Brevet FR2002898A1 — publié le 19691031

La présente invention concerne un procédé pour augmenter la photosensibilité des éléments photosensibles peur, utilisation dans une technique spéciale d'électrophotographie. La Demanderesse a développé une série de nouveaux 5 procédés d1électrophotographie. Fondamentalement ces procédés comprennent les étapes suivantes .: l'application d'un premier champ électrique à travers un élément photosensible comprenant une couche'photosensible ou photoconductrice et une couche hautement isolante liée d'un seul tenant à une surface de la 10 couche hautement isolante afin de déposer une charge électrique d'une première polarité sur la surface de la couche hautement isolante, l'application d'un second champ électrique à travers l'élément photosensible pour déposer une charge électrique de polarité opposée à la première sur la surface de la couche 15 hautement isolante, et la projection d'une image lumineuse sur l'élément photosensible en même temps que l'application du second champ, de manière à former une image électrostatique latente correspondant à l'image lumineuse projetée sur la surface de la couche hautement isolante. Ce procédé est carac-20 térisé en ce que, puisque l'image latente est formée sur la surface de la couche hautement isolante, l'image latente peut être emmagasinée et développée sous la lumière ambiante sans aucune détérioration. Par suite, il n'est pas nécessaire de conserver la couche photosensible dans l'obscurité jusqu'à 25 ce que l'image latente qui est formée sur celle-ci soit développée, comme c'est le cas pour le procédé classique d'électrophotographie. Pour cette raison, il est devenu possible.non seulement d'utiliser des matières photosensibles à très haute photosensibilité et à très faible résistance, dans 1-'obscurité, 30 mais aussi d'utiliser facilement le procédé d'augmentation thermique de la photosensibilité de la matière photosensible, lequel procédé était très difficile à mettre en oeuvre pour les matières photosensibles classiques. Dans une tentative d'obtention d'un élément photo-35 sensible utilisable dans le procédé d'électrophotographie décrit ci-dessus, on a déposé par vaporisation sur un substrat une matière photosensible de la série du sélénium. Cependant, il était nécessaire de régler la température du substrat avec le plus grand soin pendant le processus de dépôt par vaporisation. 40 II est essentiel de maintenir cette température à une valeur * . BAD ORIGINAL correcte afin d'accélérer la cristallisation de la matière photosensible déposée en assurant ainsi 1"'Uniformité de la photosensibilité de l'élément photosensible. Par conséquent, un but de l'a présente invention 5 est de fournir un procède de production d'un élément" photosensible présentant une haute sensibilité et n'exigeant pas un réglage gênant de la température au moment du dépôt par vaporisation de la matière photosensible. Un autre but de la . présente invention est d'améliorer la photosensibilité et 10 l'uniformité d'un élément photosensible comportant une couche photosensible déposée par vaporisation de la série du sélénium et une couche hautement isolante liée d'un seul tenant à la couche photosensible, cet élément étant particulièrement approprié à être utilisé dans ledit procédé spécial d'électro-15 photographie. En bref, selon l'invention, un élément photosensible, comportant une couche photosensible déposée par vaporisation de la série du sélénium et au moins Une couche isolante liée d'un seul tenant à l'une ou aux deux surfaces 20 de la couche photosensible, est soumis à un traitement par la chaleur à une température supérieure à 60°C. Le traitement par la chaleur peut régler de manière plus précise le degré de cristallisation de la matière photosensible, et par suite la caractéristique photosensible de l'élément photosensible, 25 que ne le fait le réglage de la température du substrat au moment du dépôt par vaporisation. La description qui va suivre en regard du dessin annexé, donné à titre d'exemple non limitatif, fera bien comprendre comment l'invention peut être réalisée. 30 , La figure unique est Un graphique montrant l'amé lioration de la sensibilité d'un élément photosensible traité selon l'invention. Le mode de mise en oeuvre préféré de la présente invention sera mieux mis en évidence par l'exemple suivànt. 35 EXEMPLE : On applique une couche de polystyrène de 5 microns d'épaisseur à une couche formant électrode translucide qui est déposée par vaporisation sur un substrat en verre, puis on dépose par vaporisation du sélénium sur la couche de 40 polystyrène jusqu'à une épaisseur de 30 microns, sans chauffer BAD ORIGINAL 69 05171 3 2002898 le substrat ou à température ambiante. On applique une autre couche de 5 microns de polystyrène sur la couche de sélénium déposée par vaporisation. On constate que les couches respectives sont liées d'un seul tenant pour former un élément 5 photosensible. La Demanderesse a trouvé que, lorsque les couches sont chauffées à une température supérieure à 60°C pendant un temps approprié, la couche de sélénium cristallise, à la suite de quoi la photosensibilité de l'élément photosensible 10 peut être sensiblement améliorée. Le résultat du traitement par la chaleur pendant 60 minutes à différentes températures est montré sur la figure unique. La courbe montre la photosensibilité relative de l'élément (en ordonnées), pour laquelle la sensibilité avant traitement est considérée comme 15 égale à l'unité. On établit la courbe de la manière suivante. D'abord, on maintient une électrode de décharge par effluves, placée près de la couche transparente hautement isolante de l'élément photosensible, à un haut potentiel négatif par rapport à la couche-électrode translucide de 20 l'élément, afin d'appliquer un premier champ à travers l'élément et charger la surface de la couche hautement isolante à - 1500 V. En meme temps, on projette une lumière uniforme de plusieurs dizaines de lux sur l'élément photosensible à travers la couche-électrode translucide. 25 Ensuite, pendant que l'on projette une image lumi neuse par l'électrode de décharge par effluves et par la eouche hautement isolante, on applique un potentiel de polarité opposée à celle du premier potentiel à 1Télectrode de décharge par effluves pendant un intervalle de tempa donné 30 pour déposer une charge positive sur la surface de la couche hautement isolante. De cette façon, une image électrostatique latente correspondant à l'image lumineuse se forme sur la surface de la couche hautement isolante. On détermine l'intensité de 35 l'image latente ainsi formée en mesurant la différence entre le potentiel de surface en des endroits correspondant aux parties brillantes de l'image lumineuse et "celui en des endroits correspondant aux parties sombres de lrimage lumineuse après que l'élément photosensible a été amené à la lu-40 mière ambiante. On peut représenter la photosensibilité comme 69 05171 4 2002898 étant l'inverse de l'intensité lumineuse des parties brillantes de l'image lumineuse projetée qui est nécessaire pour produire la même intensité de l'image latente. Le résultat des mesures est représenté par la courbe. Comme on peut le consta-5 ter, la sensibilité commence par augmenter aux environs de 60°C, atteint son maximum aux environs de 8g°C, puis diminue légèrement avec l'augmentation de la température. Bien que, par chauffage à température relativement élevée pendant une période relativement longue comme on l'a 10 expliqué plus haut, le degré de cristallisation de la couche photosensible augmente et la résistance dans l'obscurité décroît fortement jusqu'à un point que le procédé classique d'électrophotographie ne permet pas d'atteindre, dans le procédé spécial d'électrophotographie, selon lequel l'image latente 15 est formée et conservée sur la surface de la couche hautement isolante, la diminution de résistance dans l'obscurité de la couche photosensible ne provoque pas d'effet nuisible sur la formation et la conservation de l'image latente. Ainsi donc, la présente invention fournit un élément 20 photosensible de caractéristiques désirées plus facilement et de manière plus précise que le procédé de la technique antérieure dans lequel les caractéristiques de l'élément sont contrôlées par réglage de la température du substrat au moment du dépôt par vaporisation de la couche photosensible. 25 I/élément photosensible qui peut être soumis au traitement par le procédé selon lfinvention peut prendre diverses formes» Par exemple, on peut omettre le substrat transparent. Lorsque la seconde couche transparente hautement isolante interposée entre la couche photosensible et la couche-30 électrode augmente le rapport bruit/signal, on peut aussi omettre cette couche. De plus, la couche photosensible déposée par vaporisation peut être constituée de toute substance de la série du sélénium, comme le Se, le SeTe et le SeAs. 69 05171 5 2002898 REVENDICATIONS " 1.- Un procédé d'amélioration de la photosensibilité d'ion élément photosensible comportant une couche photosensible déposée par vaporisation de la série du sélénium et une couche 5 hautement isolante liée d'un seul tenant à ladite couche photosensible, et utilisable dans un procédé d'électrophotographie dans lequel on forme une image latente sur la surface de ladite couche hautement isolante par les opérations consistant à appliquer un premier champ électrique à travers ledit élément 10 photosensible' afin de déposer une charge électrique d'une première polarité sur la surface de ladite couche hautement isolante, à appliquer un second champ électrique à travers ledit élément photosensible afin de déposer une charge électrique de polarité opposée à ladite première polarité sur la 15 surface de ladite couche hautement isolante, et à projeter une image lumineuse sur l'élément photosensible en même temps que l'on applique ledit second champ, procédé caractérisé en ce que l'on améliore la photosensibilité dudit élément photosensible par une opération consistant à traiter par la chaleur 20 ledit élément photosensible à une tèmpérature dépassant 60°C. 2.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le traitement par la chaleur est effectué à des températures d'environ 60°C à environ 90°C pendant environ une heure. 25 3. - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche photosensible est fabriquée à partir d'une matière choisie parmi le Se, le SeTe et le SeAs. 4.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit élément photosensible comprend en outré aine 30 couche électrode, et en ce que ladite couche photosensible est déposée par vaporisation par ladite couche-électrode pendant que cette dernière est maintenue à température âmbiante.