Brevet FR2027664A1 — publié le 19701002

L'invention concerne un dispositif semiconducteur comportant un corps semiconducteur à la surface duquel s'étend une trace conductrice qui, sur au moins une partie de sa longueur, est fixée à l'aide d'un matériau isolant au corps semiconducteur tout en étant isolée de 5 celui-ci; cette trace conductrice est constituée par deux couches métalliques reliées entre elles localement par interposition d'une troisième couche métallique, le matériau de la troisième couche métallique différant de celui des deux autres couches métalliques et formant avec celles-ci une jonction stable 5 faible résistance ohmique. 10 Comme on le sait, on utilise généralement dans des dispositifs semiconducteurs, pour la formation de contacts, des traces métalliques qui s'étendent sur une couche isolante protectrice, les traces métalliques pouvant être connectées à travers des ouvertures pratiquées dans la couche isolante, à des zones de composants élaborés dans le corps 15 semiconducteur. Dans ce cas, les matériaux constituant les traces métalliques doivent présenter certaines propriétés. C'est ainsi que les contacts entre la trace métallique et le corps semiconducteur ne doivent pas en général être des contacts redresseurs et ils doivent présenter une faible résistance de connexion. D'autre part, la couche isolante 20 doit bien adhérer S la surface du semiconducteur tandis qu'une bonne adhérence entre la trace métallique et la couche isolante est également • indispensable. Par ailleurs, le matériau constituant la trace métallique doit présenter une grande conductibilité tandis que par exemple l'aptitude au décapage et l'adhérence des conducteurs de connexion ainsi que 25 la résistance aux variations de température sont très importantes, du fait des opérations qui doivent être effectuées après l'application de la trace métallique ainsi que pour les températures de fonctionnement du dispositif. En pratique, la multitude des exigences qui doivent être po-30 sées à l'égard du matériau constituant les traces métalliques, dont on a cité quelques-unes ci-dessus à titre d'exemple, a conduit à l'utilisation de traces conductrices dont différentes parties sont constituées par des métaux différents. On connaît par exemple la structure avec laquelle la partie de la trace métallique qui forme contact avec le corps 35 semiconducteur est en aluminium, tandis que les surfaces de contact prévues pour la fixation des conducteurs de connexion, généralement constitués par de l'or, sont, elles aussi, en or. Dans le cas d'une trace métallique conçue de cette façon à l'aide de plusieurs métaux, il faut que la jonction entre lss différents 40 métaux de la trace métallique soit stable et qu'elle présente une fai- 69 45675 2 2027664 ble résistance ohmique» Lorsque les différents métaux d'une telle trace métallique sont directement en contact les uns avec les autres, la stabilité de la jonction laisse en général à désirer. Un exemple connu est la jonc-5 tion entre l'aluminium et l'or, avec laquelle il se forme facilement, à. l'endroit de la jonction, des composés intermétalliques qui nuisent fortement à la qualité de la jonction. Dans "E.E.E. The Magazine of Circuit Design Engeneering" 16, numéro 5» page 36, on a préconisé d'augmenter la stabilité à l'aide 10 d'une couche intermédiaire. La trace métallique est constituée dans ce cas essentiellement par de 1'aluminium qui convient particulièrement S cet effet et il est recouvert, par ailleurs, d'une couche isolante. Des fenêtres sont pratiquées dans la couche isolante à l'endroit des surfa*-ces de contact, de sorte qu'en cet endroit l'aluminium n'est pas re-15 couvert. Dans ces fenêtres, on applique d'abord une couche de titane et ensuite, une couche d'or. Sur ces surfaces de contact en or, on peut facilement fixer des conducteurs de connexion en or, tandis que l'or et 1'aluminium sont séparés l'un de l'autre par l'interposition du titane,de sorte qu'il ne peut pas se former de composés d'or et d'alu-20 minium. L'invention vise à fournir un dispositif semiconducteur comportant une telle trace métallique composée, dans lequel les deux métaux de la trace sont reliés entre eux par interposition d'un troisième métal. Elle repose notamment sur l'idée que la qualité de la con-25 nexion entre le premier et le deuxième métal avec les traces métalliques composées connues n'est pas suffisante pour toutes les applications et que l'on peut y apporter une amélioration en utilisant à. l'endroit de la connexion une séparation horizontale des deux parties de la trace métallique, au lieu d'une séparation verticale» 30 Un dispositif semiconducteur du genre envisagé dans le pré ambule, conforme à l'invention, est remarquable en ce que la projection sur la surface du semiconducteur, de la jonction entre la première et la deuxième couche métallique et celle de la jonction entre la deuxième ' et la troisième couche métallique sont situées l'une à côté de l'autre. 35 De cette façon, on évite que la première et la deuxième couche métallique soient directement en contact l'une avec l'autre par de petits trous dans la troisième couche métallique. On a constaté qu'avec cette séparation horizontale, on pouvait obtenir des jonctions particulièrement stables à résistance ohmique faible. 40 En particulier, l'utilisation de traces métalliques compo 45675 3 2027664 sées est souvent désirable dans le cas de dispositifs semiconducteurs avec lesquels, par exemple, au moins une zone d'un composant, élaborée dans le corps semiconducteur, est connectée, par l'intermédiaire de conducteurs de connexion, à des parties d'une enveloppe. Les parties 5 envisagées de l'enveloppe sont généralement en or ou du moins dorées, tandis que l'or convient moins bien comme matériau pour la trace métallique, notamment du fait qu'il faut un contact ohmique stable avec les zones du semiconducteur. Il est évident que dans ce cas, il est extrêmement important de pouvoir obtenir une jonction stable dans une trace 10 métallique composée, qui puisse être obtenue de façon simple. ïïne forme de réalisation importante du dispositif semiconducteur conforme à l'invention est caractérisée en ce que le corps semiconducteur comporte au moins deux régions appartenant à un composant, à conductions de types opposés, alors qu'au moins une de ces régions est reliée à travers une 15 ouverture pratiquée dans la couche isolante, à la première couche métallique, tandis que la deuxième couche métallique est munie d'un conducteur de connexion. Le préférence, la surface de la jonction entre la deuxième et la troisième couche métallique est petite par rapport à la surface tota-20 le de la deuxième couche métallique0 L'autre part, l'invention peut avantageusement être utilisée avec des dispositifs semiconducteurs comportant une trace métallique élaborée en plusieurs couches superposées comme c'est le cas pour des circuits intégrés qui comportent un grand nombre de composants. 25 ïïne autre forme de réalisation importante du dispositif semi conducteur conforme à l'invention est caractérisée en ce que la surface du corps semiconducteur est munie de plusieurs couches de matériau isolant, alors que la deuxième couche métallique s'étend pratiquement en. tièrement sur la surface libre de la couche isolante supérieure et est 30 reliée à travers au moins une ouverture pratiquée dans cette couche isolante supérieure à la première couche métallique qui s'étend pratiquement entièrement entre deux des couches isolantes» Le cette façon, le matériau de la partie de la trace métallique qui se trouve sur la couche supérieure peut être choisi compte 35 tenu des connexions nécessaires avec des parties d'une enveloppe ou avec des parties d'autres dispositifs semiconducteurs, ce qui est surtout important parce que le nombre de connexions avec des dispositifs semiconducteurs de ce genre peut être très élevé de sorte qu'il faut poser des exigences très sévères au sujet de la fiabilité de ces con_ 40 nexions. Le métal de la deuxième couche métallique peut être adapté aux 69 45675 4 2027664 techniques utilisées pour la formation des connexions alors que par exemple on peut utiliser des parties renforcées, généralement par voie galvanique, s'étendant transversalement sur la surface du semiconducteur au-dessus du matériau isolant» 5 Dans une autre forme de réalisation du dispositif semiconduc teur conforme à l'invention, la trace métallique comporte au moins une partie appartenant à la deuxième couche métallique, qui est plus épaisse que la première couche métallique et qui, en direction latérale, s'étend pratiquement parallèlement à la surface du semiconducteur, 10 jusqu'à l'extérieur du corps semiconducteur. De telles parties plus épaisses permettent notamment d'élaborer simultanément lés connexions nécessaires, précitées, pendant une seule opération, ce qui est très important du point de vue de la technique de fabrication. 15 ^e préférence, la jonction entre la première et la deuxième couche métallique et celle entre la deuxième et la troisième couche métallique se trouvent du moins en majeure partie du même côté de la troisième couche métallique, tandis que l'on peut obtenir en particulier, de façon simple, des jonctions stables, au cas où les deux jonc-20 tions se trouvent, du moins en majeure partie, du côté de la troisième couche métallique, située à l'opposé du corps semiconducteur, alors que la troisième couche métallique s'étend entièrement sur une couche isolante située entre la surface du semiconducteur et la couche isolante supérieure. 25 Comme métaux pour les différentes couches métalliques on peut utiliser pratiquement aussi bien des métaux purs que des alliages. Pour la première couche métallique, l'aluminium s'avère particulièrement approprié, tandis que pour la deuxième couche métallique, on peut notamment utiliser du cuivre et en particulier de l'or. 30 Comme matériau pour la troisième couche métallique qui est, de préférence, pratiquement imperméable pour les matériaux de la première et de.la deuxième couche métallique, on peut utiliser notamment du molybdène, du platine, du nickel, du tungstène et du rhodium. Il faut remarquer que les propriétés du contact entre les 35 zones de semiconducteur et la première couche métallique peuvent être améliorées, en utilisant une concentration superficielle choisie judicieusement dans les zones de semiconducteur à munir de contact, cette concentration pouvant être obtenue au besoin à l'aide d'une opération de diffusion additionnelle. On peut également améliorer ce contact en 40 utilisant des matériaux spéciaux comme le siliciure de cobalt et le 45675 5 2027664 siliciure de platine dans des fenêtres de contact. L'adhérence entre une ou plusieurs des couches métalliques et le matériau isolant adjacent peut être améliorée, au "besoin, à l'aide de minces couches adhésives. Pour ces couches adhésives on peut 5 utiliser outre par exemple l'aluminium et le siliciure de platine, en particulier, le titane, le chrome, le molybdène, le niobium, le cobalt et le nickel. La description qui va suivre en regard du dessin annexé, le tout donné à titre d'exemple non limitatif, fera bien comprendre comment 10 l'invention peut être réalisée. La fig. 1 est une coupe schématique d'un premier exemple de réalisation du dispositif semiconducteur conforme à l'invention. La fig. 2 est une coupe schématique d'une partie d'une deuxième forme de réalisation du dispositif semiconducteur conforme à l'in-15 vention. La fig. 3 est une coupe schématique d'une partie d'une troisième forme de réalisation du dispositif semiconducteur conforme à l'invention. Comme premier exemple de réalisation d'un dispositif semi-20 conducteur conforme à l'invention on va décrire un transistor. Ce transistor comporte un corps semiconducteur (1) (voir fig. 1) formé par un substrat (2) sur lequel est appliquée une couche épitaxiale (3) du même type de conduction que le substrat et présentant une résistivité plus élevée. Le substrat (2) et la couche (3) forment ensemble le collec-25 teur du transistor alors que dans la couche (3) est élaborée une zone de base diffusée (4) et une zone d'émetteur diffusée (5)« A la. surface (6) du corps semiconducteur (1) s'étend une trace métallique (7)> (8) qni, sur la plus grande partie de sa longueur, est fixée avec du matériau isolant (9)» au corps semiconducteur (1) et 30 est isolée de celui-ci. La trace métallique comporte deux parties (7) et (8) qui servent, à travers des fenêtres pratiquées dans le matériau isolant (9), à, la connexion respective de la zone de base (4) et de la zone d'émetteur (5)« Chacune de ces parties présente une première et une deuxième couche métallique désignées respectivement par (7a), (8a) 35 et par (7*0, (8b) et qui, localement, sont reliées entre elles par interposition d'une troisième couche métallique (7c)» (8c), alors que le métal de la troisième couche métallique est différent de celui de la première et de celui de la deuxième couche métallique et qu'il forme avec ces deux couches une jonction stable à faible résistance ohmique. 40 Selon l'invention, la projection sur la surface du semicon- 69 45675 6 2027664 ducteur (6) de la jonction entre la première couche métallique (7a.) f (8a) et la troisième couche métallique (7c), (8c) et celle de la jonction entre la deuxième couche métallique (7b), (8b) et la troisième couche métallique (7c), (8c) sont situées l'une à côté de l'autre. 5 De cette façon, on obtient une séparation horizontale entre la première et la deuxième couahs métallique, de sorte que le métal de la deuxième couche métallique (7b), (8b) n'est pas en contact avec le métal de la première couche métallique (7a), (8a) par de petits trous pratiqués dans la troisième couche métallique (7c), (8c) et que 10 l'on obtient ainsi une des jonctions particulièrement stables k faible résistance ohmique. La jonction entre la première couche métallique (7a), (8a) et la troisième (7c), (8c) et celle entre la deuxième (7b), (8b) et la troisième (7c), (8c) se trouvent, du moins en jjajeure partie, du même coté de la troisième couche métallique (7c), (8c). 15 La deuxième couche métallique forme des surfaces de contact (7b) et (8b) auxquelles peuvent être fixés des conducteurs de connexion (10) et (11) par exemple en or, pour la connexion de la base et de l'é# metteur du transistor, par exemple, à des broches dorées d'une enveloppe usuelle. Le collecteur peut être muni de contacts par l'intermé-20 diaire du substrat (2). Le transistor représenté sur la fig. 1 peut être réalisé entièrement de façon connue dans la technique des semiconducteurs. Après l'élaboration de la zone de base et de la zone d'émetteur^ on peut appliquer sur la couche isolante (9) lui est alors fermée, par exemple, 25 une couche de tungstène et ensuite, une couche d'or, par exemple par évaporations successives dans un même vide. A l'aide des techniques de photodécapage usuelles, ces couches peuvent être décapées suivant une configuration déterminée, en vue de former la deuxième couche métallique (7b), (8b) en or et la troisième couche métallique (7c), (8c) en-30 tungstène. Enfin, k l'endroit de la zone d'émetteur et de la zone de base on peut pratiquer des fenêtres dans la couche isolante, après quoi la première couche métallique, par exemple en aluminium, peut être appliquée et décapée de façon k former les parties (7a) et (8a) de la trace métallique. 35 Le transistor peut ensuite être monté dans une enveloppe usuelle, les conducteurs de connexion (10) et (11) pouvant alors être fixés à la deuxième couche métallique (7b), (8b). Dans le deuxième exemple de réalisation (fig. 2) la trace métallique qui est fixée par l'intermédiaire de la couche isolante (21) 40 au corps semiconducteur (20), présente une première couche métallique 69 45675 7 2027664 (22), reliée par interposition d'une troisième couche métallique (24), à une deuxième couche métallique (25). D'autre part, la première couche métallique (22) et une partie de la troisième couche métallique (24) sont recouvertes par une deuxième couche isolante (26). La deuxième 5 couche métallique s'étend entièrement à la surface libre de la couche isolante supérieure (26) et est reliée, à travers une ouverture (27) pratiquée dans cette couche, à la première couche métallique qui s'étend pratiquement entièrement entre les deux couches isolantes (21) et (26). La couche isolante (21) est constituée par exemple par du 10 bioxyde de silicium thermique ou un autre isolant approprié. Sur cette couche on peut par exemple élaborer une première couche métallique (22), en aluminium, et cette couche peut être décapée suivant une configuration déterminée, après quoi le dispositif peut être muni d'une troisième couche métallique, en nickel. D'autre part, il peut s'avérer nécessaire, 15 pour l'obtention d'une bonne jonction à faible résistance ohmique entre l'aluminium et le nickel, d'effectuer une opération postérieure à température légèrement plus élevée et/ou d'appliquer une mince couche, par exemple, de titane, d'aluminium ou de chrome, entre l'aluminium et le nickel, pour réduire la pellicule d'oxyde qui se trouve habituellement 20 sur l'aluminium. Ensuite, l'ensemble peut être couvert par la deuxième couche isolante (26) par exemple à l'aide de bioxyde de silicium déposé à partir de la phase gazeuse. Dans cette couche on peut pratiquer une fenêtre (27) située au-dessus du nickel, après quoi une couche (28) par exemple 25 également en nickel peut être déposée à partir de la phase gazeuse. Cette couche peut être renforcée localement, à l'aide d'un masque constitué par une couche de vernis photosensible, par voie galvanique, alors qu'une deuxième couche métallique (25) est appliquée, par exemple une couche de cuivre. La couche de nickel (28) peut par exemple être 30 utilisée lors de renforcement galvanique comme électrode et elle est ensuite décapée suivant la configuration requise. D'autre part on peut améliorer l'adhérence de la couche de cuivre à la couche isolante (26) en utilisant une couche de nickel (28). Les parties renforcées situées au-dessus de la couche isolan-35 te (26) permettent d'appliquer le dispositif sur un substrat iéolant, muni de traces métalliques, alors que la surface (29) du corps semiconducteur, munie de matériau isolant, est dirigée vers ce substrat. Les parties (25) peuvent être étamées et soudées de façon usuelle. Il faut remarquer que la deuxième couche métallique renforcée 40 (25), bien que celle-ci soit appliquée dans le cas envisagé à l'endroit 69 45675 8 2027664 de la fenêtre (27), peut également s'étendre plus loin sur la couche isolante (26), auquel cas la couche (25) ne présente de préférence que des renforcements locaux pour le montage du dispositif» lin troisième exemple de réalisation dont une partie est repré-5 sentée sur la fig. 3 comporte un corps semiconducteur (30) avec une couche isolante (31) sur laquelle est appliquée une première couche métallique (32), par exemple, une couche d'aluminium. La partie (32) de lg. trace métallique (32) à (34) sert pour le contact et éventuellement la liaison de zones de semiconducteur de composants élaborés dans 10 le corps semiconducteur (30); on n'a représenté par souci de clarté qu'une seule zone, en l'occurence la zone (35). La couche métallique (32) touche une troisième couche métallique (33)/forme une jonction avec celle-ci; cette jonction peut avoir des dimensions relativement petites. 15 Les couches métalliques (32) et (33) sont recouvertes d'une deuxième couche isolante (36) dans laquelle est pratiquée une fenêtre, à l'endroit de la couche métallique (35)» ôLe sorte que la deuxième couche métallique (34)» qui s'étend pratiquement entièrement sur la surface libre, est reliée à la troisième couche métallique (33)• 20 Les deux jonctions entre la première et la deuxième couche métallique d'une part et la troisième couche métallique d'autre part se trouvent du moins en majeure partie du côté situé à l'opposé du corps semiconducteur (30), de lg. troisième couche métallique (33)» cette couche (33) s'étendant entièrement sur la couche isolante (31) qui s'étend 25 entre la surface de semiconducteur (37) et la couche isolante supérieure (36). De cette façon on peut mettre à profit le fait que la troisième couche métallique (33) a généralement moins tendance à former une pellicule d'oxyde que la première couche métallique (32). Si l'on applique dans ce cas d'abord la troisième couche métallique et ensuite la première 30 couche métallique, il ne se présentera pratiquement pas d'oxyde à la jonction entre ces couches de sorte que la formation d'une jonction à faible résistance ohmique est facilitée. D'autre part, la surface de la jonction entre la deuxième couche métallique (34a, b) et la troisième couche (33) est petite par 35 rapport à la surface totale de la deuxième couche métallique, tandis que la deuxième couche métallique (34) est plus épaisse, du moins localement, à savoir en (34b), que la première couche métallique (32) et en direction latérale elle s'étend jusqu'à l'extérieur du corps semiconducteur (30). 40 Pour les couches métalliques on peut utiliser aussi bien des 69 45675 9 2027664 métaux pratiquement purs, que des alliages. Dans l'exemple de réalisation envisagé la première couche métallique est constituée pratiquement entièrement par de l'aluminium et a, par exemple, 1^u d'épaisseur, la deuxième couche métallique est constituée pratiquement entièrement, par 5 exemple, par de l'or, tandis qu'au moins les parties saillantes renforcées (34b) ont environ 10^u d'épaisseur. Pour autant que la deuxième couche métallique ne soit pas renforcée, comme c'est le cas pour la partie (34a), et par exemple, pour la liaison mutuelle des composants, son épaisseur est d'environ 1 pi. 10 La troisième couche métallique qui ne laisse pratiquement pas passer les matériaux de la première et de la deuxième couche métallique est constituée, de préférence, par un des métaux suivants: platine, nickel, tungstène et rhodium ou, comme dans l'exemple de réalisation envisagé, par du molybdène. Son épaisseur s'élève par exemple à 15 environ 0,4^u et les dimensions latérales sont, par exemple, environ 35/u x 35^u. Pour améliorer le contact ohmique entre la première couche métallique (32) et la zone du semiconducteur (35) on peut utiliser, dans la fenêtre (38), des matériaux tels que le siliciure de platine, le 20 siliciure de palladium, le siliciure de cobalt qui, par exemple après alliage, forment un contact très stable et h. faible résistance ohmique. On peut également effectuer une diffusion de contact. L'adhérence entre les couches métalliques et le matériau isolant peut être au besoin améliorée à l'aide d'une mince couche de pré-25 férence en titane, en chrome, en molybdène, en niobium, en cobalt ou en nickel. Dans l'exemple de réalisation envisagé on utilise par exemple entre la couche d'or (34a, b) et la couche isolante (36), une mince couche (39) cLe titane d'une épaisseur d'environ 0,05^u. L'exemple de réalisation dédrit ci-dessus peut être réalisé 30 entièrement suivant des méthodes usuelles dans la technique des semiconducteurs. La couche d'aluminium (32) peut par exemple être réalisée par dépôt à partir de la phase gazeuse ou par volatilisation ionique, après quoi on peut enlever l'aluminium en excès à l'aide de techniques de photodécapage usuelles. La couche de molybdène (33) peut être réa-35 lisée de façon analogue, par exemple à l'aide de la volatilisation ionique. La couche de titane (39) peut être déposée à partir de la phase gazeuse et la couche d'or (34) peut par exemple être déposée à partir de la phase gazeuse et/ou par voie galvanique. La deuxième couche isolante (36) peut par exemple être appliquée par volatilisation ionique, 40 son épaisseur se situant, de préférence, entre 1 et 2^u. 69 45675 10 2027664 Ensuite on peut enlever de façon usuelle le matériau semiconducteur situé en-dessous des parties saillantes (34b), alors que par exemple un grand nombre de dispositifs élaborés simultanément dans une même plaquette de semiconducteur, peuvent être séparés par division de 5 cette plaquette» Il est évident que l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation décrits ci-dessus, mais que le spécialiste pourra imaginer de nombreuses variantes sans sortir du cadre de l'invention. C'est ainsi que le ctorps semiconducteur, qui est généralement constitué par 10 du silicium, mais qui peut également être en germanium ou en un composé peut contenir outre des transistors bipolaires, d'autres composants tels que des transistors à effet de champ, des diodes, des résistances et des condensateurs. D'autre part, l'invention concerne à la fois des composants simples et des dispositifs plus complexes, tels que 15 des circuits intégrés. En particulier, les deux derniers exemples de réalisation peuvent être appliqués aussi bien à des dispositifs avec lesquels la trace métallique se situe du moins essentiellement à un niveau, le niveau de la première couche métallique qu'à des dispositifs avec lesquels la trace conductrice est répartie sur au moins deux ni-20 veaux en rapport avec la complexité et le nombre des composants. Grâce à la présence dà la deuxième couche isolante (26), (36) il existe par exemple déjà un deuxième niveau pour la trace métallique, alors que la trace métallique sur ce deuxième niveau ou le niveau supérieur peut être constituée entièrement ou partiellement par le même matériau 25 que la deuxième couche métallique. Comme matériau isolant on peut utiliser, outre le bioxyde de silicium, par exemple également du nitrure de silicium, de l'oxyde d'aluminium ou des combinaisons de matériaux isolants, alors que dans le dernier cas, la trace métallique peut être par exemple partielle-30 ment oxydée. 69 45675 n 2027664 REVENDICATIONS : 1. Dispositif semiconducteur comportant un corps semicon ducteur à la surface duquel s'étend une trace conductrice qui, sur au moins line partie de sa longueur, est fixée à l'aide d'un 5 matériau isolant au corps semiconducteur tout en étant isolée de celui-ci; cette trace conductrice est constituée par deux couches métalliques reliées entre elles localement par interposition d'une troisième couche métallique,, le matériau de la troisième couche métallique différent de celui des deux autres couches métalliques 10 et formant avec celles-ci une jonction stable à faible résistance ohmique, caractérisé en ce que la projection sur la surface du semiconducteur, de la jonction entre la première et la deuxième couche métallique et celle de la jonction entre la deuxième et la troisième couche métallique sont situées l'une à côté de l'autre. 15 2. Dispositif semiconducteur selon la revendication 1, ca ractérisé en ce que le corps semiconducteur comporte au moins deux régions appartenant à un composant, à conductions de types opposés, alors qu'au moins une de ces régions est reliée à travers une ouverture pratiquée dans la couche isolante, à la pre-20 mière couche métallique, tandis que la deuxième couche métallique est munie d'un conducteur de connexion. 3. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la surface du corps semiconducteur est munie de plusieurs couches de matériau isolant, alors que la 25 deuxième couche métallique s'étend pratiquement entièrement sur la surface libre de la couche isolante supérieure et est reliée à travers au moins une ouverture pratiquée dans cette couche isolante supérieure à la première couche métallique qui s'étend pratiquement entièrement entre deux des couches isolantes. 30 4. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la surface de la jonction entre la deuxième et la troisième couche métallique est petite par rapport à la surface totale de cette deuxième couche. 5. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 35 1 à 4, caractérisé en ce que la jonction en-tre la première et la deuxième couche métallique et celle entre la deuxième et la troisième couche métallique se trouvent du moins en majeure partie du même côté de la troisième couche métallique. 6. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 40 1 à 5, caractérisé en ce que les deux jonctions se trouvent, du 69 45675 12 2027664 moins en majeure partie, du côté de la troisième couche métallique, situé à l'opposé du corps semiconducteur, alors que la troisième couche métallique s'étend entièrement sur une couche isolante située entre la surface du semiconducteur et la couche 5 isolante supérieure. 7. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la trace métallique comporte au moins une partie appartenant à la deuxième couche métallique, qui est plus épaisse que la première couche métallique et qui, 10 en direction latérale, s'étend pratiquement parallèlement à la surface du semiconducteur, jusqu'à l'extérieur du corps semiconducteur. 8. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 à 7» caractérisé en ce que la première couche métallique est 15 presque entièrement en aluminium. 9. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que la deuxième couche métallique est presque entièrement en or. 10. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 20 1 à 9, caractérisé en ce que la troisième couche métallique est presque entièrement en un métal du groupe renfermant le molybdène, le platine, le nickel, le tungstène et le rhodium. 11. Dispositif semiconducteur selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce qu'entre au moins une des couches mé- 25 talliques et le matériau isolant se trouve une mince couche d'un matériau, du groupe renfermant le titane, le chrome, le molybdène, le niobium, le cobalt et le nickel.