de base conductrice, une couche As2Se^ d'environ 2 [i d'épaisseur est formée sur une telle plaque par dépôt en phase vapeur, et une couche d-'argent d'environ 30 mio. d'épaisseur est formée ensuite sous forme d'une couche transparente. Après 15 exposition suffisante, l'élément est revêtu dans une solution aqueuse de sulfate de cuivre. Le revêtement "îTesa" est utilisé comme électrode négative et le dessin revêtu de cuivre se dépose. Après le revêtement, la couche de cuivre peut être retirée dans l'eau à l'aide de brucelles. Cette couche est extrêmement fine 20 et on obtient un dessin de cuivre très fin. De plus, sur cette couche de cuivre, on réalise un revêtement accroissant l'épaisseur et le renforçant. Le dessin réalisé peut être utilisé comme plaque de cache pour exposition à un faisceau électronique. EXEMPLE 29 25 L'élément analogue à celui de l'exemple 28 est réalisé, à l'aide de As2Se^Te^ au lieu de As^S^ comme verre de chalcogène. L'élément de cette composition a une photosensibilité remarquablement élevée, si bien qu'il permet la réalisation du même dessin' que dans l'exemple 28, avec une exposition de 10 secondes. En 30 d'autres termes, le temps d'exposition est divisé à peu près par deux par rapport à l'exemple 28. Dans cet exemple, on réalise un bon revêtement en utilisant divers liquides de revêtement. EXEIIPLB 30 Une couche Âs2S^ de 0,5 n d'épaisseur est formée sur une 35 plaque de base en verre par dépôt en phase vapeur, puis une couche d'argent de 0,05 u d'épaisseur est formée par dépôt en phase vapeur. L'élément ainsi formé est exposé à une lampe COPY 72 00683 62 2121720 à vapeur de mercure à très haute pression de 500 W, placée à 25 cm, pendant 5 minutes, l'élément étant très près d'un dessin original transparent. Des gerbes d'ions sont appliquées à la surface de l'élément 5 à l'aide d'une bobine de Tesla avec un espace de décharge de 20 mm, de manière que l'argent restant soit retiré. le dessin final est propre. EXEMPLE 51 Une couche AsS^ contenant 5 en poids d'iode et de 5 H 10 d'épaisseur est réalisée sur un film de polyester, et elle porte une couche de cuivre de 0,03 H d'épaisseur. L'exposition de l'élément photosensible ainsi réalisé est effectuée du côté du film en polyester. Des gerbes d'ions appliquées par une bobine Tesla à la surface de l'élément, avec une tension d'environ 20 000 volts, 15 retirent/ cbûché restante" de cuivre. Le dessin obtenu est satisfaisant . Il est bien entendu que l'invention n'a été décrite et représentée qu'à titre d'exemple préférentiel et qu'on pourra apporter toute équivalence technique dans ses éléments constitutifs sans 20 pour autant sortir du cadre de l'invention, qui est défini dans les revendications annexées. 72 00683 63 2121720 RE VEÎIDIC ATI QHS 1. Elément photosensible destiné à la mise en oeuvre d'un procédé de formation de dessins de résolution élevée, comprenant une phase d'exposition de dessin et de retrait d'une couche 5 métallique restante, ledit élément étant caractérisé en ce qu'il comprend une couche de support, une couche de verre de chalcogène recouvrant la couche de support et une couche métallique recouvran-la couche de verre de chalcogène, le métal de la couche métallique étant capable de diffuser dans le verre de chalcogène sous une 10 projection lumineuse, lorsqu'il est au contact du verre de chalcogène . 2. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce que le métal de la couche est choisi dans le groupe formé par Ag, Zn, Cd, Kn, Ga, Cr, Cu, In, Bi, Sn, Tl, Ge et Te. 15 3. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de verre de chalcogène est en un verre du groupe formé par S, Se, et les systèmes As-S, As-Te, As-Se, S-Si, Se-S, Se-Te, Sb-Se, Sb-Te, Bi-Se, Bi-S, Bi-Te, As-S-Te, As-S-Se, As-Se-Te, As-S-Se-Te et Sb-As-S, 20 4. Elément selon la revendication 3, caractérisé en ce que la couche de verre de chalcogène contient de plus un agent activateur. 5. Elément selon la revendication 4, caractérisé en ce que l'agent activateur est choisi dans le groupe formé par I, Br, 25 Tl, Si et Ge. 6. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de verre a une épaisseur de 3 à 0,03 microns, notamment de 1 à 0,03 micron , la couche métallique ayant de préférence une épaisseur de 0,2 à 0,01 micron. 30 7. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce que la température de fusion du métal est inférieure à 400°C, et en ce que la couche métallique est réalisée à une température de dépôt en phase vapeur inférieure à 500°C. 8. Elément selon la revendication 7, caractérisé en ce 35 que le métal est un alliage formé d'au moins un élément choisi dans le groupe formé par Ag, Cu, Zn, Lin, îli, Te, Sb, Ge et I-ïg, 72 00683 64 2121720 et au moins un élément choisi dans le groupe formé par In, Cd, Sn, Bi, Se, Tl, Pb et Ga. 9. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il est soumis à un traitement de vieillissement à une température 5 comprise entre une valeur inférieure de 50°C à la température de transition vitreuse du verre de chalcogène et une température supérieure rie PC°C à cette température. 10. Elément selon la revendication 9, caractérisé en ce que le traitement de vieillissement est réalisé par élévation de la 10 température de l'élément à la température de vieillissement pendant 10 minutes à 5 heures, puis maintien de cette température pendant 30 minutes à 10 heures. 11. Procédé de réalisation de dessins à haute résolution, caractérisé en ce qu'on applique une exposition suivant un dessin 15 à un élément photosensible comprenant une couche de support, une couche de verre de chalcogène recouvrant la couche de support et une couche métallique recouvrant la couche de verre, le métal étant capable de diffuser dans la couche de verre lorsqu'il est exposé à la lumière au contact du verre, de manière à former 20 une partie diffusée dans la partie exposée, du fait de la diffusion mutuelle entre le métal et le verre, et on retire la couche métallique restante qui ne contribue pas à la diffusion. 12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce qu'on retire le métal restant par dissolution de la couche 25 métallique. 13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce . qu'on réalise la dissolution en solution acide. 14. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce qu'on réalise la dissolution en formant un amalgame avec du 30 mercure. 15. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce qu'on réalise le retrait de la couche métallique restante par irradiation avec un faisceau de corpuscules chargés. 16. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce 35 qu'on fait subir à l'élément photosensible une exposition ou un chauffage à blanc après le retrait du métal restant. 17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce COPY 72 00683 65 2121720 que l'exposition à blanc est réalisée à partir du côté de la couche de support. 18. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que l'exposition à blanc est réalisée avec de la lumière dont la 5 longueur d'onde est comprise entre 300 et 600 millimicrons. 19. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que le chauffage à blanc est réalise à une température inférieure à la température de transition vitreuse de la couche de verre de chalcogène. 10 20. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que la couche de support est électro-conductrice et en ce que, après le retrait de la couche métallique restante, l'élément photosensible est trempé dans une solution de revêtement. 21. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce 15 que, après le retrait de la couche métallique restante, la couche de verre de chalcogène non exposée est retirée par une solution alcaline. 22. Cache photographique de résolution élevée, caractérisé en ce qu'il est obtenu par mise en oeuvre d'un procédé selon 20 l'une des revendication 11 et 21. 23. Cache selon la revendication 22, caractérisé en ce que la différence de densité optique entre la partie/^exposée de la couche de verre et la partie diffusée est supérieure à 1,5 pour^ la longueurjd ' onde de 430 mp.. 25 24. Cache selon la revendication 23, caractérisé en ce que la couche de verre contient du soufre comme constituant essentiel, en pourcentage atomique. 25. Cache selon la revendication 24, caractérisé.en ce que le verre contenant essentiellement du soufre,fait partie du 30 système As-S, As-S-Te, As-Sb-S ou As-S-Ge. 26, Cache de réserve résistant aux acides:, caractérisé en ce qu'il comprend comme partie résistant aux acides la partie diffusée obtenue par mise en oeuvre du procédé selon la revendication 21 . 35 27. Dessin résistant électriquement, ayant une résolution élevée, caractérisé en ce qu'il est obtenu par mise en oeuvre du procédé selon l'une des revendications 11 et 21, la résistance COPY 72 00683 66 2121720 électrique étant différente dans la partie diffusée,d'une part, support.d'autre part, et la partie non exposée de la couche de verre otx la couche ae/ 28. Dessin de circuit électrique, de résolution élevée, caractérisé en ce qu'il est obtenu par mise en oeuvre du procédé 5 selon la revendication 21, l'élément photosensible ayant une couche de support conductrice de l'électricité. 29. Microphotographie de résolution élevée, caractérisée en ce qu'elle est obtenue par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une des revendications 11 et 21, et comprenant une différence 10 de densité optique entre la partie diffusée d'une part et la partie non exposée du verre ou le support,d'autre part. 30. Dessin de revêtement, de résolution élevée, caractérisé en ce qu'il est obtenu par mise en oeuvre du procédé selon la revendication 20, la couche de support étant de préférence - -15 - retirée -après -la-réalisation tte dessin. - - 31. Elément photoconducteur, caractérisé en ce qu'il est réalisé par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une deRevendications 11 et 21, la partie diffusée assurant la photoconductivité. 32. Elément de commutation, caractérisé en ce qu'il est 20 réalisé par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une des revendications 11 et 21, la commutation étant assurée par les variations résistance-tension dans la partie diffusée. 33. Elément de mémoire, caractérisé en ce qu'il est réalisé par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une des revendications 25 11 et 21, ledit élément mettant en oeuvre les variations de la résistance électrique en fonction de la tension. COPV