Brevet FR2070873A1 — publié le 19710917

La présente invention concerne de manière générale des procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs, et plus particulièrement un procédé pour la mise en forme de semiconducteurs, réglée par voie électrolytique. 5 Au cours des années qui ont suivi l'invention du transis tor, on a vu croître intensément l'emploi industriel et l'importance des semi-conducteurs. Avec le développement de la technique des semi-conducteurs, on a constaté toujours qu'il était nécessaire de disposer de procédés pour commander la mise en 10 forme des semi-conducteurs. Au début, cette mise en forme avait un aspect mécanique; on procédait à des tracés, on brisait la matière, on la soumettait à un sablage, mais à mesure que l'on tendait à fabriquer des dispositifs toujours plus petits, ces moyens mécaniques s'avéMent inadaptables, industriellement, aux 15 petites dimensions. On a donc fait des efforts considérables pour trouver des moyens chimiques, tels que l'attaque, pour commander la mise eh forme des semi-conducteurs. Depuis longtemps, c'est le germanium qui est le principal semi-conducteur utilisé, et on a étudié plusieurs techniques 20 électrochimiques pour commander la mise en forme: de^'ë&rps de germanium. On se reportera par exemple au brevet des Etats-Unis d'Amérique No. 2.656.496 accordé le 20 octobre 1953 à M. Sparks, et au brevet des Etats-Unis d'Amérique No. 2.850.444 accordé que le 2 septembre 1958 à L.D. Armstrong et ses collaborateurs. Bien/les 25 procédés décrits- aient donné quelque satisfaction pour le germanium, ils se sont montrés inaptes à convenir dans beaucoup d'applications où. intervenait le silicium qui a pris la place du germanium en tant que matière semi-conductrice principale. Dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique No. 2.847.287 30 accordé le 12 avril 1958 à C.R. Landgren, on trouve l'exposé d' d'une technique pour l'attaque sélective des parties de type P d'un corps de silicium qui comprend des régions supplémentaires d'une conductivité d'un autre type. Malheureusement, l'inconvénient de cette technique est que la vitesse d'attaque est re-35 lativement lente et que .la possibilité d'attaque semble limitée aux seules parties de semi-conductivité de type P sur un fond de semi-conducteurs de type N.. BAD ORIGINAL 70 44600 2 2070873 Dans le "brevet des Etats-Unis d'Amérique No.3.418.226 accordé le 24 décembre 1968 à J.C. Marinace, on trouve l'exposé d'un procédé d'attaque électrolytique sélective d'une matière de type P dégénéré à partir d'une matière de type P moins 5 fortement dopée dans le même corps semi-conducteur. Malheureusement, l'exposé de Marinace se limite à l'attaque sélective d'un type P dégénéré dans l'arséniure de gallium et semble être d'un intérêt au moins limité pour d'autres situations. Un brevet récent aux Pays-Bas, basé sur une demande 10 hollandaise No. 6.703.013, déposée aux Pays-Bas le 26 août 1968 a fait connaître un procédé électrochimique~d'amincissement pour le silicium et ce procédé a provoqué un intérêt considérable en raison de son aptitude apparente à produire du sili-cium ultra-mince'( 1 . 10 mm) pour des applications télles que 15 des dispositifs de grande puissance, à haute fréquence, et des circuits intégrés au silicium avec"isolement d'air ou de diélectrique et grande densité d'éléments. Malheureusement, l'exposé hollandais se limite à 19 enlèvement de silicium de type N de très faible résistivité, dans dés régions de type N à relati-20 vement grande résistivité. Il y à un problème en ce sens que, pour la majorité des dispositifs de circuits intégrés'au silicium actuels,"on désire exactement l'inverse, c'est-à-dire que l'on souhaite plus généralement d'enlever des parties de résistivité élevée d'une couche épitaxiale de résistivité relativement 25 faible. Plus particulièrement, on désire plus communément enlever une base ou substrat ou partie volumineuse dé résistivité relativement élevée d'une couche de revêtement épitaxiale ou diffusée de résistivité relativement faible, sans-avoir égard au type de semi-conductivité, de sorte que la couche restante 30 contribue seulement à fournir une résistance parasite minimale à des dispositifs fabriqués dans cette couche ou sur celle-ci. En présence de ces restrictions et d'autres qui sont propres aux techniques prémentionnées et autres techniques antérieures de mise en forme de corps semi-conducteurs ,un but de 35 l'invention est de procurer un procédé pour commander une mise en forme sélective voulue de corps semi-conducteurs sans a-voir spécialement égard au type de semi-cônductivité ou au deBAD ORIGINAL 70 44600 3 2070873 gré de résistivité que l'on y trouve. Plus spécifiquementl'un des buts de la présente invention est de procurer un procédé qui se termine de lui-même pour attaquer sélectivement dés parties prédéterminées d'un corps 5 semi-conducteur de manière telle que la profondeur de l'attaque soit relativement indépendante de la durée d'immersion du corps dans le milieu d'attaque ambiant. Plus particulièrement encores l'invention vise à atteindre les buts prémentionnés en ce qui concerne des corps semi-10 conducteurs de silicium. A ces fins et deautress une caractéristique importante de l'invention consiste en une étape dans laquelle on attaque le corps semi-conducteur dans une solution qui constitue un agent d'attaque chimique pour le semi-conducteurs quel que soit 15 son type de semi-conductivité. C'est-à-dire que la solution d'attaque est du type des solutions qui attaquent un semiconducteur à une vitesse appréciable à moins qu'on applique au semi-conducteur une tension par rapport à une contre-électrode, supérieure à un potentiel de passivation prédéterminé. 20 Plus particulièrements suivant 1'invention? l'enlèvement sélectif de matière semi-conductrice se fait dans une solution qui attaque le semi-conducteur en l'absence de tension appliquée, et dans laquelle la vitesse d'attaque est appréciablement réduite lorsqu'on applique au semi-conducteur une tension par-25 ticulière par rapport à une contre-électrode. Par exemple, un corps de silicium de l'un ou 1:autre type de semi-conductivité, 20 qui est dopé à une concentration inférieure à environ 10 atomes par centimètre cube,est attaqué relativement rapidement si on le plonge dans une solution d'hydroxyde de potassium. Ce-30 pendant, si l'on applique au corps de silicium un potentiel positif d'environ 0,5 volt par rapport à une contre-électrode de platine, toutes les parties du silicium qui sont positives d'environ au moins 0,5 volt sont sensiblement rendues passives. G'est-à-dire que les parties positives d'au moins environ 0,5 35 volt sont attaquées à une vitesse au moins dix fois plus lente (dans des cas d'espèce, de 200 à 10.000 fois plus lente) que les parties à tension moindre qu1environ 0,5 volt. Pour cette 70 44600 4 2070873 raison, le potentiel de passivation de ce système silicium-hydroxyde de potassium-platine est considéré comme étant d'environ 0,5 volt. Dans une classe de formes de réalisation de la présente 5 invention., le corps semi-conducteur comprend une jonction PU sur laquelle on maintient-une chute de tension telle que certaines parties du semi-conducteur, d'un côté de la jonction PN9 sont à un potentiel plus positif que le potentiel de passivation, et que les parties du semi-conducteur qui sont de l'autre 10 côté de la jonction PN sont à un potentiel inférieur au potentiel de passivation. Avec cette distribution de potentielf les parties du semi-conducteur qui sont à une tension inférieure au potentiel de passivation sont attaquées jusqu'à ce qu'il y ait eu un enlèvement suffisant de matière pour que la jonction soit 15 mise à nu. Une fois que la jonction est mise à nu9 le semiconducteur devient passif par rapport à la solution et l'attaque s'arrête en fait, c'est-à-dire que la vitesse d'attaque est réduite d'au moins 10 fois, et dans des cas d'espèce, de jusqu'à 200 à 10.000 fois. 20 Dans une autre classe de formes de réalisation, on éta blit une distribution de potentiel à l'intérieur d'un corps semi-conducteur en plaçant convenablement des électrodes et en choisissant les potentiels et en utilisant des techniques faisant appel à des résistances et à l'effet de champ. Une fois 25 cette distribution de potentiel établie sous la forme désirée, le semi-conducteur sera attaqué dans les parties exposées à la solution d'attaque, qui sont à un potentiel moindre qu'à peu près le potentiel de passivation. On comprendra mieux l'invention en se référant à la des-30 cription détaillée qui va suivre, associée au dessin sur lequel; - Figure 1 montre schématiquement un agencement pour réaliser l'enlèvement sélectif de matières semiconductrices de type P par rapport au type N, suivant l'invention. - Figure 2 montre schématiquement un agencement pour 35 réaliser l'enlèvement sélectif de matières semi-coriductrices de type N par rapport au type P9 suivant l'invention. - Figures 3 et 4 montrent une partie de sections trans- 70 44600 5 2070873 versalesde pastilles semi-conductrices convenablement attaquées, suivant 1'invent i on. - Figure 5 montre une partie d'une pastille semi-conductrice préparée pour attaquer sélectivement une surface 5 de semi-conducteur suivant une rainure de profondeur déterminée, suivant l'invention. - Figure 6 montre une coupe transversale d'une partie d'une pastille semi-conductrice, illustrant l'une des nombreuses manières possibles de porter à un certain potentiel une 10 partie du corps semi-conducteur pour en commander l'attaque sélective, suivant l'invention. En se reportant à présent plus spécifiquement au dessin, on y voit, représenté schématiquement aux figures 1 et 2, l'appareil fondamental pour mettre l'invention en oeuvre. Gomme on 15 le voit, cet appareil comprend un réceptacle convenable .11 en une matière résistant aux agents d'attaque 12 utilisés. Une contre-électrode 13 est au moins partiellement immergée dans le liquide d'attaque 12 et on a prévu des moyens convenables 14 pour relier la contre-électrode à un circuit extérieur prévu 20 pour l'application d'un potentiel de commande (+T). la contre-électrode est avantageusement en une matière qui ne se dissout pas dans 1'électrolyte et qui ne peut le contaminer de façon fâcheuse; elle est par exemple en platine, en or, ou la matière est la même que celle du corps à attaquer. 25 Comme montré à la figure 1, un corps semi-conducteur 15 comprend une partie de type P qui doit être attaquée et une partie de type H qui demeure lorsque l'attaque a pris fin. le semi-conducteur 15 est plongé dans 1'électrolyte, avantageusement à distance de la contre-électrode. Des moyens 16 sont éga-30 lement prévus pour relier une certaine partie du semi-conducteur 15 au circuit qui fournira le potentiel de commande (+V). On remarquera à la figure 1 que la source de potentiel positif est reliée seulement à la partie de type N du semi-conducteur et que la partie de type P est séparée de la partie de type N par une 35 jonction PN 17. On remarquera que les moyens 16 sont avantageusement disposés de telle façon que toute la couche 17 soit maintenue à un BAD ORIGINAL 70 44600 6 2070873 potentiel supérieur au potentiel de passivation. La jonction 17 constitue une barrière de tension convenable en sorte que la partie de type N puisse être maintenue à une tension supérieur re au potentiel de passivation^ tandis que la partie de type P 5 est à un potentiel inférieur au potentiel de passivation par rapport à la contre-électrode 13. Comme mentionné ci-dessus, on choisit l'agent d'attaque dans la classe des agents d'attaque chimique qui n'exercent. leur action à vitesse appréciable que sur les'seules parties 10 du semi-conducteur qui sont à un potentiel inférieur à un certain potentiel de passivation par rapport à la contre-électrode. Lorsque l'attaque se poursuit, le processus d'attaque est mis en évidence par un dégagement visible d'hydrogène par 15 les surfaces du semi-conducteur qui sont attaquées. Au contraire, les surfaces qui ne sont pas attaquées'à vitesse appréciable par l'agent d'attaque ne laissent "apèrcevoir aucun dégagement d'hydrogène. Le processus d'attaque peut donc être surveillé commodément en observant la présence ou l'absence d'un 20 dégagement d'hydrogène. Plus spécifiquement, à mesure que l'attaque se poursuit, une quantité volumineuse d'hydrogène observable à la vue sous forme de bulles se dégage continuellement des surfaces attaquées. Cependant, une fois que la matière de type P a été entièrement 25 enlevée en sorte que la région qui entoure la position de la jonction métallurgique 17 se trouve exposée à l'agent d'attaque, toutes les surfaces du semi-conductêur qui sont exposées à l'agent d'attaque sont alors à un potentiel supérieur au potentiel de passivation, et l'attaque s'arrête alors sensiblement. 30 Cet arrêt est mis en évidence par un arrêt brusque et remarquable du dégagement d'hydrogène, c'est-à-dire que le dégagement d'hydrogène cesse d'être discernable à l'oeil nu. Une fois que l'hydrogène a' cessé de se dégager, la vitesse d'attaque a été réduite d'au moins 10 fois et en fait sde 35 200 - 10.000 fois par rapport à la vitesse d'attaque pendant le temps où l'hydrogène se dégageait. A cause de la diminution subite de la vitesse d'attaque ' BAD ORIGINAL 70 44600 7 2070873 et à cause de l'arrêt visuellement observable du dégagement d'hydrogène, il y a un temps convenable (de l'ordre de plusieurs heures)' pendant lequel l!arrêt du dégagement d'hydrogène peut être détecté et au c-ours duquel le s emi-conducteur de type 5 N restant peut être enlevé de l'agent d?attaque avant qu'il n'y ait eu une attaque appréciable de la matière de type N par l'agent d'attaque. Bien entendu, le dégagement de l'hydrogène ne doit pas nécessairement être détecté à la vue et le semi-conducteur ne 10 doit pas être retiré à la main de l'agent d'attaque.On comprendra qu'un détecteur d'hydrogène peut être placé dans l'agent d'attaque ou près de celui-ci et que des moyens électriques et mécaniques peuvent être associés au détecteur de gaz pour que le s emi-conducteur so.it automatiquement retiré de l'agent d'at-15 taque lorsque l'hydrogène a cessé de se dégager. La réalisation de fait de ces moyens automatiques est du domaine de la technique et on ne s'y appesantira pas ici. La représentation de la figure 2 est sensiblement la même que celle de la figure 1, sauf que le corps semi-conduc-20 teur 18 comprend une partie de type N qui doit être enlevée et une partie de type P qui doit subsister après cessation de l'attaque. La matière de type lî est enlevée en reliant la couche 19 de type P à une tension (+V) suffisant à maintenir la couche de type P tout entière à un potentiel supérieur au potentiel de 25 passivation. L'es spécialistes peuvent apporter diverses modifications et des perfectionnements au processus décrit ci-dessus pour obtenir le degré voulu de réalisation de cette application de traitement particulière. Par exemple, le corps semi-conducteur 30 peut être monté au moyen d'une cire ou d'une résine sur un support diélectrique ou conducteur pré-métallisé ne laissant à nu que les surfaces à attaquers en sorte que les surfaces qui ne sont pas à attaquer soient protégées en plus de l'agent d'attaque et que la manipulation du semi-conducteur et l'application 35 de potentiels de commande soient ainsi facilitées. Bien que le procédé suivant l'invention puisse être mis en pratique avec différents matériaux conducteurs, électrolytes 70 44600 8 2070873 et autres paramètress on a trouvé que le procédé donnait d'excellents résultats lorsqu'on utilise les différentes matières et autres éléments variables dont il va être question. Dans le but de l'exposé seulement;, les exemples visent l'attaque du 5 "silicium. les échantillons à attaquer comprenaient des couches superficielles (formées épitaxialement ou diffusées ou les deux) sur une partie volumineuse. Ên l'espèce, la partie volumineuse 20 a été dopée jusqu'à une concentration de moins qu'environ 10 10 atomes par centimètre cube, l'épaisseur de la couche superfi- -3 -3 cielle était en l'espèce comprise entre 1 .10 mmet15 • 10 mm. Cependant s l'épaisseur de la couche superficielle n'est manifestement pas critique. Pour faciliter la manipulation dans 1'électrolyte, on a monté les échantillons en utilisant une ré-15 sine ou une cire sur un disque de céramique et en les plongeant ensuite dans 1'électrolyte qui était par exemple de l'hydroxyde de potassium de 1 à 7 Normal. On a fait usage d'une contre-électrode de platine, bien qu'on puisse utiliser toute autre matière pourvu qu'elle ne contamine pas sensiblement l'électro-20 lyte utilisé. De façon générale, on a maintenu la température de 1'électrolyte à environ 70°C à 100°C pour produire une vitesse d'attaque optimale. Bien que la vitesse varie avec la polarisation appliquées le silicium de type P dopé à une con- 18 centration d'environ 10 atomes par centimètre cube se laisse -3 —3 25 attaquer à environ 2 . 10 mm à I . 10 mm par minute dans une solution d'hydroxyde de potassium 5 Normale 9 maintenue à. environ 95°C , et lorsque la jonction est atteinte, une couche d'oxyde se développe immédiatement sur les surfaces exposées, la vitesse d'attaque de cet oxyde est environ 200 fois moindre 30 que la vitesse d'attaque de la matière de type P. Bien que les exemples mentionnés ci-dessus aient été décrits comme utilisant l'hydroxyde de potassium comme agent d'attaque, les autres hydroxydes métalliques des éléments du groupe 1A de la Table Périodique des Eléments peuvent être 35 utilisés aussi bien. Ce groupe comprend les hydroxydes de sodium, de rubidium, de césium et de lithium, l'hydroxyde d'aluminium et les hydroxydes d'ammonium alkyl-substitués, par exemple 70 44600 9 2070873 l'hydroxyde de tétra-méthyl-ammonium et l'hydroxyde de tétra-éthyl-ammonium peuvent également être utilisés. On peut obtenir des résultats satisfaisants aussi lorsqu'on utilise comme agent d'attaque des mélanges aqueux d'acide fluorhydrique et 5 d'acide nitrique. En se référant plus spécifiquement aux figures 3 et 4, on y voit des parties de sections transversales de pastilles de semi-conducteurs ayant des structures attaquées avec avantage suivant l'invention. A la figure 3, on voit une partie de pas-10 tille 20 qui comprend un substrat ou base de type P, 21, sur lequel on a formé une couche 22 de type N+ et une couche 23 de type N. Un revêtement 24 d!une matière choisie pour sa résistance à 1®attaque dans la solution à utiliser est monté sur la couche 23 pour la 'protéger au surplus pendant le procédé 15 d'attaque. lia couche de type P, 21, est avantageusement d'une résistivité relativement élevée, par exemple dopée à une con- ' 18 centration d'impuretés de moins d'environ 10 atomes accepteurs par centimètre cube, en sorte que la répartition de la résistance dans la partie volumineuse 21 elle-même serait suffi' 20 santé pour empêcher un défaut de jonction dans la jonction entre les couches 21 et 22 de donner assez de courant pour que l'échantillon devienne passif avant enlèvement complet de la matière 21 de type P. Pour réaliser l'attaque, on fait une connexion électrique soit à la couche 22 de type N+, 'soit à la 25 couche 23 de type N ou aux deux, et on applique ensuite à cette connexion électrique un potentiel positif (+V) plus grand que le potentiel de passivation par rapport à la contre-électrode dans le système d'attaque. la structuré montrée à la figure 3 est généralement considérée comme une matière de départ avanta-30 geuse pour la fabrication de circuits monolithes isolés à l'air du type décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique Ko. 3.335.338, accordé le 8 août 1967 à M.P. Lepselter. A la figure 4, on a montré une structure double de celle de la figure 3, c'est-à-dire une partie de pastille 30 compre-, 35 nant un substrat 31 de type N sur lequel on a formé une couche P+ ,32, ët une couche dë type P moins fortement dopée ,33. A nouveau, on a fo^mé un revêtement 34 sur les couches superfi 70 44600 10 2070873 cielles pour donner une protection supplémentaire à l'égard de la solution d'attaque pendant le processus d'attaque .Pour attaquer l'échantillon 30, la couche 33 de type P ou la couche 32 de type P+9 ou les deux, sont portées à un potentiel positif 5 par rapport à la contre-électrode, comme dans les exemples pré-mentionnës. Cependant, on remarquera qu'il y a une limite à la grandeur du potentiel positif qui peut être employé pour ce procédé, puisqu'un potentiel positif en excès polarisera en sens direct la jonction PU entre les couches 31 et le substrat 10 32 et permettra l'écoulement d'un courant suffisant pour que la partie 31 de type N devienne passive plutôt qu'elle ne soit attaquée. Lorsque la partie de pastille 30 comprend une partie volumineuse de silicium et des couches superficielles, et lorsque 1'électrolyte utilisé pour l'attaque est de l'hydroxyde de 15 potassium environ 7 Normalr et que la contre-électrode est de On remarquera ici qu'avec certaines des solutions d'at-25 taque prémentionnées, par exemple avec l'hydroxyde de potassium il y a différentes vitesses d'attaque par rapport aux plans cristallographiques différents dans le silicium semi-conducteur Par exemple, on sait qu'en utilisant l'hydroxyde de potassium pour attaquer le .-.silicium5 la vitesse d'attaque pour les plans 30 parallèles au plan-cristallographique (100)est considérablement plus élevée que la vitesse d'attaque par rapport aux plans parallèles au plan cristallographique ( 111 ). Plus spécifiquement encrore, la vitesse d'attaque par rapport aux plans (111) est si faible que les opérateurs pourraient éprouver des diffi-35 cultés dans la détermination du moment où l'attaque a cessé, lors de l'emploi du procédé suivant l'invention. Cependant, la restriction apportée à la vitesse d'atta- ' 70 44600 2070873 que attire l'attention sur une autre forme de réalisation avantageuse de l'invention. On voit à la figure 5 une partie de pastille préparée pour y produire par attaque sélective une rainure superficielle, conformément à 1®invention5 comme on le 5 verra ci-après. La partie de pastille 40 comprend une première partie semi-conductrice 41 contiguë' à une couche 42 du type de conductivité opposât formant avec cette couche une jonction PU. Sur la surface de la couche 42, on a formé un masque ouvert 44 d'une matière résistant à la solution d'attaque employée. 10 Gomme aux figures 3 et 4, la surface qui ne doit pas être attaquée du tout, c'est-à-dire la surface de la partie 41» est couverte d'une matière résistant à l'agent d'attaque, 45» pour donner une protection supplémentaire au cours du processus d'attaque. 15 Suivant cette forme de réalisation, la surface de la partie de couche 42 est faite sensiblement parallèle au plan (100) du semi-conducteur. On met l'échantillon dans une solution d'hydroxyde de potassium et on en relie la partie volumineuse 41 à une source de potentiel positif égal ou supérieur 20 au potentiel de passivation. Dans ces conditions, la partie dénudée de la couche 42 sera attaquée jusqu'à ce qu'apparaisse la jonction PN comprise entre les couches 42 et 41, et alors l'attaque s'arrêtera. L'attaque n'aura lieu latéralement que jusqu'aux lignes latérales 46A et 46B en raisons des vitesses 25 d'attaque préférentielles par rapport aux plans cristallogra-phiques, comme décrit plus haut. On peut-bien entendu utiliser la technique de la figure 5 pour former des vides de forme arbitraire et en particulier pour former des rainures que l'on utilise souvent dans les circuits intégrés isolés par un diélec-30 trique. La profondeur de la partie évidée est commandée, bien entendu, par la position métallurgique de la première jonction PN en dessous de la surface. En se reportant à présent à la figure 6, on y voit une partie 50 d'une coupe transversale d'une pastille semi-conduc-,35 trice, illustrant l'une des nombreuses manières possibles de relier une source de potentiel à une partie d'un corps semiconducteur pour commander son attaque sélective suivant la présente invention. 70 44600 12 2070873 Plus spécifiquement s on a préfabriqué la pastille 50 suivant le but envisagé de produire un circuit intégré à semiconducteur isolé par de l'air ou par un diélectrique. Gomme montrés il y a un substrat 51 de type P, de résistivité rela-5 tivement grande, sur lequel on a formé la couche 52 de type N et la couche 53 de type N à dopage mMns fort, par exemple par dépôt épitaxial ou par diffusion ou par implantation d'ions ou par une quelconque de diverses autres techniques bien connues pour modifier la semi-conductivité d'un corps semi-conducteur. 10 Dans la couche 53, on a formé des régions localisées 54A et 54B de semi-conduetivité de type P pour former des résistances ou des régions de bases de transistors dans le circuit intégré. Dans les zones 54A et 54B de type P sont encastrées plusieurs zones 55A et 55B de type H+ pour constituer par exemple des 15 zones d'émetteurs de transistors dans le circuit intégré. la zone 550 de type N+ a été formée pour permettre une fabrication facile d'an contact à faible résistance avec le collecteur du transistor en passant par une électrode 59 à la surface. "Une couche diélectrique 56"passivante"recouvre la surface de semi-20 conducteur dans toutes ses parties, sauf là où des électrodes métalliques 57» 58, 59s 60 et 61 s'étendent à travers la couche diélectrique pour former une connexion à faible résistance avec les zones semi-conductrices respectives qui se trouvent en dessous de cette couche. Sur la couche de diélectrique passi-25 vant 56 et sur les électrodes prémentionnées, on a formé une couche conductrice 62 continue et relativement uniforme, faite par exemple d'un métal inerte tel que le platine ou l*or. Pour enlever le substrat de type P, 51» avant de réaliser les rainures par attaque depuis le bas de la couche 52 30 jusque dans le reste du semi-conducteur pour fournir l'Êolation par l'air ou l'isolation par diélectrique, on plonge la pastille 50 tout entière dans un dispositif tel que celui de la figure 1 et on applique le potentiel positif à la couche superficielle conductrice- 62 qui sert à distribuer le potentiel et à protéger 35 de l'attaque la surface du semi-conducteur pendant le processus d'attaque. Le potentiel est distribué par la couche superficielle conductrice 62 et il est appliqué de façon sensiblement . BAD ORIGINAL 70 44600 13 2070873 régulière à travers une zone telle que la zone 550, à la couche 62 de type N+.. De cette façon, la matière 51 de type P est complètement enlevée jusqu'à ce que la jonction entre le substrat 51 de type P et la couche 52 de type N+ soit exposée. Une 5 fois que la jonction est .exposée,il s'écoule un courant et une couche d'oxyde se développe sur le fond alors dénudé de la couche 52 et le semi-conducteur devient passif, le tout suivant les procédés décrits plus généralement. l'exposé qui précède a été fait principalement à propos 10 de matière semi-conductrice constituée de silicium monocristal-lin attaqué dans une solution alcaline aqueuse chaude (70°C -100°C) , avec application d'un potentiel positif. On comprendra que la limite supérieure (100°C) spécifiée pour la gamme de températures n'est pas critique. On peut utiliser aussi des 15 températures allant jusqu'à la température d'ébullition incluse, les spécialistes comprendront que ces procédés sont applicables de façon générale à d'autres matières semi-conductrices cristallines, y compris le germanium, et les semi-conducteurs à composés III-V et II-VI. le critère principal consiste 20 en ce que le semi-conducteur est capable de former une couche passivante adhérente dans la solution d'attaque employée ainsi que d'obtenir une différence marquée dans la vitesse d'attaque pour toutes les parties du semi-conducteur auxquelles on applique un potentiel supérieur à un certain potentiel de passiva-25 tion. On comprendra que les spécialistes peuvent s'écarter des enseignements spécifiques qui précèdent,' tout en réalisant des dispositifs qui tomberont encore dans le champ de l'invention. Par exemple, les spécialistes de la technique des semi-conducteurs comprendront qu'on peut concevoir d'autres systèmes pour 30 attaquer des semi-conducteurs de façon commandée, d'après la condition générale d'avoir des vitesses d'attaque très différentes pour des parties de corps semi-conducteurs qui sont à un potentiel situé d'un côté ou de l'autre d'un potentiel de passivation donné, comme décrit ci-dessus» 70 44600 14 2070873 REVENDICATIONS 1.- Procédé pour l'attaque sélective par voie électrolytique d'une partie d'un corps semi-conducteur, comprenant les étapes qui consistent à plonger un corps semi-conducteur et 5 une contre-électrode dans un agent d'attaque et à établir une tension entre le corps et la contre-électrode, caractérisé en ce qu'on choisit l'agent d'attaque parmi des solutions qui n'attaquent que les parties du corps qui sont à un potentiel inférieur à un certain potentiel de passivation prédéterminé, 10 et en ce qu'on établit et maintient dans le corps une distribution de potentiel telle que les parties à attaquer soient à un potentiel inférieur au potentiel de passivation par rapport à la contre-électrode, et en ce que les parties qui ne doivent pas être attaquées sont à un potentiel au moins aussi grand 15 que le potentiel de passivation par rapport à la contre-électrode . 2.- Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que l'on n'enlève de Ieagent d'attaque les parties restantes du corps qu'après enlèvement de sensiblement toutes les 20 parties à potentiel inférieur au potentiel de passivation. 3.= Procédé suivant lime quelconque des revendications 1 et 2, caractériséen ce qu'on prend pour solution d'attaque une solution formée à partir d'au moins un élément du groupe comprenant les hydroxydes des éléments du groupe TA de là Table 25 Périodique des Eléments, l'hydroxyde d'ammonium, l'es hydroxydes d'ammonium alkyl-substitués, et un mélange aqueux: d'acide fluorhydrique et d'acide nitrique. 4.- Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'on enlève le corps de la so- 30 lution d'attaque après que le dégagement de gaz hydrogène ait cessé d'être discernable à la vue. 5.- Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'on revêt d'une matière résistant à l'attaque la surface des parties du corps qui ne 35 doivent pas être attaquées. 6.- Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que, lorsque le semi-conducteur bad original 70 44600 15 2070873 est du silicium, on choisit la solution d'attaque dans le groupe comprenant l'hydroxyde de potassium, l'hydroxyde de sodium, l'hydroxyde de césium* l'hydroxyde de rubidium et l'hydroxyde de lithium, et en ce qu'on choisit la matière de la 5 contre-électrode dans le groupe comprenant le platins, l'or et le silicium et en ce qu'on applique une tension supérieure à environ 0.5 volt. 7.- Procédé suivant la revendication 6, caractérisé en ce qu'on applique une tension de 0*65 volt et en ce qu'on utile lise l'hydroxyde de potassium comme solution d'attaque. 8.- Procédé suivant la revendication 7, caractérisé en ce qu'on enlève le corps de l'agent d'attaque dans l'heure qui suit le moment où l'on a cessé de pouvoir constater visuellement le dégagement de gaz hydrogène. 15 9«- Procédé suivant l'une quelconque des revendications ✓ précédentes, caractérisé en ce que, pour un corps semi-conducteur comprenant une partie volumineuse dont la semi-conductivité est sensiblement d'un premier type, une couche de semi-conductivité ' de type opposé recouvrant une surface de la partie 20 volumineuse à laquelle elle est contiguè', et une jonction PN entre là couche et la partie volumineuse, on revêt au moins une partie de la surface de la couche d'une matière qui résiste à l'attaque et, après immersion du corps et de la contre-électrode dans la solution d'attaque, on applique entre la cou-25 che et la contre-électrode une tension telle que la couche soit positive par rapport à la contre-électrode, en sorte que la partie volumineuse soit attaquée à la profondeur de la jonction PN, de manière relativement indépendante de la durée pendant laquelle le corps est immergé dans la solution. 30 10.- Procédé suivant l'une quelconque des revendica tions 1 à 8,caractérisé en ce que lorsque le corps comprend une barrière redresseuse, on établit la distribution de potentiel de façon telle que sensiblement toutes les parties du corps situées de l'autre côté de la barrière sont à un potentiel 35 supérieur au potentiel de passivation. 11.- Article produit par le procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes.