Brevet FR2045797A1 — publié le 19710305

la présente invention concerne généralement et a essentiellement pour objet un dispositif formant thyristor ou analogue et plus particulièrement une structure d'émetteur pour celui-ci ainsi que les diverses applications et utilisations résultant de 5 sa mise en oeuvre et les systèmes, ensembles, appareils, circuits, équipements et installations pourvus de tels dispositifs. Dans le passé, des thyristors largement employés ont été du type à configuration dite à émetteur en court-circuit dais laquelle la jonction ou les jonctions d'émetteur est ou sont 10 partiellement court-circuitées.La configuration à émetteur court-circuité de thyristors est avantageuse en ce que le nombre d'électrons injectés est empêché d'augmenter en raison d'un accroissement de température du thyristor dans son état bloqué dans le sens direct ou de conduction et d'une augmentation du taux • 15 d'élévation (dv/dt) de la tension électrique directe appliquée et en ce qu'une diminution de la tension électrique d'arrêt ou de blocage, due à un accroissement de température et à une réduction de l'aptitude à bloquer la tension électrique due à une valeur élevée de (dv/dt) sont empêchées alors que lè temps 20 d'arrêt ou de coupure peut diminuer. Elle est cependant désavantageuse en ce que l'aire ou surface de la jonction de la région de l'émetteur cathodique diminue pour accroître la densité de courant électrique s'écoulant à travers le thyristor pendant que la région amorcée est empêchée de s'étaler ou de se disperser 25 latéralement pour permettre 1'échauffement local pour un taux d'accroissement élevé (di/dt) du courant électrique formé jusqu'à ce que le thyristor soit endommagé et ainsi.de suite. Par conséquent, c'est un but de l'invention de créer un nouveau thyristor perfectionné sensiblement exempt des inconvénients 50 des thyristors du type à émetteur court-circuité de construction classique tels que décrits ci-dessus mais conservant cependant les avantages de ceux-ci, tels qu'ils ont été décrits ci-dessus. L'invention réalise cet objectif par la création d'un dispositif formant thyristor comprenant une pastille ou plaquette 55 de matière semiconductrice comportant quatre couches semiconductrices de conductivité alternée, une jonction P-U formée entre la plus externe des quatre couches semiconductrices créant une région 70 20049 2 2045797 d'émetteur ou émettrice et la couche adjacente créant une région. formant base, et une électrode de commande disposée dans la région formant base pour contrôler ou régler la caractéristique intensité de courant-tension électrique du dispositif à thyristor, 5 lequel est caractérisé en ce que la jonction P-N comprend partiellement au moins une jonction à effet de tunnel ou au moins une jonction P-N ayant une concentration en impuretés d'au moins 18 \ 5x10 atomes par centimètre cube de matière semiconductrice, de chaque côté de celle-ci. 10 la région formant base peut avoir de préférence une concentra tion d'impuretés réduite avec un accroissement de la distance à la région émettrice adjacente à celle-ci. Plusieurs jonctions à effet de tunnel ou les jonctions P-N mentionnées en dernier lieu peuvent être avantageusement réparties 15 uniformément en étant espacées sur l'interface des régions formant respectivement émetteur et base. l'invention sera mieux comprise et d'autres buts, caractéristiques, détails et avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement à la lecture de la description explicative qui va 20 suivre, en se reportant au dessin schématique annexé, donné uniquement à titre d'exemple illustrant un mode de réalisation de l'invention et dans lequel: - la figure 1 représente une vue en coupe d'un thyristor typiquement construit conformément aux principes de la technique 25 antérieure ; - les figures 2A et B sont respectivement une vue en coupe et une vue en plan d'un thyristor construit conformément aux principes de l'invention; et - la figure 3 est un diagramme représentant graphiquement 30 la caractéristique de variationcte l'intensité de courant en fonction de la tension électrique du dispositif représenté sur les figures ' 2A et B. En se reportant maintenant à la figure 1, il y est représenté un thyristor du type à émetteur court-circuité, employé antérieure-35 ment. Une pastille ou plaquette de matière semiconductrice, telle que du silicium,désignéed'une façon générale par le chiffre de référence 10, comprend 'une couche intermédiaire 12 possédant une 70 20049 3 2045797 haute résistivité et une conductivité, par exemple une conductivité du type ÎT, et une couche extérieur 14 de conductivité opposée, soit dans cet exemple une conductivité du type P, disposée sur une face ou la face inférieure ,telle que vue sur la figure 1, 5 de la couche intermédiaire 12, une autre couche extérieure 16 de conductivité opposée ou de conductivité du type P, disposée sur l'autre face ou face supérieure de la couche intermédiaire 12 et plusieurs couches extérieures extrêmes 18 de conductivité du type H, disposées dans la couche 16 sur des portions préalablement 10 choisies pour former une structure à quatre couches de conductivité alternée. Les couches 12 et 16 forment des régions de base tandis que les couches 14 et 18 constituent des. régions d'émetteur ou émettrice. Entre la région de base 12 du type ET et la région émettrice 14 du type P, entre la région de base 12 du type N 15 et la région émettrice 16 du type P et entre la région de base 16 du type P et les régions émettrices 18 du type H" sont réalisées respectivement une.jonction 20 d'émetteur anodique, une jonction 22 de blocage, dans le sens direct ou de conduction et des jonctions d'émetteur cathodique 24. 20 Une électrode 26 formant anode est disposée en contact ohmique avec la surface exposée de la région émettrice 14 du type P et une électrode 28 formant cathode est disposée en contact ohmique avec toutes les régions émettrices 18 du type. N et celles des portions qui sont placées en sandwich entre la région de 25 base 16 du type P pour court-circuiter entre elles les extrémités des jonctions 24 du type P-ÎT exposées à la surface de la pastille 10. Une électrode de porte ou de déclenchement 30 est fixée à la région de base 16 du type P en un emplacement écarté de l'électrode 28 formant cathode. 30 En cours de fonctionnement, un courant électrique de charge peut s'écouler à travers les électrodes 26 et 28 formant respectivement anode et cathode tandis qu'un courant de commande ou de déclenchement peut être appliqué à 1'électrode de porte 30 pour contrôler ou régler le courant de charge. L'agencement représenté 35 constitue typiquement un commutateur unidirectionnel à trois bornes. Comme cela a été indiqué ci-dessus, les extrémités des jonctions 70 20049 4 2045797 d'émetteur cathodique sont court-circuitées entre elles par l'électrode formant cathode principalement pour les raisons suivantes: si la température du thyristor dans son état bloqué dans le sens direct ou de conduction augmente, un courant de fuite 5 le traversant croîtra en intensité. De même, une augmentation du taux d'accroissement (dv/dt) d'une tension électrique directe appliquée au thyristor est accompagnée d'un accroissement de l'intensité du courant variable. Les portions court-circuitées de l'émetteur cathodique permettent auc courants, ainsi accrus 10 en intensité, de le traverser avec pour résultat que le nombre d'électrons injectés est empêché d'augmenter. En outre, un courant de récupération, se produisant lors de la mise hors circuit du thyristor, peut s'écouler directement de la région de base 16 du type P à 1'électrode.28 formant cathode. Ceci empêche 15 à la fois une diminution de la tension de blocage ou d'arrêt due à un accroissement de température et une réductior/de l'aptitude à bloquer la tension électrique tandis que le temps de mise hors circuit diminue. Cependant, pour la structure à émetteur court-circuite, 20 ls. jonction P-N de celle—ci diminue en surface de la jonction d'émetteur cathodique en se traduisant par un accroissement indésirable de la densité du courant traversant le thyristor. De même, la présence des portions court-circuitées empêche la région amorcée de s'étaler latéralement, ce qui provoque à 25 son tour un échauffement local du thyristor pour un taux d'accroissement élevé (di/dt) de l'intensité du.courant de- conduction direct jusqu'à ce que le thyristor soit endommagé. L'invention envisage de créer un nouveau thyristor perfectionné sensiblement exempt des inconvénients des thyristors du type 50 àémetteur court-circuité tels que décrits ci-dessus mais conservant toujours cependant les avantages de ceux-ci tels que-décrits ci-dessus. En se reportant maintenant aux figures 2A et B, sur lesquelles les mêmes chiffres de référence désignent les composants identiques 55 à ceux représentés sur la figure 1, un mode de réalisation de l'invention y est représenté. En comparant la.figure 2A à la figure 1, on peut voir que l'agencement selon la figure 2A est 70 20049 5 2045797 semblable en construction à celui représenté sur la figure 1 à l'exception de la structure de la jonction d'émetteur cathodique 24. En se reportant aux concentrations d'impuretés introduites par dopage dans la pastille ou plaquette 10 de matière semi-5 conductrice telle que le silicium, la couche intermédiaire ou région de base 12 du type ÎT possède une concentration d'impuretés 1 *Z du type ÏT d'environ 5 x 10 atomes par centimètre cube de matière semiconductrice et la couche extérieure ou région d'émetteur 14 du type P possède une concentration d'impuretés du type P 10 variant jusqu'à atteindre environ 10^atomes par "centimètre cube, avec un accroissement de la distancé à la région de base 12 du type N, tandis que la couche extérieure de la région de base 16 du type P possède une concentration d'impuretés du type P variant 17 jusqu'à atteindre environ 10 atomes par centimètre cube lorsque- 15 la distance à la région de base 12 du type ÎT augmente. En d'autres mots, la région d'émetteur 14 du type P possède une 19 concentration superficielle d'environ 10 atomes d'impureté du type"P par centimètre cube et la région de base 16 du type P 17 a une concentration superficielle d'environ 10 atomes d'impureté 20 clu "bype N Par centimètre cube. D'une façon similaire, les régions d'émetteur 18 du type ÎT possèdent une concentration d'impureté 21 du type If variant jusqu'à environ 5x10 atomes par centimètre cube avec un accroissement de la distance à la région de base 16 du type P. Ceci signifie que la région 16 possède une concen- 21 25 tration superficielle d'environ 5x10. atomes d'impureté du type P par centimètre cube. La jonction d'émetteur anodique 20, constituée entre la région de base 12 du type ÏT et la région d'émetteur 14 du type P et la jonction de blocage dans le ^ns direct ou de conduction 30 22 réalisée entre la région de base/du type E" et la région de base 16 du type P présentent une tension disruptive ou de claquage élevée par effet d'avalanche et les jonctions P-N, réalisées entre la région de base 16 du type P et les régions d'émetteur 18 du type ÏT peuvent résister à une tension inverse ou d'arrêt de 35 l'ordre de quelque volts à une douzaine de volts. Comme cela est représenté au mieux sur la figure 2k, plusieurs régions dégénérées 32 du type P sont disposées en étant espacées 70 20049 0 2045797 les unes des autres entre la région de base 16 du type P et la région d'émetteur 18 du type ÎT pour^former des jonctions tunnel 34 du type P-U présentant l'effet tunnel entre la région d'émetteur 18 du type M" et les régions dégénérées 32 du type P. La région 5 dégénérée 32 possède de préférence une concentration d'impuretés 18 du type P d'environ 5 x 10 atomes par centimètre cube ou davantage. La figure 2B représente une coupe transversale effectuée dans un plan horizontal passant juste en dessous des jonctions tunnel 32 telles que vues sur la figure 2A>quoique la ligne droite, 10 indiquant un tel plan, ne soit pas représentée sur la figure 2A. Sur la figure 2B, la région d'émetteur cathodique 18 est représentée comme étant sous la forme d'un anneau circulaire et les régions dégénérées 32 sont représentées comme étant circulaires en section transversale et uniformément réparties 15 autour du centre de l'anneau. L'électrode 28 formant cathode, sous la forme d'un anneau circulaire, est disposée en contact ohmique avec la région d'émetteur cathodique annulaire 18 et l'électrode de porte ou de déclenchement 30 est disposée en contact ohmique avec la région 20 de base 16 du type P en son centre plutôt que sur sa portion périphérique dans l'agencement selon la figure 1 et entourée par l'électrode 28 formant cathode. D'autre part, l'électrode 26 formant anode est disposée en contact ohmique avec la région d'émetteur 14 du type P comme dans l'agencement selon la figure 1. 25 A titre d'exemple, des thyristors, tels que représentés sur . les figures 2A et B, ont été fabriqués de la manière suivante. Une pastille ou plaquette de silicium du type ÏT, ayant une 13 concentration d'impureté de 5 x 10 atomes par centimètre cube, fut préparée dans un disque ayant un diamètre d'environ 25 -mm 30 et "une épaisseur de 0,500 mm. La pastille fut chauffée dans une atmosphère d'hydrogène contenant du gallium gazeux à 1250°C pendant environ 80 heures pour former des couches du type P telles que les régions 14 et 16 du type P sur les faces opposées de celle-ci. Les couches présentaient une quantité d'impureté 1 7 35 superficielle d'environ 10 atomes de gallium par centimètre cube et une profondeur d'environ 80 microns. Un revêtement de dioxide de silicium ou silice fût.ensuite 70 20049 7 2045797 réalisé sur les deux faces de la pastille par oxydation thermique et le revêtement sur -une face de la pastille fut éliminé par attaque ou gravure chimique pour égaliser un dessin ou mie configuration prédéterminé de la manière bien connue dans le 5 but de former les régions dégénérées 32 tandis que le revêtement entier sur la face opposée de celle-ci fut similairement gravée ou attaquée. La pastille ainsi traitée fut chauffée dans une atmosphère d'azote contenant du bore jusqu'à 1200°C pendant environ 15 *10 minutes pour former des régions de diffusion discrète fortement dopées avec l'impureté du type P ou le bore sur une face de la pastille. Ainsi les régions de diffusion dégénérées du type P 20 furent formées avec "une concentration supeificielle de 1 à 5 x 10 atomes par centimètre cube et une profondeur de 5 à 10 microns. 15 Le revêtement ou masque fut éliminé avec de l'acide fluor^ydrique et une région dégénérée du type N fut formée sur cette face de la pastille pourvue des régions dégénérées du type H par le processus de croissance épitaxiale. A cet effet, la pastille pouvait être introduite dans un four de réaction alimenté en hydrogène gazeux, 20 en tétrachlorure de silicium et avec un agent dopant du type U tel que la phosphine (PH^) et soumise à la croissance en phase gazeuse à une température de 1150° à 1200°C pendant environ 20 minutes. De cette manière fut formée une région dégénérée du type H telle que celle représentée en 18 sur la figure 2A, ayant 25 une épaisseur d'environ 20 microns et une concentration d'impureté ^20 uniforme de 1 à 5 x 10 atomes de phosphore par centimètre cube. Une région semblable fut également formée sur la face opposée de la pastille. Ensuite la portion centrale de la région du type U ainsi 30 formée fut éliminée par drtaque chimique en utilisant un mélange d'acides respectivement nitrique et fluorhydrijoe pour former un orifice s'étendant ou pénétrant dans région du type P telle que représentée en 16 sur la figure 2A afin d'y disposer une électrode de porte ou de déclenchement périodique. 35 Des électrodes formant respectivement anode, cathode et électrode de déclenchement ou de porte furent ensuite disposées sur la pastille de la manière bien connue. 70 20049 2045797 Le thyristor aini réalisé est quelque peu différent de celui représenté sur les figures 2A et B en ce que, dans le premier thyristor, la région d'émetteur cathodique s'étend parallèlement à une face de la pastille et l'électrode de porte ou de 5 déclenchement est disposée dans l'orifice central formé dans cette région et sur la région de base avec la région dégénérée du type H disposée sur l'autre face de la pastille. De même, les jonctions tunnel 34 sont sensiblement alignées ou en affleurement avec la jonction 24 du type P-N. 10 Le fonctionnement et les effets de l'invention seront maintenant décrits. On se rendra compte facilement que le fonctionnement de l'invention est semblable à celui des thyristors du type appartenant à la technique antérieure tels que représentés sur la figure 1. L'invention est caractérisée en ce que la jonction 15 d'émetteur cathodique comprend partiellement les jonctions tunnel présentant la caractéristique intensité de courant- tension électrique bien connue telle que représentée sur la figure 3, sur laquelle l'axe des abscisses représente une tension électrique appliquée à la jonction tunnel et l'axe des ordonnées représente 20 une intensité de courant la traversant. Pour une polarisation inverse, la jonction d'émetteur cathodique 24 est rompue ou coupée en raison de l'effet tunnel (voir portion de courbe a sur la figure 3)• Ceci signifie que la jonction est mise dans un état court-circuité. Ceci amène le 25 présent thyristor à ressembler en fonctionnement aux thyristors du type à émetteur court-circuité, ce qui à son tour contribue à diminuer le temps de mise hors circuit. D'autre part, si la jonction d'émetteur cathodique est polarisée dans le sens direct ou de conduction, un courant tunnel s'écoule d'abord à travers 30 la jonction d'émetteur cathodique 24 comme cela est représenté sur la portion de courbe b sur la figure 3- Quand la polarisation directe ou dans le sens conducteur augmente jusqu'à dépasser la tension Y dans le creux de la courbe (voir figure 3), un courant de diffusion traverse la jonction d'émetteur cathodique 35 pour provoquer linjection de porteurs de charge minoritaires comme dans la portion ç des diodes à semiconducteur sur la figure 3. 70 20049 9 2045797 Cependant, comme la jonction' d'émetteur cathodique 24, telle que représentée sur la figure 2A, présente l'effet tunnel, une intensité maximale ou pointe de courant I (voir figure 3) traverse cette jonction avant que le courant de diffusion, 5 tel que décrit ci-dessus, commence à s'écouler à travers celle-ci. Dans ces circonstances, on suppose'qu'avec le thyristor amené dans son état bloqué dans le sens direct ou de conduction, l'intensité d'un courant de fuite, traversant la jonction d'émetteur cathodique, est inférieure à l'intensité maximale ou pointe de 10 courant I . Dans ces conditions supposées,.les porteurs de charge minoritaires ne sont pas injectés depuis la région d'émetteur cathodique 18 dans la région de base 16 avec pour-résultat que, même quand la température est augmentée, la tension de blocage ou d'arrêt est maintenue à une valeur élevée au 15 moyen du fonctionnement semblable à celui des thyristors classiques du type à émetteur court-circuité. Egalement, même si une tension directe à grand rapport d'accroissement (dv/dt) est appliquée au présent thyristor, un courant de charge le traversant est forcé de s'écouler à travers les jonctions tunnel avec pour 20 résultat que l.1 injection des porteurs de charge minoritaires est empêché en se traduisant par l'empêchement de la diminution de la tension de blocage direct . " ~ - On suppose qu'afin d'amorcer ou d'allumer le thyristor, à 1'électrode de déclenchement périodique formant porte 30 est appliquée 25 une tension de déclenchement périodique rendant ladite électrode positive par rapport à l'électrode 28 formant cathode pour faire passer un courant de déclenchement à traver.s l'électrode de porte, les porteurs de charge minoritaires peuvent alors être injectés principalement à travers la jonction d'émetteur cathodique 30 24 pour commuter le transistor sur la conduction par l'intermédiaire des électrodes de celui-ci formant anode et cathode. Des expériences ont été effectuées avec des thyristors semblables au thyristor représenté sur les figures 2A et B, excepté que la jonction d'émetteur cathodique était entièrement constituée 35 par une jonction tunnel ou analogue. Les résultats de ces expériences ont indiqué soit que le courant de déclenchement pour allumer ou amorcer le thyristor était beaucoup trop intense 70 20049 10 2045797 ou bien que le thyristor ne pouvait pas être amorcé, Pour cette raison, une multiplicité de jonctions tunnel ou analogues 34 ayant une faible surface a été uniformément répartie sur la région d'émetteur cathodique. 5 Au début de la période d'amorçage ou d'allumage du thyristor provoquée par l'application d'un courant de déclenchement à celui-ci, seule la portion au voisinage d.e l'électrode de porte de la région d'émetteur cathodique est conductrice avec une faible surface limitée. Au fur et à mesure que le temps passe, 10 cette portion conductrice s'étale latéralement, par exemple par diffusion latérale. La vitesse, à laquelle la portion conductrice s'étale, est un facteur régissant fortement le taux d'accroissement de l'intensité d'un courant direct ou de conduction traversant le thyristor, c'est-à-dire une quantité de résistance ou d'opposi-15 tion (di/dt). Dans des thyristors du-type à émetteur court-circuité de construction classique, la région d'émetteur cathodique est latéralement interrompue. Ceci signifie que la-région de base associée comprend les portions directement en contact avec l'électrode formant cathode. Ainsi les porteurs de charge minori-20 taires ne peuvent pas être injectés dans ces portions de la région debase, de sorte que le nombre de porteurs de charge minoritaires tend à s'étaler latéralement et la partie conductrice manque ou est supprimée pour diminuer le taux d'étalement afin de restreindre la quantité d'opposition ou de résistance (di/dt). 25 Par contre le thyristor selon l'invention comprend une région d'émetteur cathodique non interrompra mise en contact avec la seule électrode formant cathode. Ceci permet à l'injection des porteurs de charge minoritaires d'être effectuée sur la ■ région d'émetteur cathodique entière comprenant les jonctions 30 tunnel, de façon à accroitre ainsi la quantité d'opposition ou de résistance (di/dt) et établissant la région conductrice dans toute la région d'émetteur cathodique entière. Il a été constaté qu'en comparaison avec des thyristors du type à émetteur court-circuité, la surface effective ou réelle de la jonction est 35 habituellement augmentée de l'ordre de 10 à 80% parce que l'électrode formant cathode n'a aucune partie en contact avec la région de base voisine. 70 20049 1 2045797 Parce qui précède, on se rendra compte que l'invention a créé des thyristors sensiblement exempts des inconvénients - des thyristors du type à émetteur court-circuité de construction classique mais conservant cependant les avantages de ce ceux-ci. 5 Bien que les jonctions tunnel présentent de préférence>la caractéristique intensité de courant-tension électrique représentée sur la figure 3, elles peuvent être remplacées par des jonctions P-F réalisées de façor que des portions prédéterminées de la jonction d'émetteur cathodique et les portions 10 adjacentes des deux régions formant cette jonction entre celles-ci soient fortement dopées pour être dégénérées afin d'y introduire une multiplicité de centres de recombinaison, de sorte que le courant de recombinaison s'écoule sensiblement de la région d'émetteur cathodique à la région de base adjacente au niveau 15 du courant de fuite, de celle-ci tandis que le courant de diffusion devient prédominant auxniveaux supérieurs au niveau du courant de fuite avec des conditions similaires. Dans ce dernier cas, on a constaté que, de chaque côté de la jonction P-F ainsi formée, 1 8 la concentration en impureté est d'au moins 5 x 10. atomes 20 par centimètre cube. De telles jonctions P-F sont évidemment comprises dans le cadre de l'invention. Bien que l'invention ait été représentée et décrite en se référant à quelques modes de réalisation préférés de celle-ci, il doit être entendu qu'on peut avoir recours à divers changements 25 et modifications sans s'écarter de l'esprit ni du cadre de l'invention. Par exemple le type.de conductivité des couches ou régions à semiconducteur peut être inversé par rapport à celui qui est illustré. De même la jonction tunnel ou son équivalent peuvent avoir tout profil de section transversale désiré autre qu'un 30 profil circulaire. En outre 1'invention, est également applicable à des thyristors bidirectionnels. Dens ce cas, les jonctions tunnel ou leurs équivalents sont disposés dans les régions d'émetteur des deux portions de thyristor . Bien entendu, l'invention n'est nullement limitée au mode de réalisation décrit et représenté qui n'a été donné qu'à titre 35 d'exemple. En particulier, elle comprend tous, les moyens comprenant des équivalents techniques des moyens décrits, ainsi que leurs combinaisons si celles-ci sont réalisées selon l'esprit de l'invention. 70 20049 2045797 E._E_T_E_N_D_I_C_A_T_I_0_K_S 1 - Dispositif formant thyristor, caractérisé en ce qu'il comporte une pastille ou plaquette de matière semiconductrice comprenant quatre couches semiconductrices à conductivités alternées, une jonction P-U formée entre la plus externe des 5 quatre couches semiconductrices, constituant une région d'émetteur ou émettrice et la couche adjacente constituant une région de base, au moins une jonction tunnel disposée sur une portion de ladite jonction P-ÏT ou bien au moins une jonction P-N disposée sur une portion par exemple du type P de ladite jonction P-N 10 mentionnée en premier lieu, et une électrode de déclenchement périodique formant porte disposée sur ladite région de base pour contrôler ou régler la caractéristique intensité de courant-tension électrique dudit dispositif. 2 - Dispositif selon la revendication 1, caractérisé -en ce 15 que,dans le cas ou au moins une jonction P-ÎJ précitée est disposée sur une portion par exemple de type P de la jonction P-U précitée mentionnée en premier lieu, elle possède une concentration / 18 en impureté d'au moins 5x10 atomes par centimètre cube de matière semiconductrice de chaque côté ou sur chaque face de 20 celle-ci. 3 - Dispositif selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la région de base précitée possède une concentration en impureté diminuant avec une distance croissante à la région d'émetteur précitée adjacente à ladite région de base. 25 4 - Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que la région de base précitée présente une concentration maximale 1 7 en impureté de 10 atomes par centimètre cube. 5 - Dispositif selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'une multiplicité de jonctions tunnel précitées 30 sont disposées en étant écartées les unes des autres. 6 - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'une multiplicité de jonctions P-N précitées mentionnées en dernier lieu sont disposées de façon à être espacées les unes des autres. 70 20049 2045797 7 - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la jonction tunnel précitée possède une section transversale sensiblement circulaire. 8 - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 6 ou 8, 5 caractérisé en ce"que la jonction P-H précitée mentionnée en dernier lieu possède une section transversale sensiblement circulaire. 9 - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 7 ou 9, caractérisé en ce qu'une multiplicité de jonctions tunnel 10 précitées est sensiblement uniformément répartie en étant espacées les unes des autres sur 1'interface des régions précitées respectivement d'émetteur et de base. 10 - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 6, 8 ou 10, caractérisé en ce que plusieurs jonctions P-ÏT précitées mentionnées 1 5 en dernier lieu sont réparties sensiblement uniformément en étant espacées les unes des autres sur l'interface des régions précitées respectivement d'émetteur et de base.