Brevet FR2029040A1 — publié le 19701016

i 2029040 La présente invention se rapporte à un procédé pour produire un stencil dégradé à partir d'un film photo-sensible en exposant celui-ci à une image lumineuse et en le développant pour produire un arrangement de parties opaques ou transparentes ayant la confi-5 guration de la lumière d'exposition, le film photosensible étant exposé à une image formant un arrangement de régions éclairées de dimensions uniformes . Ce stencil dégradé est utilisé pour fabriquer des masques perforés à trous dégradés pour des cinescopes en couleurs . 10 Le masque perforé d'un cinescope en couleurs est générale ment fabriqué en couvrant les deux faces d'une mince feuille d'acier plane avec des couches photosensibles, en exposant chaque face à travers un stencil portant une configuration ou un arrangement de points opaques correspondant aux trous désirés, en déve-15 loppant ces couches dans un solvant afin d'enlever les parties so-lubles non-exposées et de laisser dans les couches photosensibles des trous correspondants aux points des stencils . Les régions de la feuille d'acier qui sont découvertes par les trous du stencil sont enlevées par un décapage à l'acide pour produire un masque 20 perforé . Ce masque plat passe ensuite dans une presse qui lui confère la courbure désirée . Il est classique d'utiliser un masque percé d'ouvertures dégradées, c'est à dire , d'ouvertures dont le diamètre décroît d'un maximum au centre à un minimum vers le bord, comme décrit 25 dans le brevet américain N° 2 755 ^02 . Ce brevet décrit aussi un procédé pour produire un stencil dégradé pour un tel masque , dans lequel on expose une plaque portant une émulsion photographique à 50 une source lumineuse uniforme à travers un masque ayant des ouvertures de dimensions égales et à travers un filtre optique dont la transparence varie entre un maximum au centre et un minimum au bord extérieur . Après avoir développé la plaque photographique , on obtient des points opaques dont la disposition correspond à cel-35 le des ouvertures du masque , les dimensions de ces points étant proportionnelles à la quantité de lumière ayant frappé chaque point , les dimensions des points diminuant ainsi d.u centre vers 1'extérieur . On obtient de cette manière un stencil dégradé à travers lequel on expose la feuille d'acier portant les revête-40 ments photosensibles afin de former un arrangement d'ouvertures dégradées pour le masque du cinescope . 70 02254 2 2029040 Un autre procédé pour produire un stencil dégradé consiste à faire une épreuve photographique d'un masque percé d'ouvertures de dimensions uniformes en exposant au tirage l'épreuve photographique à travers m masque à une source lumineuse 5 ponctuelle placée relativement près de celui-ci et en se fiant à la loi physique selon laquelle l'intensité lumineuse est inversement proportionnelle au carré de la distance , ainsi qu'à la géométrie de l'appareil d'exposition pour obtenir la variation désirée de l'intensité lumineuse du centre vers l'extérieur , 10 variation nécessaire pour produire la variation recherchée des dimensions des points opaques du stencil . Dans ces deux procédés, il est difficile , et parfois impossible , en agissant sur l'intensité de la lumière , d'obtenir exactement les dimensions et la gradation désirées des points 15 dans le stencil . De plus , la variation de l'intensité lumineuse est un procédé inefficace pour obtenir une croissance différentielle des dimensions des régions exposées . L'invention apporte une solution à ces problèmes qui consiste à exposer le film photosensible formant le stencil à une 20 configuration de lumière, le temps d'exposition à la lumière de chaque partie du film étant, fonction de la distance entre cette partie exposée et le centre de la configuration ou de l'arrangement de régions éclairées, cette fonction assurant une exposition maximale au centre de l'arrangement et une exposition minimale au 25 bord extérieur de celui-ci afin de produire , après développement, une variation radiale correspondante des dimensions des parties opaques ou transparentes exposées . L'invention est fondée sur la particularité que les régions exposées à la lumière des émulsions photographiques ont 30 tendance à croître ou à augmenter . Cette particularité est utilisée pour former un stencil dégradé destiné à la fabrication d'un masque perforé en exposant, une émulsion photographique à la lumière traversant un obturateur rotatif de façon à faire varier le temps d'exposition radialement à partir du centre de l'image lumi-35 neuse d'exposition . D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d'exemple nullement limitatif, en référence au dessin annexé, dans lequel : 70 02254 3 2029040 La Fig.1 est une vue en plan d'un masque perforé pour un cinescope en couleurs ; la Fig.2 est une vue de détail à grande échelle montrant un groupe d'ouvertures du masque de la Fig.1 ; $ la Fig.3 est une coupe partielle du masque de la Fig.1 montrant l'une des ouvertures de celui-ci ; la Fig.4 est un diagramme d'une courbe de gradation typique des ouvertures d'un masque perforé ; les Fig. 5, 6 et 7 sont des coupes schématiques montrant 10 les étapes de la formation d'un stencil ayant des ouvertures dégradées, conformément à un mode de réalisation de l'invention; la Fig. 8 est une vue en plan d'un obturateur rotatif utilisé dans le dispositif de la Fig. 7 . la Fig. 9 est un diagramme montrant le temps nécessaire 15 pour produire diverses croissances des points dans l'appareil photographique utilisé ; la Fig.10 est un diagramme montrant le tracé de l'un des quadrants de l'ouverture de l'obturateur pour produire une variation radiale donnée des dimensions des points ; 20 la Fig.11 est une coupe schématique montrant l'étape de transformation du stencil résultant de la Fig. 7 en ime réplique négative ; la Fig.12 est une vue en coupe montrant , en partie , la manière dont un premier stencil ayant des ouvertures dégradées 25 et un second stencil ayant des ouvertures uniformes sont utilisés pour produire un masque perforé à ouvertures dégradées ; et la Fig.13 est une vue en coupe analogue à la Fig.6 d'une modification de celle-ci . Sur les Fig. 1 à 3 , on voit une ébauche typique 30 pour la fabrication d'un masque perforé pour.cinescopes en couleurs . Le masque 1 peut être constitué par une feuille d'acier inoxydable de 0,150 mm d'épaisseur percée de plusieurs centaines de milliers d'ouvertures 3 disposées suivant un arrangement prédéterminé , par exemple , suivant un arrangement hexagonal, com-35 me le montre la Fig.2 . C'est ainsi, par exemple, que dans un cinescope en couleurs de 63, 5 cm , l'espacement vertical b des ouvertures 3 peut être d'environ 0,584 mm, tandis que l'aire perforée 5 du masque , limitée par le cadre en traits mixtes 6, sur la Fig.1, peut avoir une dimension maximale (diagonale) de-- 70 02254 4 2029040 570 mm. Comme le montre la Fig.3» chaque ouverture 3 est produite ( par décapage chimique) avec une partie 7 ayantun petit diamètre B et avec une partie 9 ayant un plus grand diamètre C. Le diamètre C est , de préférence , le même pour toutes les ou-5 . vertures . Le petit diamètre B des ouvertures 3 varie ravalement , étant maximal au centre et minimal au bord extérieur du masque . La Fig.4 montre une courbe de graduation typique de la dimension B des ouvertures en fonction de l'espacement radial R 2 du centre du masque 1, conformément à la formule B » BQ - DR , 10 où Bq est 0,244 mm et D est 0,013504- . Dans ce cas , les ouvertures 3 du masque ont un diamètre de 0,244 mm au centre de 0,200 mm au rayon maximal de 280 mm . Ainsi, la différence maximale des dimensions des ouvertures est de 0,244 - 0,200 mm = 0,044 mm. La bordure non-perforée 11 du masque 1 de la Fig.1 pourrait présen-15 ter trois encoches 13 ou d'autres moyens appropriés pour le repérage avec des éléments complémentaires situés sur les stencils utilisés pour imprimer la configuration d'ouvertures sur le masque 1 . Un procédé préféré pour produire un stencil dégradé 20 pour imprimer l'arrangement désiré d'ouvertures dégradées dans un masque perforé va être décrit maintenant en regard des Fig.5 à 12 . Dans cette description, ainsi que dans les revendications , la terminologie suivante sera utilisée : Un stencil entend désigner une pellicule ou une feuille présentant une configuration, 25 un dessin ou un arrangement de régions opaques ou transparentes sur un arriè-re-plan de nature opposée. Un stencil positif est un stencil comportant des régions ou des points opaques et un fond ou un arrière-plan transparent . Au contraire, un stencil négatif comporte des régions transparentes et un fond opaque . Un 30 stencil positif sera également qualifié " cliché de points " , tandis qu'un stencil négatif sera aussi qualifié de " cliché de peints négatif " ou de " cliché d'ouvertures " . Une réplique positive d'un dessin ou d'un arrangement donné est un duplicata de celui-ci , sans inversion des teintes, avec ou sans changement 35 des dimensions des points ou des ouvertures . Une réplique négative d'une configuration ou d'un arrangement donné est un duplicata spéculaire de celui-ci avec inversion des teintes, par exemple, opaque—a»transparent ou inversement, aussi avec ou sans changement des dimensions des points ou des ouvertures . Une 4-° émulsion photo-sensible positive est celle dans laquelle les 70 02254 5 2029040 parties exposées sont transparentes après développement , tandis que les parties non-exposées sont opaques . Une émulsion photosensible négative est celle dont les parties non-exposées restent transparentes après développement et dont les parties exposées 5 sont opaques . Un tirage par contact est un tirage qui est obtenu en exposant une émulsion photosensible à la lumière traversant un stencil ou -un élément transparent disposé pratiquement au contact de 1'émulsion, puis en développant 11émulsion exposée . Les émulsions photo-sensibles utilisées, comme 1Q décrit ci-dessous , sont des émulsions photographiques courantes aux halogénures d'argent du type positif et négatif . On utilise deux stencils positifs ayant des arrangements identiques de points opaques pour exposer les revêtements de photogravure apposés sur les faces opposées de la feuille de métal servant à 15 fabriquer le masque . Pour produire un masque perforé ayant un arrangement dégradé d'ouvertures dont les dimensions décroissent ra-dialement , du centre vers le bord , l'un, au moins, des stencils positifs doit avoir un arrangement dégradé correspondant de points 20 opaques dont les dimensions diminuent avec la distance radiale de chaque point du centre de l'arrangement . Aux fins de l'invention, on prérare d'abord un stencil positif partiel en pointant mécaniquement un petit nombre , par exemple , cinq points opaques sur une plaque de verre 25 suivant l'arrangement ou la disposition hexagonale désirée à une échelle agrandie de 30/1 par rapport aux dimensions finales des points . L'image de ce stencil partiel est ensuite réduite par voie photographique dans un rapport de 10/1, au moyen d'une caméra , afin d'obtenir un film négatif ayant des régions transpa-30 rentes correspondant aux points opaques . On monte ensuite ce film négatif dans un appareil de reproduction de précision qui produit une nouvelle réduction des dimensions dans le rapport de 3/1 et qui promène pas à pas le film au-dessus de l''aire désirée de la surface d'une feuille transparente revêtue d'une émulsion 35 photosensible négative afin de produire le stencil positif désiré 15 ayant des régions ou des points opaques 19 de dimensions uniformes sur un film 20 ( Fig.5) • Les dimensions des points du stencil partiel sont telles qu'après la réduction dans le rapport 30/1, les points 19 ont un diamètre égal à celui des 70 02254 6 ' 2029040 plus petits trous du masque dégradé désiré, c'est à dire, de 0,200 mm dans l'exemple choisi . On place ensuite le stencil positif 15 sur une feuille transparente 21 préalablement revêtue d'une émulsion pho-5 tosensible négative 23, le film 20 étant au contact de 1'émulsion 23, comme le montre le Fig.5. On expose 1'émulsion photosensible 23 à la-lumière L, à travers le stencil 15- On développe ensuite 1'émulsion 23 pour produire le stencil négatif 25 de la Fig. 6 dans lequel les régions 27 situées en face des points 19 sont 10 transparentes, tandis que les parties restantes 29 sont opaques. Le temps d'exposition de l'étape de la Fig.5 est tel qu'il ne se produit aucun changement appréciable de dimensions lors de la conversion des points opaques 19 en régions transparentes 27. Les Fig. 7 à 12 illustrent un procédé préféré 15 d'utilisation du stencil négatif 25 pour produire un stencil positif comportant des points opaques dégradés disposés suivant le même arrangement que les régions transparentes 27 du stencil 25 . On place le stencil 25 avec le film 23 au contact de 1"émulsion positive 35 d'une feuille transparente 31 • On expose 1'émulsion 20 33 à line source lumineuse concentrée 35 traversant un obturateur rotatif 39 (Fig.8) placé près du stencil 25» dans la position indiquée par la ligne en traits mixtes. 37 et à travers le stencil négatif 25. Gomme le montre la Fig.8, l'obturateur rotatif 25 39 peut être constitué par une plaque transparente 41 dont l'un des côtés est peint en noir en ménageant une ouverture (transparente) 43 ayant une forme spéciale afin de faire varier le temps d'exposition du stencil 25 d'une manière prédéterminée, entre un maximum au centre et un minimum au b.ord extérieur . Dans l'appa-30 reil représenté , la plaque 41 est fixée à une plaque circulaire opaque 45, par exemple , en aluminium , qui est montée à rotation sur une plateforme de support 47 au moyen de quatre groupes comprenant chacun trois galets . Quatre galets 49 s'appliquent contre le bord extérieur de la plaque 45 , les huit autres galets 51 s'ap-35 pliquant contre les faces supérieure- et inférieure de la plaque 41 . Chaque groupe de galets peut être monté sur la plate-forme 47 au moyen d'un seul support ( non représenté) . La plaque 41 est montée au dessus d'une ouverture rectangulaire légèrement plus petite 46 découpée dans la plaque circulaire 45, le centre géo-40 métrique de l'ouverture 43 étant situé sur l'axe de la plaque cir 70 02254 7 2029040 culaire 45 . La plaque circulaire 45 est entraînée en rotation, avec la plaque transparente 41, autour de son axe au moyen d'un moteur électrique 53 monté sur la plateforme 47 et qui comporte un galet 55 s'appliquant contre le "bord extérieur de la plaque 45<> 5 La plateforme 47 est percée d'une ouverture circulaire 57 plus petite que celle de la plaque 45 et coaxiale à cette dernière . Le stencil 25 de la Fig.7 occupe une position fixe par rapport à la plaque rotative 45, comme indiqué en tirets sur la Fig.8 qui montre la disposition de l'obturateur 39 et de l'ouverture 43 par rap-10 port au stencil 25 . On détermine la forme exacte de l'ouverture 43 de l'obturateur nécessaire pour produire dans le masque des ouvertures ayant la gradation représentée sur la Fig.5 de la manière suivante: on calcule les dimensions B de l'ouverture désirée pour 15 chaque distance radiale du centre, à des intervalles de 25,4- mm en utilisant la formule B= 0,244 - 0,013504 R^ et on l'inscrit dans le tableau suivant R 1 Distance radiale dr centre B Dimensions ides ouvertures G Croissance dimensions des points T Temps d'exposition nécessaire F Pourcentage du temps maximal 6 Angle de chaque quadrant mm mm /u minutes % degrés 0 25,4 0,244 0,24358 4-3,2 4-2,9 15,50 15,25 100 98,4 90 88,6 50,8 0,24257 4-1,9 14,75 95,2 85,7 76,2 0,24079 40,1 13,90 89,7 80,7 101,6 0,23825 37,6 12,90 83,2 74-,9 127 0,23520 34-,5 11,60 74-,8 67,3 152,4 0,2314-0 30,7 10,20 65,7 59,1 177,8 0,22758 26,9 8,80 56,8 51,1 205,2 0,222 21,3 7,01 4-5,2 40,7 228,6 0,21615 16,2 5,4-0 34-,8 31,3 254- 0,20955 8,9 4,00 25,8 23,2 279,4- 0,20243 1,78 2,5? 16,6 14-,9 285 0,200 0 2,50 16,1 14,5 20 25 30 35 Ensuite, on détermine la croissance G des dimensions du point, en millimètres, nécessaire à chaque distance radiale en soustrayant le diamètre , soit 0,200 mm des régions claires 27 de la dimension désirée B de 11 ouverture et on 1'inscrit dans le 70 02254 8 2029040 tableau . Les temps d'exposition , en minutes , exigés par l'appareil photographique utilisé pour produire les divers degrés de croissance des dimensions des points sont déterminés expérimentalement et sont pointés sur la Fig.9 dont la courbe 59 a été 5 tracée à partir de la moyenne des résultats expérimentaux. Ensuite, le temps d'exposition T nécessaire à chaque distance radiale R est lu sur- la courbe 59 de la Fig.9 et est inscrit dans le tableau, conjointement avec le pourcentage P du temps maximal qui i est 15,50 minutes . L'étape suivante consiste à déterminer la for^ 10 me de l'un des quadrants de l'ouverture 4$ de l'obturateur , comme tracé sur la Fig.10 . Cette forme est telle que le temps d'exposition varie entre son maximum au centre du stencil, à 90° de l'axe vertical , et zéro à 0° ( axe vertical). L'obturateur 39 tourne en continu à une vitesse d'environ 30 tours/minute. Ainsi, 15 le nombre total de révolutions est d'environ 465 et, par conséquent, les fractions de révolution à la fin peuvent être négligées . On calcule l'angle d'exposition 0 pour chaque distance radiale selon la formule P_x 90° , on l'inscrit dans le tableau et on le pointe sur la Fig.10 jusqu'à la valeur R = 280 mm au bord 20 du stencil . La courbe continue 61 reliant les points pointés donne la forme que l'ouverture doit avoir pour produire la variation radiale du temps d'exposition nécessaire pour obtenir la gradation désirée des ouvertures du masque . Cette courbe 61 est reproduite , à une échelle différente, pour les quatre quadrants de 25 l'ouverture 43 de la Fig.8 . En se reportant à la Fig.7, il est à remarquer que le stencil 25 et 1'émulsion 33 sont exposés à la lumière de la source 35 à travers l'obturateur rotatif 39 pendant 15,50 minutes . A la fin de ce temps d'exposition , oï/développe l'émul-30 sion 33 pour obtenir un stencil négatif 63, comme celui de la Fig.11, ayant des régions claires ou transparentes 65 dont les dimensions sont dégradées d'un maximum au centre à un minimum au bord extérieur sur un fond opaque 67 . L'exposition maximale au centre fait que les régions exposées de 1'émulsion 33 situées 35 en face des régions centrales 27 du stencil 25 croissent de 0,043 mm , à 0,244 mm, tandis que l'exposition minimale , de 2,50 minutes , au bord extérieur ne produit pas d'augmentation sensible des dimensions de 0,200 mm des régions 27 du bord . Sur la Fig.11, on voit le stencil: négatif 63 , COPY 70 02254 9 2029040 comportant les ouvorfcuron d'nradées , appliqué contro uno plaque transparente 63 couverta cl * uno énulaion photononnibla négative 69» afin do ln convertir on un otoncil positif 71 ayant des points opaques d-'cradés 73 dont loa dimensions sont los mGmoB que 5 celles dos partien transparentes correnpondantes 65 du stencil 63» comme lo montre la Tir>12 • La Fiç.12 montre la naniire dont le stencil positif ayant des points dégradés 71 oat utilisé avec un atcncil ponitif 77 constitué par un^ fouille transparento 79 portant un arrange— 10 ment de gronda pointa opaques 01 do dimennion3 uniformes, par exemple , do 0,430 rra, sur un fond transparent 82 ot qui sont disposés suivant lo rtf-n nrrannenent quo les points dégradés du atoncil 71» pour fomor le3 ouvertures dégradées dans un masque perforé . On couvre les doux faces d'une r.inco feuille d'acier 15 83 nvoc dos couchea photosensibles solublc3 05 et 87 adaptées à être durcies ot rendues insolubles par uno exposition à la lumière » On place les doux stencils 71 et 77 au contact des couches 85 et 87 de façon que les arrangements de points coïncident exactement , et on procéda à une e;:por.ition à la lumière L des 20 deux côtés • Çuand on développa des couches 85 et 87 • les parties -non exposées de celles-ci , correspondant aux points , se dissolvent , laissant don ouverturos d~ns les parties expoaées durcies ot dovenuos insolubles dos couchos 85 et- 07 « On trempe ensuite cotte feuille 83 dans un bain d'acide de sorte que les par-25 tios dénudées do collo-ci correspondant aux relions £es points t sont rongées par l'acide en produisant dos ouvertures ayant la configuration représentée sur la Fig.3 • On enlève ensuite les couchos 85 et 87 pour produire 1e nasque plat final, percé d'une multitude d'ouvertures ayant la Gradation désirée • Le stencil 30 77 P»ut être obtenu par un procédé quelconque , y compris le procédé décrit ci-dessus pour produire lo stencil û. points uniformes 15 • Dans lo procédé préféré décrit ci-dassua, dans lequel on utiline une émulsion po itive pour lo stencil dégradé 63 de 35 la Fiô* 11» la croissance maximale n-'eossairo des dimensions des points , au contre du stencil, peut être obtenue on uno seule exposition • Zn fait , une cx'oissnnce do plua de 0,06 mm peut 8tre obtenue avec 1'appareil x^rticulior utilisé, permettant ainsi do faire varier los dirionsions des points sur toute l'étendue 40 de la canne on une seule exposition • Avec de3 émulsions auto- COPV 02254 10 2029040 positives , les temps d'exposition sont plus longs, offrant ainsi une plus grande latitude et diminuant les risques d'erreurs d'exposition . Dans les applications nécessitant une moins 5 grande croissance des points , une émulsion négative peut être utilisée pour la couche 33 de la Fig.7 afin de produire un stencil positif 89 ayant des points opaques dégradés 91 sur un fond transparent 93, comme représenté sur la Fig.13 • Des essais effectués avec des émulsions négatives ont montré que des points 10 imprimés avec -un stencil négatif peuvent être dilatés d'un minimum de 0,018 mm à un maximum de 0,030 mm. L'avantage de l'utilisation d'une émulsion négative 33, sur la Fig.7, est que l'on élimine l'opération consistant à convertir un stencil négatif en stencil positif . Toutefois, pour obtenir le gradient des crois-15 sances désiré des dimensions des points , qui est d'environ 0,05 mm, au moins trois opérations de tirage par contact sont nécessaires. Etant donné que le stencil 89 de la Fig.13 est une image spéculaire du stencil 71, une image spéculaire du stencil 77 doit être utilisée sur la Fig.12 avec le stencil 89 • 20 Dans un autre.procédé, on ne fait pas varier le temps d'exposition de 1'émulsion positive 33 à travers le stencil 25 pendant le tirage par contact représenté sur la Fig.7, mais on effectue un tirage par contact du stencil 25 avec une exposition uniforme à la lumière sur un film à émulsion négative pour 25 produire une image latente comprenant des aires de points exposés de dimensions uniformes dans un fond non-exposé situé sur une feuille de support transparente . Ensuite , après avoir enlevé le stencil 25, on soumet ce tirage non-développé à une exposition radialement variable de l'arrière-plan ou du fond au moyen 30 de la lumière d'une source 35 traversant un obturateur rotatif 39, comme sur les Fig. 7 et 8, afin de produire la croissance différentielle désirée des points des aires précédemment exposés. Cette exposition lumineuse variable est suffisante pour que seules les aires des points précédemment exposés deviennent opaques 35 lors du développement , les régions précédemment non-exposées restant transparentes . On obtient ainsi le stencil positif désiré avec des points opaques de dimensions dégradées sur un fond clair tout comme le stencil 89 de la Fig. 13. Des expériences ont montré qu'une croissance des points allant jusqu'à environ 0,050 mm 40 peut être réalisée par ce procédé . 70 02254 n 2029040 L'invention a été décrite dans le cas de l'utilisation de stencils formés d'un film photosensible supporté par un substrat et dans lequel des régions transparentes et opaques sont produites par exposition à la lumière et développement . 5 L'utilisation d'une exposition à la lumière dont on fait varier la durée de la manière décrite ci-dessus , n'est pas nécessairement limitée à de tels films , mais s'applique aussi aux films autoportants ou aux substrats couverts de résine photosensible dont la solubilité est modifiée par une exposition à la lumière» 10 Après une exposition suivie d'un développement, les parties solu-bles de la résine photosensible sont éliminées, laissant un stencil formé par les régions insolubles de la surface du substrat . Une telle résine photosensible doit être du type positif , étant constituée par des matières opaques , mais qui sont rendues solu-15 bles quand on les expose à la lumière, ou d'ion type négatif constitué par des matières transparentes solubles qui deviennent insolubles et opaques quand on les expose à la lumière . BAD ORIGINAL 70 02254 12 2029040 REVENDICATIONS 1 . Procédé pour produire un stencil dégradé à partir d'un film photosensible en exposant ce film à une configuration ou à un dessin lumineux , et en développant ledit film pour produire un ar-5 rangement de parties opaques ou transparentes ayant la configuration de la lumière d'exposition , qui consiste à exposer le film photosensible à une configuration formant un arrangement de régions éclairées de dimensions uniformes , caractérisé en ce que le temps d'exposition de chaque partie exposée du film est fonc-10 tion de la distance séparant cette partie exposée du centre de l'arrangement de régions éclairées, cette fonction produisant une exposition maximale au centre de l'arrangement et une exposition minimale au bord extérieur de celui-ci afin de produire , après développement, une variation radiale correspondante des dimensions 15 des parties opaques ou transparentes exposées . 2 . Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que le film photosensible est une émulsion positive . 3 • Procédé selon la revendication 1 dans lequel on expose d'abord le film photosensible à la lumière provenant d'un arrangement de 20 régions éclairées de dimensions uniformes , caractérisé en ce que sans développer le film , on le soumet à une seconde exposition d'arriè-re-plan ou de fond à une lumière qui varie radialement à partir du centre de l'arrangement . 4- . Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'on 25 fait varier le temps d'exposition dudit film photosensible à la lumière en faisant passer la lumière à travers tua obturateur tournant en continu percé d'une ouverture centrale de forme spéciale . 5 • Procédé selon la revendication 4- caractérisé en ce que ladite ouverture est profilée de façon à produire une variation radiale 30 des dimensions desdites parties opaques ou transparentes exposées 2 selon la formule B = BQ- DR , dans laquelle B est le diamètre variable desdites parties exposées, Bq est le diamètre des parties exposées au centre dudit arrangement, D est line constante prédéterminée et R est la distance radiale séparant chaque partie exposée du 35 centre dudit arrangement . 6 . Stencil dégradé produit par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5 • BAD ORIGINAL