Brevet FR2107912A1 — publié le 19720512

La présente invention est relative d'une façon générale à des perfectionnements aux films photopolymères et, plus particulièrement* à l'utilisation de films photopolymères perfectionnés en tant que dé.tecteurs holographiques. 5 Des films polymères ont été disponibles depuis quelque temps pour diverses applications et, plus récemment, ils ont été utilisés pour enregistrer des hologrammes. A cause de leur faible prix de revient par rapport aux matières photosensibles à émulsion d'argent, les matières photopolymères sont particulièrement dési-10 rables pour enregistrer un grand nombre d'hologrammes de copie à -partir d'un hologramme original. Un tel film photopolymère utilise une base ou un substrat apportant la solidité physique, qui est revêtu d'une composition photopolymérisable. De nombreuses compositions photopolymérisables particulières sont disponibles et elles 15 contiennent toutes un monomère, un liant et un inducteur. La composition monomère contient d'une façon générale un monomère non saturé éthyléniquement, tel que du glycol, du diacrylate de poly-glycol ou du diméthacrylate. Les monomères sont choisis de manière à être assez stables aux températures ambiantes et ils peuvent 20 exiger de petites quantités d'inhibiteurs de polymérisation pour une télé stabilité. Un inducteur incorporé dans la composition est un composé isolé ou un mélange de composés absorbant le rayonnement électromagnétique dans la région visible ou les régions voisines de celle-ci et il utilise cette énergie absorbée pour 25 mettre en route la polymérisation. Un liant est également incorporé dans la composition et il comprend, en général, un polymère à poids moléculaire élevé qui maintient le monomère liquide et l'inducteur ensemble sous forme d'une pellicule ou d'un film. Le liant doit être soluble dans un solvant satisfaisant pour la fabrication. 30 Un liant satisfaisant est le butyrate acétate de cellulose, un acrylate de polyéthyle ou du méthacrylate. • Des matières d'enregistrement convenables pour la ou les couches à exposer au rayonnement actinique sont les compositions photopolymérisables décrites dans des brevets aux Etats-Unis d'Aité-35 rique n° 2.760.863 du 28 août 1956, n° 2.951.758 du 6 septembre 1960 et n° 3.060.023 du 23 octobre 1962, ainsi que dans les brevets britanniques n° 997.396 du 7 juillet 1965 et 1.047.569 du 9 novembre 1966. 1 34311 2 2107912 Après avoir enregistré un dessin d'interférence holographique sur un tel film photopolymère, l'enregistrement de l'hologramme semble être transparent pour l'oeil. L'information holographique est enregistrée à la fois dans le volume de la composition 5 photopolymérisée et, dans une certaine mesure, dans un relief de sa surface. Au cours de l'exposition du film photopolymère, des zones microscopiques de celui-ci sont exposées alternativement à un rayonnement à forte et faible intensité du dessin d'interférence holographique. On a exprimé la théorie que le monomère se 10 diffuse à partir des régions d'exposition à faible intensité vers des régions d'exposition à forte intensité pendant ou après l'exposition. On considère que cette diffusion est responsable du fait que des régions microscopiques adjacentes du film photopoly-mëre exposé présentât dœ indices de réfraction de la lumière diffé-15 rents, ce qui assure l'enregistrement du dessin d'interférence holographique. La composition photopolymérisable, avant l'exposition, est collante, déformable et ne présente pratiquement aucune solidité par elle-même, de telle sorte qu'elle exige un substrat. 20 Cette caractéristique de fragilité de la matière photopolymérisable exige dans toutes les applications sauf les plus délicates, que la surface exposée de la composition soit protégée contre une abrasion et une adhérence sur d'autres surfaces, tout au moins jusqu'au moment où la composition est polymérisée. Une solution 25 consiste à- ajouter une feuille de recouvrement polymère dure à la surface du film de composition photopolymérisable à l'opposé du substrat. C'est cette structure feuilletée qui est exposée au dessin d'interférence holographique, habituellement à travers la feuille de recouvrement. Le dessin d'interférence ou l'hologram-30 me est enregistré dans le film de composition photopolymérisable maintenu entre le substrat et la feuille de recouvrement. L'utilisation principale des films photopolymères envisagée à présent réside dans la production en série de films cinématographiques holographiques. Un film cinématographique original 35 de haute qualité est construit sur une matière photosensible allon gée avec plusieurs hologrammes individuels établis sur sa longueur chaque hologramme correspondant à une image d'un film photographique ordinaire. Ce film cinématographique holographique original 71 34311 3 2107912 peut être construit sur des matières photosensibles ordinaires à ému1sion d'argent ou sur une matière photopolymère. On désire produire un grand nombre de copies de cette copie originale sur film photopolymère. Une copie cinématographique est obtenue en 5 faisant passer le film cinématographique d'hologrammes original et une matière de copie photopolymère en contact intime sur leurs longueurs à travers un faisceau de rayonnement cohérent ayant une longueur d'onde à laquelle est sensible le film de copie photopolymère. Aussi bien le film original que le film de copie seront 10 très longs, dans le genre des films cinématographiques ordinaires, et ils exigent donc un procédé quelconque pour leur emmagasinage, le procédé le plus pratique consistant à utiliser des bobines. L'enroulement du film photopolymère sur des bobines, ainsi que le passage de ce film à travers un équipement de copie d'hologrammes au-15 tomatiquesoumet le film photopolymère feuilleté à d'importants efforts physiques. Un hologramme formé sur un tel film photopolymère feuilleté, après avoir été soumis à un tel traitement mécanique, contient des parasites et ne peut pas reconstituer des images opti-20 ques de haute qualité. Par conséquent, le but principal de l'invention est d'offrir un film photopolymère, un procédé de fabrication de ce film et des techniques pour exposer le film à un dessin d'interférence holographique de manière à améliorer la qualité de l'hologramme résultant et de l'image optique qu'il est capable de 25 reconstituer. Lorsqu'un film photopolymère feuilleté à trois épaisseurs est enroulé autour d'un noyau de bobine, il apparaît des tensions inégales dans le substrat et les couches de recouvrement, étant donné qu'ils suiveitdes parcours avec des rayons de courbure 30 légèrement différents. Ces tensions inégales engendrent des forces de compression et de cisaillement dans la couche de composition photopolymérisable médiane. Etant donné que cette couche de composition médiane est faible du point de vue physique avant sa polymérisation, elle est incapable de résister à de telles forces. 35 De grandes différences dans les caractéristiques mécaniques entre les matières du substrat et des feuilles de recouvrement tendent à amplifier ces effets indésirables sur la couche de composition photopolymérisable médiane. 71 34311 4 2107912 Suivant la présente invention, on offre un procédé d'enregistrement d'un dessin de rayonnement électromagnétique dans un film de composition photopolymérisable, qui consiste à exposer la composition photopolymérisable du film à un dessin de rayonnement 5 électromagnétique et à former une pellicule protectrice en une couche superficielle de ce film. Les effets indésirables d'une manipulation mécanique brutale d'un film photopolymère peuvent être réduits en éliminant la feuille de recouvrement protégeant la composition photopolymé-10 risable. La protection physique offerte par la couche de recouvrement à la composition photopolymérisable peut être offerte en polymérisant une mince couche superficielle du film de composition photopolymérisable à l'opposé du substrat. En fonction de la composition photopolymérisable particulière utilisée, la surface de 15 la couche de composition peut être polymérisée chimiquement, par ultra-sons, thermiquement ou avec une énergie électromagnétique. Diverses techniques générales ont été décrites dans des brevets aux Etats-Unis.d'Amérique n° 3.210.187 et 3.259.499. 20 Etant donné que l'on désire que la couche de composition photopolymérisable enregistre, dans les applications envisagées, un dessin de rayonnement électromagnétique dans la gamme des longueurs d'onde visibles ou voisines des longueurs d'onde visibles, tel qu'un dessin d'interférence holographique, il est particulièrement 2 5 utile de polymériser sa surface exposée avec un rayonnement électromagnétique dans la gamme visible ou quasi-visible préalablement à l'exposition de la composition au dessin lumineux enregistré. Une composition photopolymérisable absorbe de l'énergie en quantités dépendant de la longueur d'onde du rayonnement. L'exposition 30 de la composition à un dessin d'interférence holographique s'effectue à une longueur d'onde de rayonnement électromagnétique adapté aux caractéristiques d'absorption de la composition, de telle sorte que l'épaisseur toute entière du film de composition soit polymérisée suivant le dessin d'interférence holographique. 35 La pré-exposition de la composition photopolymérisable, toutefois, s'effectue de préférence avec une longueur d'onde de rayonnement qui est absorbée dans un degré beaucoup plus élevé que ne l'est la longueur d'onde de rayonnement utilisée ultérieurement pour expo 71 34311 5 2107912 ser la composition à un dessin d'interférence holographique ou autre . Ceci assure qu'un rayonnement de pré-exposition soit pratiquement totalement absorbé par la composition photopolymérisable dans une mince couche superficielle de celle-ci, en laissant ainsi 5 une partie majeure de l'épaisseur de la couche de compôsition non polymérisée par l'exposition préalable. Cette païtie majeure de la couche est ultérieurement polymérisée par l'exposition au dessin d'interférence holographique ou autre dessin de rayonnement enregistré sur le film photopolymère à travers la couche superfi-10 cielle polymérisée. Une polymérisation superficielle a pour résultat un film photopolymère avec une surface protectrice dure. Le film peut alors être enroulé et rais en contact avec une porte à liquide au cours de son exposition à un dessin d'interférence holographi-15 que, avec le reste de la composition polymérisable soumis à des forces mécaniques réduites. La matière polymérisable restante sous la couche superficielle polymérisée est protégée de l'oxygène dans l'atmosphère ambiante qui peut affecter le processus de polymérisation au cours d'une exposition ultérieure à un dessin d'in-20 terférence holographique ou à un autre dessin de rayonnement. Ces résultats bénéfiques ont été obtenus sans avoir besoin d'une feuille de recouvrement feuilletée accompagnée par les problèmes imposés lorsque le film photopolymère est enroulé et utilisé dans un équipement mécanique. 25 Un dessin de relief superficiel sur une couche polyméri sée d'un film photopolymère feuilleté ordinaire exposé à un dessin d'interférence holographique contribue aux parasites dans une image reconstituée. Ces parasites peuvent être réduits en éliminant le dessin de relief superficiel sans perdre une quantité ap-30 préciable d'information holographique ou affecter d'une autre façon la qualité des images qui en sont reconstituées. La polymérisation de la pellicule de la composition de film photopolyméri-sable, telle que décrite ci-avant, réduit le rétrécissement de la Pellicule au cours d'une exposition ultérieure à un dessin d'in-35 terférence holographique, en réduisant ainsi les caractéristiques de parasites de relief superficiel d'un film photopolymère feuilleté esqposé. Tout relief superficiel indésirable résultant après l'exposition à un dessin d'interférence holographique peut être 71 34311 6 2107912 éliminé en revêtant la couche portant le dessin de rayonnement polymérisée afin d'obtenir sur celle-ci une surface lisse. Ce revêtement peut être de divers types, comme par exemple une matière thermodurcissable, un revêtement à évaporation de solvant ou une 5 matière polymérisable. Il est de préférence appliqué par extru-sion sous forme liquide sur le film à revêtir. La matière polymérisable., si elle est utilisée, est de préférence appliquée sur le film après l'exposition au dessin holographique, mais préalablement à une exposition finale ou postérieure à un rayonnement 10 électromagnétique dans la gamme visible ou quasi-visible. L'expo— sition ultérieure fixe le dessin lumineux enregistré dans le film et polymérise également uniformément la matière de revêtement de manière à établir une couche de protection dure. Suivant un autre aspect de la présente invention, on 15 prévoit un procédé de revêtement d'un substrat allongé, après déroulement à partir d'une bobine de fourniture, avec une matière polymérisable liquide. Un solvant dans la composition polymérisable est évaporé à partir de celle-ci et la pellicule superficielle de composition polymérisable est polymérisée afin de former une 20 couche protectrice, comme décrit précédemment. Entre ces deux opérations (revêtement et polymérisation de pellicule superficielle), le substrat revêtu est maintenu sans enroulement, contact physique avec d'autres objets et autres contraintes mécaniques. Après que la pellicule superficielle de composition polymérisable 25 a été polymérisée, le film peut être conservé sur des rouleaux ou exposé immédiatement au dessin d'interférence holographique ou autre dessin lumineux à y enregistrer. Suivant un autre aspect de la présente invention, la composition polymérisable est appliquée par extrusion sous forme 30 liquide sur un film d'hologramme original qui doit être copié. Le film d'hologramme original agit en tant que substrat. Le film est illuminé de telle manière que le dessin d'interférence holographique qu'il porte soit exposé sur la couche de composition polymérisable et y soit enregistré. La couche de composition polymérisa-35 ble exposée est encore exposée ultérieurement de manière à polymé-riser tout monoir^re subsistant dans la composition. La couche totalement polyméi-isée est alors physiquement rigide et peut être retirée du film holographique original. La couche polymérisée 71 34311 7 2107912 peut elle-même être suffisamment solide pour former une copie de film d'hologramme ou elle peut être fixée, pour obtenir une solidité supplémentaire, à un substrat après séparation de l'original D'autres détails et particularités de l'invention res-5 sortiront de la description ci-après, donnée à titre d'exemple non limitatif et en se référant aux dessins annexés, dans lesquels : La figure 1 est une vue en coupe transversale à grande échelle d'un film photopolymère feuilleté. 10 La figure 2 est un diagramme donnant une courbe carac téristique de transmission de lumière typique d'une matière de film photopolymérisable. La figure 3 illustre l'exposition préalable d'un film photopolymère suivant un aspect de l'invention. 15 La figure 4 est une vue en coupe transversale à grande échelle d'un film photopolymère après exposition préalable de celui-ci grâce à la technique illustrée à la figure 3. La figure 5 représente schématiquement une technique de construction d'un hologramme désaxé. 20 La figure 6 représente l'exposition préalable d'une ma tière photopolymère suivant un autre aspect de l'invention. La figure 7 est une vue en coupe transversale à grande échelle d'un film photopolymère après exposition préalable suivant la technique de la figure 6. 25 La figure 8 représente une couche photopolymérisable ty pique après exposition à un dessin d'interférence holographique, lorsque la couche photopolymérisable n'a pas été exposée préalablement . La figure 9 représente la couche photopolymérisable ex- 30 posée de la figure 8, avec l'addition d'un revêtement protecteur. La figure 10 représente un procédé de fabrication et d'exposition de matière de film photopolymère. La figure 11 représente encore un autre procédé de fabrication et d'exposition d'une matière de film photopolymère. 3-' En se référant à la figure 1, on y a représenté une vue en coupe transversale d'un film photopolymère tel qu'utilisé à l'heure actuelle pour divers processus. Un substrat flexible 11 p®ut être constitué par l'un quelconque des multiples films poly— 71 34311 8 2107912 mères minces disponibles commercialement et il a pour but d'apporter de la solidité au film composé. Une couche photopolymérisable 13 est portée par le substrat 11. Préalablement à la polymérisation par exposition à un rayonnement électromagnétique dans la gamme vi-5 sible ou quasi-visible ou d'une autre façon, la couche 13 n'a pas de solidité physique. En tant que protection pour la couche de composition photopolymérisable 13, on lui applique une feuille de recouvrement 15 qui peut être constituée par l'un des nombreux films polymères disponibles commercialement. La feuille de recouvrement 10 15 est généralement beaucoup plus mince que le substrat 11 et elle a uniquement pour fonction de protéger la surface de la couche de composition photopolymérisable 13. Lorsque le film photopolymère de la figure 1 est exposé, de la lumière est projetée à travers la feuille de recouvrement 15 généralement suivant la direction indi-15 quée par la flèche 17. Il existe un grand nombre de compositions particulières qui peuvent être utilisées en tant que couche photopolymérisable 13 et qui sont efficaces pour enregistrer des dessins lumineux. Une telle composition préférée pour l'enregistrement de dessins d'inter-20 férence holographique est donnée ci-après. Les constituants suivants sont dissous dans une quantité suffisante dé sdLvantpour obtenir une quantité totale de 800 grammes : a. butyrate acétate de cellulose (environ 17% de butyryle, env. 29,5% d'acétyle et env. 1,5% d'hydroxyle; viaco- 25 sité de 115 à 188 poises, tel que déterminé par le procédé ASTM D-1343-54T dans la solution décrite comme formule A, procédé ASTM D-871-54T) 52,0 grammes b. diacrylate de triéthylèneglycol (matière commerciale avec de 0,05 à 0,10% d'hydroquinone ajouté en tant 30 qu'inhibiteur thermique) 58,0 grammes c. dimère de 2-o-chlorophényl-4, 5-di 35 e. N-phénylglycine 0,22 gramme f. éthylène bis (2-oxyéthylacétate) 2,0 mis g. Solvant : 10% en poids de 1,2 dichloroéthane 90% en poids de dichlorométhane. 71 34311 9 2107912 Cette solution est appliquée comme revêtement sur un support en film de téréphtalate de polyéthylène transparent d'une épaisseur d'environ 100 pm, de manière à obtenir un poids de revêtement sec de 1,0 à 2,0 mg/cm2. 5 Les caractéristiques de transmission approximatives de compositions telles que la composition particulière donnée ci-avant sont illustrées d'une façon générale dans le graphique de la figure 2. Ces compositions photopolymérisables de film sont presque transparentes pour un rayonnement électromagnétique dans la région de la 10 lumière visible mais deviennent très absorbantes pour des longueurs d'onde plus courtes dans la région de l'ultraviolet. Lorsque de l'énergie électromagnétique d'une longueur d'onde située dans cette région quaôi-visible à forte absorption (faible transmission) est di-rigéevers la composition photopolymérisable, une forte proportion 15 de l'énergie rayonnante incidente est absorbée par la composition afin d'y amorcer le processus de polymérisation. Une couche photopolymérisable 13 d'environ 0,15 mm a été satisfaisante pour enregistrer des dessins d'interférence holographique avec une longueur d'onde de rayonnement cohérent de 3650 angstroms. Pour cette lon-20 gueur d'onde, la composition photopolymérisable absorbe environ 99,9% de l'énergie incidente qui la frappe. Il est désirable d'éliminer le recouvrement 15 du film photopolymère illustré à la figure 1 afin de réduire la déformation de la couche de composition photopolymérisable 13 assez plastique 25 lorsque le film est enroulé ou soumis d'une autre façon à des forces mécaniques appréciables. Il s'est révélé que le recouvrement 15 peut être éliminé si la pellicule supérieure de la couche de composition photopolymérisable 13 est polymérisée. En se référant à la figure 3, une technique préférée pour polymériser une pellicule su-30 perficielle de la couche de composition photopolymérisable du type destiné à l'enregistrement de dessins lumineux a été illustrée. Un film photopolymère 19 comportant un substrat et un revêtement photopolymérisable, sans recouvrement, est exposé à un rayonnement électromagnétique d'une longueur d'onde pouf laquelle la composition 35 photopolymérisable est très absorbante. Pour la composition dont les caractéristiques sont illustrées à la figure 2, cette exposition préalable est réalisée avec un rayonnement ultraviolet 21 dérivé d'une lampe à arc de mercure 23 et d'un filtre d'interférence 25 71 34311 10 2107912 qui limite le rayonnement 21 à la ligne de 2537 angstroms de la lampe à arc de mercure. Comme on peut s'en rendre compte d'après la figure 2, la composition photopolymérisable est très absorbante pour la longueur 5 d'onde d'exposition préalable de 2537 angstroms. En se référant à la figure 4, la film photopolymère 19 est représenté en coupe transversale à grande échelle en tant que film pr^fexposé 19' comportant un substrat 27 et une couche photopolymérisable 29. Après l'exposition préalable telle qu'illustrée à la figure 3, une mince épais-10 seur 31 de la couche de composition photopolymérisable 29 (figure 4) est polymérisée de manière à former un recouvrement protecteur rigide mécaniquement pour le volume restant 33 du revêtement 29 qui est principalement non polymérisé. Il doit évidemment être entendu que la couche superficielle polymérisée 31 n'aura probablement 15 pas une délimitation inférieure nette telle qu'indiquée à la figure 4 pour la facilité. Le degré de polymérisation résultant de l'exposition préalable conformément à la figure 3 de la couche de composi tion photopolymérisable 29 de la figure 4 est une fonction, en un point quelconque de celle-ci, de sa distance par rapport à la sur-20 face supérieure 32. Le faisceau de rayonnement d'exposition préalable 21 est choisi de manière à avoir une longueur d'onde telle que la couche 29 soit très absorbante pour l'énergie, en absorbant ainsi pratiquement la totalité de l'énergie de rayonnement d'exposition préalable sur une courte distance à 1'intérieur de la couche à par-25 tir de la surface 32. Ainsi, on peut se rendre compte de l'importance du choix d'une longueur d'onde d'exposition préalable telle qu' elle soit p~ us fortement absorbée par la couche de matière photopolymérisable que ne l'est le rayonnement avec lequel la couche est ultérieurement exposée aux dessinsd'interférence holographique ou 30 autre dessin de rayonnement à enregistrer dans le monomère restant de la couche. La couche photopolymérisable 29 est rendue suffisamment épaisse pour qu'après polymérisation de sa pellicule superficielle 31, une couche pratiquement non polymérisée 33 subsiste avec une épaisseur optimum pour l'application d'enregistrement de rayon-35 nement électromagnétique envisagée. Un dessin de rayonnement est enregistré sur le film 19' par illumination à travers la pellicule superficielle polymérisée 31. En se référant à la figure 5, on a représenté une technique ty 71 34311 2107912 pique pour la formation d'un hologramme désaxé. Une source 35 de rayonnement électromagnétique monochromatique cohérent dans l'espace avec une longueur d'onde d'environ 3650 angstroms engendre un faisceau ultraviolet cohérent 37. Ce faisceau 37 est amené à tra-5 verser un objet 39, telle qu'une diapositive ordinaire, et est ainsi projeté en tant que faisceau 41 modifié par l'objet sur le film photopolymère préalablement exposé 19'. Un diviseur de faisceau 43 est introduit dans le faisceau 37 afin de faire dévier une partie de son intensité en un faisceau de référence 45 qui est réfléchi à 10 partir d'un miroir 47. L'interférence du faisceau 41 modifié par l'objet et du faisceau de référence 45 décalé sous un angle fini par rapport à celui-ci forme un dessin d'interférence sur le film photbpolymère 19'. Ce dessin d'interférence comprend des régions microscopiques alternées de forte et de faible intensité sur le 15 film 19' et, ainsi, polymérise la région monomère restante 33 (figure 4) de la couche photopolymérisable 29 suivant ces variations d'intensité. Le résultat, après une exposition convenable au dessin d'interférence, est un film photopolymère 19' totalement polymé-risé dans lequel le dessin d'interférence est enregistré sous la 20 forme d'un indice de réfraction variable. Lorsque la matière photopolymère 19' totalement polymérisée est illuminée avec un rayonnement monochromatique cohérent dans l'espace, on reconstruit dans l'espace une image de la diapositive objet 39. . Une autre utilisation de la technique d'exposition préa-25 lable suivant l'invention est illustrée aux figures 6 et 7. Un film photopolymère 49 présentant uniquement un substrat 51 et une couche photopolymérisable 53 est illuminé à partir des deux faces par un rayonnement électromagnétique d'une longueur d'onde fortement absorbée par la couche 53. Le film photopolymère, après cette exposition, 30 présente des épaisseurs polymérisées protectrices 55 et 57 sur chaque face d'une composition monomère encore à polymériser 59. Un a-vantage de la polymérisation des deux pellicules superficielles opposées de la matière photopolymérisable 53 est que la couche 53 peut être retirée de son substrat 51 avant l'exposition à un dessin d'in-35 terférence halographique ou d'un autre rayonnement, dessin qui polymérise sélectivement le monomère restant 59. Cette double exposition préalable rend la couche 53 suffisamment solide pour être manipulée sans un substrat de support. .-1, i2 2107912 71 34311 La figure 8 représente sous une forme exagérée les effets d'un rétrécissement superficiel après exposition d'un film de composition photopolymérisable 61 à un dessin de rayonnement tel qu'un dessin d'interférence holographique. La surface 63 de^-vient 5 inégale à cause du rétrécissement provenant de la polymérisation non uniforme de la composition 61. Lorsqu'un dessin holographique est enregistré dans le film 61, le relief superficiel inégal 63, bien que contenant certaines informations utiles, disperse aussi d'une façon indésirable la lumière de reconstitution qui est diri-10 gée à travers la couche 61. Cette dispersion de la lumière superpose des parasites aux informations désirées qui sont reconstituées à partir de l'hologramme. Un avantage de la polymérisation uniforme d'une pellicule superficielle du film de composition photopolymérisable préalablement à l'exposition de ce film à un dessin "de */~ 15 rayonnement à y enregistrer, comme décrit précédemment, est que le rétrécissement superficiel et donc le dessin de relief superficiel indésirable en résultant sont réduits au minimum. Lorsque la technique d'exposition préalable n'est pas utilisée, le relief superficiel 63 de la figure 8 peut être élimi-20 né comme indiqué à la figure 9, dans laquelle un revêtement liquide 65 est appliqué et laissé à durcir pour former une surface lisse. Ce traitement de revêtement utilise de préférence la même composition monomère que la couche photopolymérisable 61 dans laquelle a été enregistré le dessin lumineux désiré. Après l'application 25 du monomère en tant que revêtement liquide 65, il est polymérisé par application d'un rayonnement électromagnétique approprié d'intensité uniforme afin de durcir uniformément et également le revêtement 65 par sa polymérisation. D'une autre façon, le revêtement 65 peut être appliqué à la couche 61 après exposition à un dessin ho-30 lographique mais avant qu'une exposition ultérieure n'achève la polymérisation de la couche 61. Une seule exposition ultérieure à un rayonnement électromagnétique du film revêtu offre alors l'exposition ultérieure nécessaire de la couche 61 aussi bien que la polymérisation simultanée de la couche protectrice 65. 35 Un procédé continu de fabrication et d'exposition uti lisant la technique d'exposition préalable suivant l'invention est illustré à la figure 10. Un rouleau 67 conserve une quantité de substrat 69 qui est tiiré sur un autre rouleau 71. Un appareil d'extru- 71 34311 13 2107912 sion 73 applique au substrat 69 sur le rouleau 71 une matière photopolymérisable appropriée sous forme liquide à partir d'une trémie de fourniture 75. Un substrat revêtu 70 est alors tiré suivant un parcours en ligne droite afin d'éviter une perturbation de l'uni-5 formité de la couche liquide photopolymérisable appliquée au substrat. Le substrat revêtu 70 est tiré à travers un séchoir 77 a-fin d'extraire tout solvant qui peut avoir été incorporé par la matière photopolymérisable afin de la maintenir à l'état liquide. Le substrat revêtu et séché est alors amené à passer à travers une 10 station d'exposition préalable 79 qui polymérise une pellicule superficielle de la couche de composition photopolymérisable, comme décrit précédemment. Cette pellicule superficielle polymérisée donne la stabilité mécanique requise à la couche de composition polymérisable, de telle sorte qu'un film photopolymère résultant 81 peut 15 être enroulé, pincé ou manipulé mécaniquement d'une autre façon sans endommager sa composition non polymérisée. Le film traité 81 peut être conservé pour une utilisation ultérieure sur des rouleaux oû il peut être utilisé en tant que partie d'un processus continu avec un dessin holographique ou autre 20 dessin lumineux enregistré sur ce film. Un exemple d'un procédé d'exposition. du film photopolymère 81 est représenté à la figure 10, pour la copie d'un film cinématographique holographique à partir d'un film cinématographique holographique original 83. Le film original 83 est amené à passer autour d'un support transparent 85 à 25 travers un faisceau de rayonnement cohérent 87, en reconstituant ainsi à partir de ce film au moins un faisceau diffracté de premier ordre. Ce faisceau diffracté de premier ordre est enregistré sur la matière de copie photopolymère 81 en tant que nouvel hologramme par interférence avec une partie non diffractée du faisceau cohérent 30 87 qui traverse le film original 83. Le film photopolymère de copie 81 est tiré à travers le faisceau cohérent 87 sans vitesse relative vis à vis du film original 83, en étant de préférence maintenu en contact intime avec ce dernier. Le film exposé 89 est alors amené à passer à travers un compartiment d'exposition postérieure 35 91 qui illumine uniformément le film 89 à l'aide de plusieurs lampes à mercure choisies de façon à émettre un rayonnement dans la gamme de l'ultraviolet. Cette exposition ultérieure polymérise totalement tout monomère subsistant dans le film 89 après l'exposition 71 34311 14 2107912 au dessin d'hologramme de manière à former une copie holographique finie qui est conservée sur une bobine 93 pour une projection ultérieure. Afin d'offrir une solidité et une protection accrue?, 5 un recouvrement liquide est éventuellement appliqué par extrusion à l'aide d'un appareil 95, sur le film de copie exposé 89 avant son passage à travers le compartiment d'exposition ultérieure 91. Lorsqu'on désire appliquer un recouvrement, la matière préférée est une composition photopolymérisable et peut être identique à celle 10 extrudée sur le substrat 69 par l'appareil d'extrusion 73. Une exposition uniforme de ce revêtement de composition photopolymérisable forme un revêtement protecteur supplémentaire uniforme et dur. Comme décrit précédemment, un tel revêtement est particulièrement désirable pour un film photopolymère qui n'a pas été polymérisé en 15 surface avant l'exposition à un dessin holographique. Un tel revêtement peut également être désirable pour certaines applications dans lesquelles une polymérisation superficielle par exposition préalable a été réalisée. On remarquera que dans le procédé de fabrication et d1 20 exposition de film photopolymère illustré en se référant à la figure 10., un substrat doit être utilisé pour la solidité requise. Un procédé de fabrication et d'exposition de film photopolymère éliminant la nécessité de la présence d'un film de substrat distinct est illustré à la figure 11, dans laquelle le film original 83 à 25 copier sert par lui-même de substrat. Un appareil 97 applique par extrusion une composition photopolymérisable sous forme liquide sur le film original 83. Une source 99 de rayonnement électromagnétique monochromatique cohérent dans l'espace reconstitue à partir du film original 83 un front d'onde portant une image objet qui est alors 30 enregistrée sur le revêtement photopolymérisable 101. Ce dernier et le film holographique original 83 sont amenés à traverser un compartiment d'exposition ultérieure 103 afin d'achever la polymérisation du revêtement 101. Le revêtement. 101 totalement polymérisé, qui possède alors un certain degré de solidité physique, est séparé du 35 film original 83. Le film photopolymère 101 séparé peut être appliqué sur un substrat après séparation du film original 83 ou il peut être utilisé par lui-même. Un revêtement par exposition ultérieure peut être ajouté pour la solidité physique et réduire les parasites 71 34311 15 2107912 dus à une dispersion de la lumière au cours de la reconstitution. On remarquera que la configuration de la figure 11 n'exige pas de barrière à liquide entre la matière photopolymérisable et le film holographique original 83. A cause de ceci et du fait qu'il ne se 5 produit pas de manipulation mécanique de la composition photopolymérisable préalablement à l'exposition au dessin de rayonnement désiré, l'exposition préalable suivant la présente invention pour polymériser une couche superficielle de la matière photopolymérisable devient inutile. 10 II doit être entendu que la présente invention n'est en aucune façon limitée aux formes de réalisation ci-avant et que bien des modifications peuvent y être apportées sans sortir du cadre du présent brevet. 71 34311 16 2107912 REVENDICATIONS 1. Procédé d'enregistrement d'un dessin de rayonnement électromagnétique dans un film de composition photopolymérisable, caractérisé en ce qu'il consiste à exposer la composition photopolymérisable de ce film à un dessin de rayonnement électromagnétique 5 et à former dans une couche superficielle du film, une pellicule 5 protectrice. 2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que la pellicule superficielle protectrice est formée en soumettant la couche superficielle du film à un rayonnement électromagnétique 10 d'intensité pratiquement uniforme, afin de provoquer une photopoly-'. 3. Procédé suivant 1'une ou 11 autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce qu'un hologramme est formé sur la composition avec un relief superficiel et en ce qu'un revêtement li~ 15 quide de composition photopolymérisable est appliqué à cette sur-: i" face d'hologramme et la surface revêtue est ensuite exposée à un rayonnement électromagnétique présentant une intensité pratiquement uniforme de cette surface, de manière à photopolymériser le revêtement afin de constituer une couche protectrice lisse pour l'holo-20 gramme. ;.!■ 4. Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il consiste à exposer le film au dessin de -rayonnement, à appliquer un revêtement liquide de matière photopolymérisable directement à une surface de la composition expo-25 sée et à exposer ultérieurement le film à un rayonnement électro-y.'j magnétique afin de polymériser les zones de la couche de composition non polymérisée lors de l'exposition précédente, aussi bien qu'afin de polymériser la matière de revêtement. 5. Procédé suivant l'une quelconque des revendications 30 précédentes, caractérisé en ce que le film se présente en grandes 1 j longueuis et est formé en appliquant un revêtement de composition photopolymérisable liquide sur une grande longueur de substrat en tirant le substrat devant un appareil d'extrusion et en faisant passer le substrat revêtu suivant un parcours pratiquement rectiligne 35 à travers un faisceau de rayonnement électromagnétique qui polymé- 2 5 rise une pellicule superficielle de la composition photopolymérisa ble. 71 34311 17 2107912 6. Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il consiste en outre à appliquer un revêtement d'une couche de composition polymérisable liquide sur uri substrat allongé, à faire passer le substrat revêtu 5 à travers un faisceau de rayonnement électromagnétique afin de polymériser une mince pellicule superficielle sur chaque face de la couche, tout en laissant de la matière photopolymérisable dans la partie médiane de cette couche entre les pellicule, à retirer la couche du substrat et à exposer cette couche à travers 1'une des 10 pellicules à un dessin de rayonnement afin d'enregistrer ce dessin dans la partie médiane de la couche. 7. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'il consiste à appliquer un revêtement d'une composition polymérisable liquide sur un film allongé en tirant un film sui- 15 vant une direction longitudinale devant un appareil d'extrusion, à faire passer le film revêtu de l'appareil d'extrusion vers une station d'exposition afin de l'exposer à un faisceau de rayonnement électromagnétique auquel la composition photopolymérisable est sensible et à retirer la composition après polymérisation du film pré-20 cité. 8. Procédé suivant l'une quelconque des revendications 5 à 7, caractérisé en ce que le film allongé est un hologram- ne ou une série d'hologrammes et en ce que le faisceau de rayonnement électromagnétique dans la station d'exposition est un faisceau co-25 hérent. 9. Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la matière photopolymérisable est exposée à un rayonnement électromagnétique voisin d'une première longueur d'onde et présentant une intensité pratiquement 30 uniforme afin de polymériser une couche superficielle des compositions polymérisables en formant ainsi une pellicule protectrice sur la couche photopolymérisable restante préalablement à l'exposition au dessin de rayonnement électromagnétique précité. 10. Procédé suivant la revendication 9, caractérisé 35 en ce que la matière photopolymérisable restante est exposée à travers la pellicule superficielle précitée à un dessin de rayonnement électromagnétique voisin d'une seconde longueur d'onde, la composition photopolymérisable étant nettement plus absorbante pour le rayonneaent élecrtroaagnétique de la première longueur d'onde que pour celui de la Beoande longueur d'onde*