Brevet FR2016097A1 — publié le 19700430

La présente invention se rapporte à Lors de la conception de dispositifs en circuit intégré, deux considérations principales sont généralement contradictoires. D'une part, le dispositif doit être de dimensions aussi réduites que 10 possible, principalement afin de rendre minimal le coût du disposi tif mais également af in de rendre maximales les performances du dispositif à vitesse élevée et de rendre minimale la longueur des connexions électriques requises. D'autre part, à mesure que le dis positif.devient plus petit, la densité d'énergie augmente et les 15 problèmes thermiques deviennent plus aigus. Une manière de concilier ces considérations antagonistes consiste à réduire l'énergie dissipée par le circuit intégré à mesure que les dimensions géométriques du circuit se trouvent réduites. Etant donné que l'énergie ou la puissance est le produit ^ de la tension et du courant, on peut réduire soit la tension, soit le courant afin d'améliorer le problème. Cependant, le bruit électrique est principalement un problème de tension et les tensions ne peuvent ainsi être réduites arbitrairement sans faire naître des difficultés en ce qui concerne l'immunisation à l'égard 2 5 du bruit. Pour réduire le courant tout en maintenant une tension donnée il faut augmenter les niveaux d'impédance dans le cxrcuit. A mesure que croît l'impédance d'un composant d'un circuit intégré classique, par exemple une résistance diffusée, ses dimensions physiques croissent également. D'autres composants 30 à impédance, par exemple un transistor à effet de champ, ont été utilisés mais il est généralement difficile d'obtenir une repro-ductibilité satisfaisante des caractéristiques de ces dispositifs. Avant la mise au point des circuits intégrés, diverses solutions ont été proposées pour utiliser les caractéristiques 35 inverses des diodes à jonctions PN en vue d'obtenir une impédance élevée dans les circuits utilisant des dispositifs discrets. Toutefois, l'impédance de diodes à jonctions PN de qualité élevée s'est avérée être trop élevée et les impédances plus faibles que présentent des diodes dégradées intentionnellement, s'est avérée trop difficile à régler. En conséquence, la méthode consis 69 29171 2 2016097 tant à utiliser les caractéristiques inverses des diodes à jonctions PN ne s'est pas développée davantage. On a découvert quçune diode à couche d'arrêt de Schottky comportant une surface de séparation entre un métal approprié et 5 une zone de semiconductivité de type P à résistivité relativement élevée peut être reproduite aisément afin de procurer une impédance inverse pouvant être utilisée dans des circuits intégrés à semiconducteurs de faible puissance. Une particularité avantageuse de cette découverte est que 10 ce nouveau type de diode peut être fabriqué par des processus qui ► sont entièrement compatibles avec ceux qui sont utilisés pour former les structures d'électrodes de circuits intégrés à conducteurs-poutres. Dans une forme de réalisation de l'invention, la nouvel-15 le diode à couche d'arrpet de Schottky est formée en faisant réagir une mince couche de rhodium avec du silicium de type P à résistivité relativement élevée afin de former la barrière de potentiel redresseuse au droit de la surface de séparation entre le si-liciure de rhodium et le silicium. 20 Bien que ces nouvelles diodes, qui peuvent être utilisées avantageusement comme composants à impédance élevée et de dimensions petites, soient considérées comme étant à l'avant-garde et qu'il est dès lors prématuré de prévoir les possibilités dvapplica-tion générale de ces diodes dans le domaine des circuits à faible 25 puissance, une forme de réalisation particulière utilisant ces diodes comme impédances de charge dans une mémoire à semiconducteurs sera décrite en détails à titre d'exemple. La présente invention procure un circuit à semiconducteurs comportant au moins une diode à couche d'arrêt de Schottky 30 disposée de telle sorte que l'impédance inverse de cette diode soit utilisée comme organe à impédance dans le circuit. L'invention sera décrite en détails ci-après à l'aide des dessins joints dans lesquels. - la figure 1 montre en coupe les divers types de sur-3 5 face de séparation métal-semiconducteur qui peuvent être formés dans la mise en oeuvre du procédé selon l'invention; - la figure 2 est en coupe une partie d'un circuit intégré contenant des diodes à couche d'arrpet de Schottky selon l'invention, la plaquette du circuit intégré comportant deux couches épitaxiales; 69 29171 iCT6097 - la figure 3 montre en coupe une partie d'un circuit intégré contenant des diodes à couche d'arrêt de Schottky selon 1'invention, les diodes étant formées avec des zones produites par implantation d'ions; 5 ~la figure 4 est un diagramme du courant inverse en fonction de la tension pour des diodes selon l'invention; - la figure 5 est un schéma d'une cellule d'emmagasinage utilisant des diodes à couche d'arrêt de Schottky comme impédances de charge ; 10 - la figure 6 est une vue en plan de la réalisation, sous forme d'un circuit intégré, du circuit représenté sur la figure 5; - la figure 7 est une vue en coupedu circuit intégré selon la figure 6. La figure 1 montre en coupe une partie d'une plaquette 15 de silicium monocristallin 11 comportant une base 12 de type N près d'une surface de laquelle sont formées deux zones 13 et 14 de type P. A l'intérieur de la zone 14 se trouve une zone 15 de type N fortement dopée . Une autre zone 15A, dont le dopage est également relativement élevé, est séparée de la zone 14= Les zones 20 13, 14, 15 et 15A peuvent être formées par un procédé d'alliage, de diffusion en phase solide, d'implantation d'ions ou par tout autre procédé connu propre à modifier le type de conductivité d'une plaquette de semiconducteur. Après que les zones décrites ci-dessus aient été formées, 25 on forme une configuration d'ouvertures dans la couche d'oxyde de silicium 16 afin d'exposer des parties de la surface des zones et/ou de la base. Etant donné que les procédés de décapage chimique même les plus efficaces laissent subsister plusieurs couches atomiques de pellicules inorganiques, ces procédés sont généralement inadé-30 quats pour décaper des surfaces sur lesquelles doivent être formées des diodes à barrière de potentiel relativement faible. Afin d'assurer une surface de silicium propre, la surface d'oxyde et de silicium exposées sont avantageusement soumises à un procédé de pulvérisation tel que décrit dans le brevet des Etats-Unis 35 d'Amérique No 3 271 286. Après le processus de décapage, une mince couche de rhodium est déposée, par exemple par pulvérisation ou vaporisation, sur la surface des parties d'oxyde et de semi-conducteur exposées. Cette couche peut par exemple avoir une épaisseur de 0,02 à 0,05 micron. La structure est .alors chauffée à une température relati 69 29171 2016097 vement non critique, par exemple 450 à 750 degrés centigrades, pendant quelques minutes afin de faire réagir le rhodium avec le silicium. Bien que la température et la durée de cette phase ne soient relativement pas critiques, une température plus élevée 5 telle que 700°C, provoque une organisation plus stable des cristaux résultants et peut par conséquent être souhaitable. Après cette phase, il se trouve un composé de rhodium et de silicium dans chacu.ie des ouvertures d'oxyde où le rhodium était en contact avec le silicium, par exemple les régions 17, 18, 19, 20 et 21 sur la 10 figure 1. Ce composé sera appelé du siliciure de rhodium. Etant donné que le rhodium est un matériau relativement inerte, le processus de pulvérisation en retour est utilisé avantageusement pour éliminer de la surface le rhodium qui n'est pas entré en réaction. Le procédé de pulvérisation en retour afin 15 d'éliminer une substance des parties sélectionnées d'une pièce à semiconducteur est décrit dans le brevet mentionné plus haut. Le siliciure de rhodium ne doit pas être protégé durant le processus de pulvérisation en retour car le rhodium qui subsiste est éliminé à une vitesse égale à environ le double de celle à laquélle est 20 éliminé le siliciure de rhodium et car l'épaisseur du siliciure de rhodium est considérablement plus grande que l'épaisseur de la couche de rhodium. Pour compléter le dispositif, des électrodes métalliques appropriées 22, 23, 24, 25 et 26, et des interconnexions éventuel-25 les sont formées, par exempl'e par une technique de conducteurs-poutres titane - platine-or tel que décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique No 3.335.338. Afin d'illustrer les divers types de surfaces de séparation siliciure de rhodium-silicium qui peuvent être formées par le 30 processus décrit ci-dessus, la zone 13 de type P présente une con- 17 centration superficielle d'environ 2 x 10 ' accepteurs d'électrons par centimètre cube; la base 12 de type N présente une concentration superficielle d'environ 10^ donneurs d'électrons par centimètre cube; la zone 14 de type P présente une concentration super- 18 35 ficielle d'environ 5 x 10 accepteurs d'électrons par centimètre cube; et les zones 15 et 15A de type N présentent une concentra- 20 tion superficielle d'environ 10 donneurs d'électrons par centimètre cube. Les régions 19, 20 et 21 constituées de siliciure de rhodium forment des diodes à couche d'arrêt de Schottky avec les 69 29171 5 2016097 zones de silicium 14, 15 et 15A correspondantes. En raison du niveau relativement élevé dvimpuretés ionisées dans ces zones, un phénomène tunnel à basse tension fait apparaître ces diodes comme étant des contacts ohmiques., Pour cette raison, les surfaces de 5 séparation siliciure de rhodium-silicium dans lesquelles le silicium présente une concentration relativement élevée en impuretés, seront considérées dans ce qui suit comme étant ohmiques. La région 18 constituéede siliciure de rhodium forme une diode à couche d'arrêt de Schottky de qualité élevée avec la ré~ 10 gion 12 de type N de telle sorte que le siliciure de rhodium soit l'anode de la diode et le silicium, la cathode. Cette diode a une tension directe d'environ 0,35 volts pour une densité de courant direct de 100 ampères par centimètre carré environ et une densité de courant inverse d'environ 10-^ ampère, par centimètre carré 15 pour une tension de polarisation inverse d'environ 1 volt. Ce type de diode sera appelé ci-après "diode NSB"(tiré de l'expression anglo-saxone N-type-Schottky barrler ). La région 17 constituée de siliciure de rhodium forme également une diode à couche d'arrêt de Schottky de qualité éle-20 vée avec la zone 13 de type P de telle sorte que le siliciure de rhodium constitue la cathode de la diode et le sil icium, l'anode. Cette diode a une tension directe d'environ 0,02 volt pour une densité de courant direct d'environ 100 ampères par centimètre carré et une densité de courant inverse d'environ 100 ampères par 25 centimètre carré pour une tension de polarisation inverse d'environ 1 voit. Ce type de diode sera appelé ci-après "diode PSB" (tiré de lvexpression anglo-saxone P-type Schottky barrier). Par exemple, si la diode PSB est une pastille ayant un diamètre de 7,62 x 10"^ cm, le courant inverse est d'environ 45 30 micro-ampères pour une tension de polarisation inverse de 1 volt, c'est-à-dire que l'impédance pour cette tension inverse de 1 volt est d'environ 22..200 ohms. Comme on le verra plus loin, cette valeur d'impédance est utile dans les circuits intégrés à semiconducteurs à faible puissance. 35 Comme on l'a mentionné plus haut, les diodes à couche d'arrêt de Schottky formées sur du silicium à résistivité relativement faible subissent un effet tunnel à de telles valeurs de tension de polarisation inverse ou directeau point qu'elles paraissent être virtuellement des organes ohmiques. Pour cette raison, les diodes PSB ayant une impédance utile en polarisation inverse 4 69 29171 2016097 sont avantageusement formées sur du silicium ayant une concentra- 17 tion superficielle inférieure à 5 x 10 ' accepteurs d'électrons par centimètre cube environ. Bien qu'il soit possible de former ce type de zone par diffusion de bore en phase solide au moyen 5 d'un masque d'oxyde de silicium, ce processus est difficile à reproduire dans cette gamme de faibles concentrations superficielle s. C'est pourquoi les figures 2 et 3 illustrent deux autres procédés pour former des zones de type P ayant des concentrations superficielles relativement faibles. 10 La figure 2 montre une partie d'une plaquette de circuit - * intégré à silicium 31 présentant deux couches épitaxiales 32 et 33 recouvrant une base 34 de type P d'environ 10 ohms-centimètres de résistivité. La couche épitaxiale 33, de type N et sensiblement uniforme, a été formée jusqu'à une épaisseur d'environ 1,5 micron 15 sur une majeure partie de la surface de la base du type P 34; la couche épitaxiale 32, de type P et d'épaisseur sensiblement uniforme, a ensuite été formée jusqu'à une épaisseur d'environ 1,5 micron sur l'entièreté de la surface de la couche 33. Les couches 32 et 33 présentent avantageusement la même concentrât ion en impureté. 1 7 20 par exemple 2 x 10 atomes par centimètre cube, afin de réduire le déplacement de leur surface de séparation, la jonction PN 35, durant les traitements thermiques subséquents. D'une manière plus spécifique, la couche 33 a une résistivité d'environ 0,07 ohm avec concentration de la base sensiblement uniforme d'envi-17 25 ron 2 x 10 atomes d'antimoine par centimètre cube, et la couche 32, de type P,présente une résistivité d'environ 0,2 ohm -centimètre avec une concentration de la base sensiblement uniforme d'en-17 viron 2 x 10 atomes de bore par centimètre cube. Les zones d'isolation de type P,36, les zones de contact de connecteurs de type N, 30 37,et la zone d'émetteur de type N,38/sont formées par des processus de diffusion classiques utilisant du bore comme accepteur d'électrons et du phosphore comme donneur d'électrons - On voit que la couche épitaxiale 32 présente une concentration superficielle relativement faible pour la formation de la diode PSB Pour la 3 5 simplicité, on n'a représenté sur la figure 2 aucune connexions électriques. La figure 3 montre une partie d'une plaquette de circuit intégré à silicium 51 présentant une résistivité relativement élevée, par exemple 0,3 ohm-centimètre, dans laquelle une couche épitaxiale de type N,52,recouvre une base de type P>53. Les zones 69 29171 2016097 désolation de type P, 54, la zone de base de type P. 55, la zone d?émetteur de type N,56, et la zone de contact de connecteur de type N,57, sont formées par un processus de diffusion en phase solide de la manière usuelle. La diode PSB 59 est formée sur la zo - 5 ne de type P,58, une zone formée par implantation d'ions jusqu'à 17 une concentration superficielle d'environ 2 x 10 ' atoœes de bore par centimètre cube. Le procédé d'implantation d'ions est un processus qui consiste à bombarder une base au moyen d'un faisceau d'ions afin 10 d'introduire dans la base des donneurs ou des accepteurs d'électrons. Lorsque la base est semiconductrice, les impuretés peuvent modifier le type de semiconductivité. Pour une analyse générale de ce procédé, le lecteur se reportera utilement à l'article de J. F. Gibbons, paru dans Proceedings of the I.E.E.E., volume 56, No 3, 15 Mars 1968, pages 295 à 319. Selon un procédé avantageux faisant appel à l'implantation d'ions, un mince masque de métal est d'abord formé sur l'entièreté de la surface d'une base semiconductrice. Le masque peut, par exemple, être une couche d'or de 1 micron d'épaisseur, présentant des 20 ouvertures au travers desquelles la surface de la base semiconductrice se trouve exposée. Le bombardement ionique du masque produit des zones localisées ayant un type de conductivité opposé uniquement dans les régions du matériau semiconducteur exposées par les ouvertures ménagées dans le masque. 2 5 Un avantage potentiel de la contamination par implanta tion d'ions réside dans la possibilité de régler les variations de contamination suivant trois dimensions en modulant l'énergie, le courant et la position du faisceau d'ions. Par exemple, sur la figure 3, la zone 58 peut être formée par implantation d'ions de 30 manière à présenter une distribution d'impuretés telle que les parties superficielles de la zone soient moins fortement dopées que les parties intérieures. Pour de nombreuses applications utilisant des diodes PSB, cette forme de distribution des impuretés peut être avantageuse car il y a une faible concentration superfi-35cielle dans laquelle des diodes à couche d'arrêt de Schottky à faible barrière de potentiel peuvent être formées; et en même temps il y a des parties intérieures ayant une concentration en impureté élevée permettant de réduire à un minimum la résistance de contact- oérie dans la diode. 69 29171 2016097 La figure 4 montre une courbe caractéristique d'une diode à couche d'arrêt de Schottky formée entre du siliciure de rhodium et du silicium du type P. La courbe 71 montre la variation du courant inverse réel en fonction de la tension dans 5 une diode formée sur du silicium du type P ayant une concentration 17 superficielle de 2 x 10 atomes de bore par centimètre carré. La courbe 72 montre le courant de polarisation inverse qui'peut être escompté d'une jonction idéale ayant une barrière de potentiel redresseuse de hauteur constante, et comme tel ce courant est une 10 composante du courant inverse total de la diode. La ligne 73 indi-que la valeur du courant produit par effet tunnel pour des niveaux de tension donnés et comme têL iL constitue une autre composante du courant total de la diode. La partie incurvée de la caractéristique 71, comprise entre les tensions de 0,015 volt et 7 volts envi-15 ron, est indicative de Rabaissement de la hauteur de la barrière de potentiel, phénomène décrit par S. M. Sze, C. R. Crowell, et D. Kahng dans un article publié dans le Journal of Applied Physics, Volume 35, No 8, Août 1964, pages 2534-2536. Comme le montre la courbe 71, le courant inverse d'une diode à couche d'arrêt de 20 Schottky PSB présente une non-linéarité par rapport à la tension. Cette non-linéarité peut évidemment être exploitée dans diverses applications de circuits intégrés digitaux et linéaires. La figure 5 est un schéma d'un circuit conçu spécialement pour utiliser la caractéristique d'impédance inverse des 25 diodes PSB décrites ci-dessus. A cette fin, le circuit 81 sur la figure 5 est une cellule d'emmagasinage à semiconducteurs utilisant des diodes PSB comme impédancesde charge. Le circuit 81 comprend deux transistors à jonctions NPN 82 et 85 connectés de manière à former une bascule. La base du transistor 82 est connectée à 30 l'anode d'une diode PSB 83 dont la cathode est connectée au pôle positif d'une source de tension , La base du transistor 82 est également connectée à l'anode d'une deuxième diode PSB 84 dont la cathode est connectée au collecteur du transistor 85. La base de celui-ci est connectée à une troisième diode PSB 86 dont la 35 cathode est connectée au pôle positif de la source de tension . La base du transistor 85 est connectée à l'anode d'une quatrième diode PSB 87 dont la cathode est connectée au collecteur du transistor 82. Les collecteurs des transistors 82 et 85 sont connectés aux lignes de chiffres 89 et 92 respectivement par l'intermédiaire de diodes NSB 88 et 91 respectivement. Les lignes 69 29171 2016097 de chiffres 89 et 92 sont montrées symboliquement connectées au pôle positif d'une seconde source de tension Vg par l'intermé-diaire de résistances 90 et 93- Les émetteurs des transistors 82 et 85 sont connectés ensemble et à une ligne de mot commune de 5 la cellule d'emmagasinage. Les impédances inverses des diodes PSB 83 et 86 sont utilisées comme impédances de charge des transistors 82 et 85 respectivement. Ainsi qu'on le verra plus loin, les diodes 84 et 87 sont insérées dans le circuit uniquemait pour la raison qu'il est plus 10 simple de fabriquer le circuit intégré avec les diodes inclues. Les diodesde couplage 88 et 91 sont polarisées en inverse durant les périodes de repos de telle sorte que la cellule d'emmagasinage soit sensiblement isolée des lignes de chiffres. Les tensions du circuit peuvent par exemple être les suivantes: la 15 tension V1 peut être d'environ 2,5 volts et la tension V2 d'environ 1 volt. Au repos, la tension de la ligne de mots peut être d'environ 1,5 volt. Au repos, la tension totale entre la source V.j et les émetteurs des transistors 82 et 85 est donc d'environ 1 volto On supposera,par exemple, que le transistor 82 est con-20 ducteur. Le courant de collecteur du transistor 82 circule alors à partir de la source +V^ à travers la diode 86 en sens inverse et à travers la diode 87 en sens direct. Pour réduire à un minimum leurs effets dans le circuit, les diodes 84 et 87 sont conçues avantageusement pour avoir au moins deux fois la surface des dio-25 des 83 et 86. Lorsque le transistor 82 est conducteur, sa tension collecteur-émetteur est d'environ 0,2 volt; la chute de tension directe sur la diode 87 est d'environ 0,02 volt,ce qui laisse subsister environ 0,78 volt sur la diode 86 en sens inverse. Etant donné que la tension émetteur-base du transistor 82 est d'envi-30 ron 0,55 volt, il n'y a que 0,45 volt environ sur la diode 83 en sens inverse. Avec des diodes 83 et 86 de mêmes dimensions et conçues, par exemple, pour supporter un courant d'environ 40 mi-cro-ampères en sens inverse sous une tension de 0,7 volt et un courant de 30 micro-ampères environ sous une tension de 0,45 volt, 3 5 la puissance dissipée au repos dans la cellule d'emmagasinage est d'environ 70 microwatts. Pour effectuer une opération d'écriture dans la cellule de mémoire, la tension sur la ligne de mots 94 est réduite jusqu'au potentiel de terre environ et un courant supplémentaire provenant de l'extérieur de la cellule est appliqué à travers une 69 29171 10 2016097 des diodes de couplage 88 et 91» Par exemple, lorsque le transistor 82 est conducteur et lorsque l'on désire rendre le transistor 85 conducteur, un courant supplémentaire,de quelques tnilliampères par exemple, est fourni à travers la diode 88. Ce courant circule 5 initialement dans le collecteur du transistor 82 qui est conçu pour avoir une résistance série de collecteur relativement élevée, par exemple 300 ohms. La tension sur la résistance série de collecteur est telle que la jonction émetteur 10 teur. Dans ce cas, sa tension de collecteur diminue et le transis- > tor 82 devient bloqué, D'une manière analogue, si l'on désire rendre le transistor 82 conducteur, un courant supplémentaire est appliqué à la diode 91 en provenance de la ligne de chiffres 92. Comme dans le cas de l'opération d'écriture décrite 15 ci-dessus, pour lire l'état de la cellule 81, la tension de la ligne de mots est de nouveau réduite jusqu'au potentiel de terre environ. La diode de couplage, 88 ou 91, connectée au transistor qui est conducteur, laisse alors passer un courant dynamique entre la ligne de chiffres et la cellule d'emmagasinage. Etant donné que 20 ce courant résulte principalement de la décharge de la capacité parasite associée à la ligne de chiffres, la tension sur la ligne de chiffres change. En utilisant un détecteur équilibré, la polarité de la tension entre les lignes de chiffres est alors détectée afin de déterminer l'état de la cellule d'emmagasinage. 2 5 La figure 6 montre- schématiquement en plan une forme de réalisation possible,sous forme de circuit intégré,d'un ensemble de cellules d'emmagasinage selon la figure 5. La figure 7 est une vue en coupe du circuit intégré de la figure 6. Sur les figures 5, 6 et 7> les composants correspondants sont identifiés par les mêmes 30 références. Selon la technique de fabrication connue des circuits intégrés monolithiques, un réseau de cellules d'emmagasinage identiques est formé dans une plaquette de silicium monocristallin 101 La plaquette comprend un matériau de base 102, de type P. sur laquel 35 le a été développée une couche épitaxiale relativement mince 103, de type N. La couche 103 peut avoir par exemple une résistivité de 0,3 ohm-cm et une épaisseur de 4 microns environ. Un processus de diffusion profonde localisée d'impuretés de bore forme les zones d'isolation I04?de type P et de résistivité relativement faible. Une autre phase de diffusion localisée d'impuretés de bore 69 29!71 2016097 forme la zone de base 105 avec une concentration superficielle 17 d'environ 10 atomes de bore par centimètre carré. Un processus de diffusion localisée de phosphore forme les zones 106> 107 et 108 de type N et de résistivité relativement faible. De la manière dé-5 crice plus haut à l'aide de la figure 1, une couche relativement mince de rhodium est alors agglomérée à la surface du semiconduc~ teur, exposée au travers des ouvertures ménagées dans le masque d'oxyde afin de former les connexions virtuellement ohmiques sur les zones de semiconducteur de faible résistivité et des diodes 10 àcouche d'arrêt de Schottky sur les zones de résistivité relativement élevée. . Il est clair qu'un grand nombre de montages peuvent être adoptés pour réaliser le contact électrique réel avec les zones de semiconducteur et pour effectuer les interconnexions des ré-15 seaux intégrés d'éléments fonctionnels afin de former la cellule d'emmagasinage. Un procédé particulièrement utilisé consiste à adopter la technique des conducteurs-poutres tel que décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique No 3.335.338. Les figures 6 et 7 montrent un transistor 82 comprenant 20 une zone de base 105 de résistivité relativement élevée et une zone d'émetteur 108 de résistivité faible. Des diodes PSB 83 et 84 sont formées dans la base 105. Ainsi qu'il a été mentionné plus haut, la diode 84 est incluse uniquement pour évita* le processus de diffusion séparé qui devrait alors etre prévu . D'une manière plus 25 spécifique, bien qu'il soit désirable d-avoir une connexion ohmi~ que sur la base, une zone de type P à concentration d'impuretés élevée devrait être formée afin d'empêcher la formation d*une dio= de. Afin de réduire à un minimum 1?importance du circuit de la diode 84, on rend la diode 84 plus grande que la diode 83 de telle 30 sorte que la diode 84 ait un courant inverse plus grand et une tension directe plus petite» Les mêmes considérations s'appliquent à la diode 87 par rapport à la diode 86. Les connexions 111 et 112 entre les diodes 87 et 84 et les collecteurs de type N des transistors 82 et 85, respective-35 ment, doivent également être ohmiques. Heureusement, la surface de séparation entre le siliciure de rhodium et les zones d'émet-teur à concentration d'impuretés élevée est virtuellement ohmique. Durant le processus de diffusion de l'émetteur, des zones de type N à cc^ :;3ntration d'impureté élevée ont donc été formées dans la couche épitaxiale 103 afin de procurer des connexions virtuelle C^w/i u 20'16097 ment ohmiqueslH et 112 „ Les diodes de couplage 88 et 91 sont des diodes NSB formées comme décrit précédemment. Les zones de type N71Q6 et 10?, formées dans la zone d'isolation de type P,104, sont utilisées comme trajet de conduc~ 5 tion entre la borne positive de la source de tension et chaque cellule d'emmagasinage. A cette fin, les diodes PSB 83 et 86 sont connectées aux zones de type N,106 et 107 respectivement. On voit que la ligne de mots 94 passe sous les lignes de chiffres 89 et 92 par l'intermédiaire d'une zone 113, de type N et à concentration 10 d'impuretés élevée. Ilest clair que les formes de réalisation spécifiques décrites sont simplement des exemples illustrant les principes de l'invention. Diverses modifications peuvent être conçues sans pour autant s'écarter de l'esprit de l'invention. Par exemple, des métaux dif-15 férents tels que 3a platine, le zirconium et le palladium, et des alliages de métaux peuvent être substitués au rhodium afin de réaliser des diodes à couche d'arrêt de Schottky de qualité élevée> ayant des hauteurs de barrière de potentiel redresseuses différentes de celles que présentent les diodes siliciure de rhodium-sili-20 cium décrites ci-dessus. De plus, il est évident que l'utilisation de diodes PSB comme éléments de circuit à impédance relativement élevée se trouve à l'avant-garde de l'application générale de ces diodes à la technique des circuits intégrés à faible puissance. L'application 25 de ces diodes n'est par conséquent aucunement limitée à la forme de réalisation digitale décrite plus haut. En outre, il est évident que des diodes NSB peuvent être utilisées comme éléments de circuit à impédance élevée dans des circuits ayant des niveaux d'impédance plus élevés que ceux habi~ 30 tuellement disponibles dans des diodes PSB. D'autre part, il est évident que des diodes PSB et/ou des diodes NSB peuvent être utilisées comme éléments de circuit à impédance élevée dans des circuits comportant des transistors à effet de champ. 69 29171 2016097 REVENDICATIONS. 1Circuit à semiconducteurs, caractérisé en ce qu?il comprend au moins une diode à couche d'arrêt de Schottky disposée de telle manière que l'impédance de cette diode serve dvélément 5 d'impédance dans le circuit- 2.- Circuit selon la revendication 1, caractérisé en ce que la diode à couche d'arrêt de Schottky consiste en une couche de siliciure de rhodium contiguë à du silicium. 3.- Circuit selon la revendication 2, caractérisé en ce 10 que le silicium est doué d'une semiconductivité de type P. 4 5.- Circuit selon la revendication 1, caractérisé en ce 15 que la diode comporte une surface de séparation entre le silicium de type P et un siliciure de méta}. 6.- Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'il comprend un transistor et des moyens de polarisation montés de telle sorte que lorsque le transistor est 20 conducteur ou saturé, la diode est polarisée en inverse et le couvrant qui traverse au moins une des électrodes du transistor est le courant inverse de la diode, celle-ci jouant dans le circuit le rôle d'un élément d'impédance. 7.- Circuit à semiconducteurs bistable, caractérisé en 25 ce qu'il comprend un premier moyen de terminaison (V^) pour fournir l'énergie électrique au circuit, une paire de transistors (82, 85) présentant chacun une électrode de commande et une première et une deuxième électrode de sortie, une diode à couche d'arrêt de Schottky séparée (83, 86); connectée entre l'électrode 30 de commande de chaque transistor et ledit premier moyen (V-j ); comprenant une impédance élevée entre elles, des moyens pour coupler la première électrode de sortie de chaque transistor à "l'électrode de commande de l'autre transistor, et des moyens pour connecter les deuxièmes électrodes de sortie des transistors à une deuxième ter-35 minaison commune (94). 8.- Circuit selon la revendication 7, caractérisé en ce que le transistor est du type bipolaire, et en ce que l'électrode de commande est une électrode de base, ladite première électrode de sortie =st une électrode de collecteur et ladite deuxième électrode de sortie est une électrode d'émetteur. V t i 2016097 9.- Circuit selon la revendication 7, caractérisé en ce que la cathode de la diode (83, 86)est connectée audit premier moyen de terminaison et en ce que l'anode est connectée à ladite électrode de commande. 10.- Procédé de fabrication d'une diode à couche dvarrêt de Schottky dans un corps de silicium ayant une surface plane principale, caractérisé en ce qu'il consiste à former dans ledit corps au moins une zone ayant une concentration relativement faible d?accepteurs d*électrons à proximité de ladite surface, à former ■une masque sur ladite surface de telle sorte qu'au moins une partie de la surface de ladite zone soit exposée au travers d'une ouverture pratiquée dans le masque, à procéder à une pulvérisation en retour afin de nettoyer la partie exposée de la surface de ladite zone, à déposer sur le masque et sur ladite ouverture une couche uniforme d'un matériau sélectionné dans le groupe compre= nant les métaux et les alliages de métaux de telle sorte qu'une partie de la couche soit contiguè à ladite partie de la surface de ladite zone, à traiter le corps à une température élevée pen-dant un temps suffisant pour former un siliciure de métal, de ma-nière que soit formée une diode à couche d*arrêt de Schottky dans laquelle le silicium de métal constitue la cathode tandis que le silicium constitue l'anode. 11.- Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que le matériau dont est constituée la couche uniforme est choisi dans le groupe comprenant le rhodium, le platine, le palladium, le zirconium, et les alliages de ces métauxc 12.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que la concentration d'accepteurs d'électrons au voisinage de 17 ladite surface est inférieure à 5 x 10 atomes par centimètre cube environ, ledit métal étant du rhodium et la température élevée étant comprise dans la gamme allant de 450°C à 750°C. 13Diode a couche d'arrêt de Schottky, caractérisée en ce qu'elle comprend une jonction redresseuse constituée de siliciure de rhodium et de silicium de type P.