Brevet FR2013019A1 — publié le 19700327

20130:19 La présente invention se rapporte à l'inspection de milieux porteurs de repères, par exemple des masques photographiques, comprenant des supports en verre transparent sur lesquels sont définies de façon précise des configurations de zones opaques, par 5 comparaison avec des masques étalons de précision connue. Un certain nombre de phases de fabrication différentes utilisées habituellement dans la production de composants à semiconducteurs tels que les circuits intégrés, requièrent la formation d'une structure photorésistante, dite réserve, sur la surface d'une plaquette de 10 matériau semiconducteur. De telles structures sont formée en appliquant sur la surface de la plaquette une couche de matériau de réserve, en plaçant sur celle-ci un masque photographique, et en exposant ladite couche à la lumière ultraviolette au travers du masque. Les zones opaques du masque protègent des zones sélection-15 nées de la réserve de telle sorte- que lorsque la couche de réserve se trouve développée photographiquement les zones protégées sont éliminées afin d'exposer les zones sélectionnées de la surface de la plaquette, ^e procédé permet de traiter chimiquement, par exemple par attaque chimique ou diffusion, les zones exposées de la 20 plaquette sans affecter d'autres zones de la plaquette. Etant donné qu'il est nécessaire de remplacer occasionnellement un masque endommagé, tous les masques doivent être aussi semblables que possible. Afin de maintenir le degré de précision requis pour la fabrication des semiconducteurs, il est nécessaire 25 de vérifier chaque masque à utiliser en le comparant avec un masque étalon de précision connue. La vérification se fait en mesurant la conformité de la structure de zones opaques sur chaque masque à utiliser dans le procédé de fabrication avec la structure portée sur un masque étalon. En raison de la précision élevée requise, 30 12,7 x 10~5 cm sur une distance de 2,5 à 10,2 cm, les procédés mécaniques de mesure traditionnels sont lents, coûteux et peu efficaces. Jusqu'à présent un procédé connu pour comparer des masques consistait à examiner les masque individuellement au microscope et 35 relever les positions des zones opaques en observant la lecture sur un micromètre qui fait avancer le masque dans le champ du microscope. Un autre procédé consiste à examiner le masque à vérifier et le masque étalon à l'aide de deux tubes de prise de vues de té-40 lévision séparées et à afficher alternativement les images sur un 69 16115 2 2013019 dispositif de contrôle afin de les comparer au moyen d'un procédé de scintillation. L'emploi de deux systèmes optiques séparés pour deux masques qui sont séparés matériellement l'un de l'autre peut introduire des erreurs dans le système par suite du défaut d'ali-5 gnement optique, de vibrations ou de dilatations du matériau en fonction des variations de la température. Dans une première forme de réalisation du procédé selon l'invention, une première image optique est engendrée pour indiquer la position d'un premier objet. Une deuxième image optique est en-10 gendrée qui forme une composition du premier objet et d'un deuxième objet, l'image du premier objet occupant sur cette deuxième image' optique la même position que sur la première image optique. Ces deux images optiques sont interrompues alternativement à une vitesse prédéterminée afin de présenter un effet de scintillation qui 15 indique la relation entre la position du deuxième objet par rapport à la position du premier objet. L'invention apparaîtra plus clairement à la lecture de la description qui va suivre, faite en regard des dessins annexés au présent mémoire, dans lesquels : 20 -, la figure 1 illustre schématiquement un système selon l'invention pour inspecter un masque symétrique ; - la figure 2 illustre schématiquement un système pour inspecter un masque dissymétrique en utilisant un premier procédé , pour compenser la distance focale à travers l'épaisseur du masque; 25 - la figure 3 illustre schématiquement un système pour inspecter un masque dissymétrique en utilisant un second procédé pour compenser la distance focale à travers l'épaisseur du masque; - la figure 4 illustre schématiquement un système pour inspecter la conformité de la structure d'une plaquette semiconduc-^ 30 trice avec la structure portée sur un masque photographique. La figure 1 montre un milieu porteur de repères, par exemple un masque étalon 10, monté'dans un cadre inférieur 11 sur un plateau mobile 12. Le masque 10 comprend un support en verre transparent 13 sur une face de laquelle se trouvent déposés plusi-35 eurs objets tels que des zones opaques 14 que l'on appellera par la suite "points". Les points 14 sontlocalisés d'une façon très précise et le masque a été préalablement soigneusement inspecté afin de s'assurer que la position de chaque point est exactement la position voulue -à une tolérance déterminée près. Il est bien évident 40 que le terme "point" et la configuration circulaire représentée 69 16115 3 2013019 sur la figure 1 ne sont nullement limitatifs et que d'autres configurations peuvent être déposées sur les surfaces des masques photographiques par des procédés photographiques, d'attaque chimique ou autres bien connus de l'homme de l'art. 5 Sur la surface du masque 10 se trouve placée une mince couche de matériau photosélectif 15 ayant un grand coefficient de réflexion sur la surface supérieure. Le matériau 15 peut être composé de substances telles que le polyéthylènetéréphtalate. On peut aussi utiliser d'autres matériaux qui laissent passer aisément 10 la lumière incidente sur une surface mais qui réfléchissait une partie importante de la lumière lorsque celle-ci atteint la surface opposée. Le facteur important est que le matériau utilisé ait un. pouvoir réfléchissant élevé pour la lumière incidente sur la surface du matériau proche de l'opérateur et qu'elle soit relativement 15 transparente pour la lumière incidente sur la surface opposée. Un milieu porteur de repères, symétrique, par exemple un masque d'essai 16, qui doit être inspecté avant d'être utilisé, est monté dans un cadre supérieur 17 du plateau mobile 12. Le masque 16 est également constitué d'un support en verre 18 sur une 20 surface de laquelle se trouvent déposées plusieurs zones opaques ou points 19. Le masque 16 est symétrique en ce que la configuration des points 19 est la même quelle que soit la face du masque par laquelle on les regarde. Le cadre supérieur 17 est fixé au cadre inférieur 11 en sorte nue la surface porteuse des points sur 25 le masque 10 soit voisine de la surface porteuse des points sur le masque 16. Ces surfaces des deux masques ne sont séparées que par la couche de matériau photosélectif 15» Chacun des deu^ masques 10 et 16 porte des repères 22 disposés d'une manière précise sur leurs surfaces et les cadres 17 et 11 sont positionnés de telle 30 sorte que les repères 22 et par conséquent les configurations respectives soient en alignement exact. Etant donné que les configurations de points sur les deux masques sont en principe identiques, pour chaque point sur la surface du masque 10, il doit y avoir un point sur la surface du masque 16, qui soit en alignement exact 35 sur la face opposée de la cou-che de matériau 15. Ce système d'inspection détecte tout défaut d'alignement entre les points correspondants sur les surfaces des deux masques. En dessous du plateau mobile 12, se trouve une source de lumière inférieure 23 agencée pour diriger un faisceau de lumière 40 sur la surface d'un miroir 24 qui réfléchit celle-ci à travers les surfaces inférieures des deux masques superposés 10 et 16. Une 69 16115 source supérieure de lumière 25 dirige un faisceau de lumière sur un prisme semi-argenté 26 qui réfléchit ce faisceau vers les surfaces supérieures des deux masques superposés à travers une lentille 27 » Un tube de prise de vues de télévision monochromatique 28 est 5 monté au-dessus du plateau mobile 12 pour regarder les masques superposés 16 et 10 à travers le prisme semi-argenté 26» Le tube de prise de vues 28 est connecté à un dispositif de 'contrôle 29 qui affiche sur l'écran l'image vue par le tube de prise de vues. Une grille 32s qui peut être constituée d'une feuille 10 quadrillée en matière plastique transparente, est placée sur l'écran du dispositif de contrôle 29. La grille permet à l'opérateur d'évaluer les distances sur l'image vue. Un premier disque obturateur 33 est interposé entre la source de lumière 23 et le miroir 24= Lorsque le disque 33 tourne 15 à une vitesse prédéterminée, une fente 34 laisse passer le faisceau de lumière vers le miroir 24 durant une partie d'une révolution tandis que la surface opaque du disque intercepte le faisceau lumineux durant le restant du cycle de révolution» Un second disque obturateur peut être prévu entre la source 25 et le prisme 26„ Le 20 second disque 35 fonctionne de la même manière que le premier disque 33 sauf qu'une fente 36 y est pratiquée en un endroit diamé= tralement opposé par rapport à la fente 34 pratiquée dans le disque 33« Le second disque 35 est synchronisé avec le premier disque 33 de telle sorte que le faisceau lumineux supérieur soit toujours 25 intercepté pendant que le faisceau lvmineux inférieur est transmis. D'une manière similaire, le faisceau lumineux inférieur est toujours intercepté pendant que le faisceau lumineux supérieur est transmis. Le second disque obturateur 35 est facultatif et peut ne pas être nécessaire dans certains cas, ainsi qu'on le verra plus 30 loin0 . De plus, il est entendu que les disques obturateurs 33 35 ne sont que des exemples et que d'autres dispositifs d'interruptipn des faisceaux lumineux peuvent être utilisés. Le masque à vérifier 16 se trouve donc placé au-dessus du masque étalon 10, en étant séparé de celui-ci par la couche de ma-35 tériau photosélectif 15, les marques 22 des deux masques étant utilisées pour amener les structures en alignement initial. Le cadre inférieur 11 et le cadre supérieur 17 sont ensuite solidarisés afin de maintenir le masque 16 et le masque 10 dans leur position initiale» J-,e plateau mobile 12 est ensuite déplacé dans les directions 40 X et Y (par des moyens non représentés) de telle sorte qu'une zone • » 2013019 '69 16115 5 2013019 sélectionnée des deux masques soit en alignement avec le trajet optique du tube de prise de vues 28» Deux zones opaques superposées 14A et 19A sur le masque étalon 10 et sur le masque 16 respectivement, sont alors en alignement avec le tube de prise de vues 28. 5 Celui-ci est mis au point sur la couche de matériau photosélectif 15 et, comme les surfaces porteuses des points sur les deux masques sont contiguës aux faces opposées de la couche 15, le tube de prise de vues sera également mis au point, avec une bonne approximation, sur les deux zones opaques 14A et 19A» 10 La source de lumière inférieure 23 et la source de lumière supérieure 25 sont excitées et le disque obturateur inférieur 33 et le disque obturateur supérieur 35 sont mis en rotation» Lorsque les masques superposés sont illuminés par la source de lumière inférieure 23 à travers la fente 34 du disque 33j la lumière traverse 15 le masque étalon 10, le matériau 15 et le masque 16 de telle sorte que les images superposées des deux points 14A et 19A apparaissent sur l'écran du dispositif de contrôle 29» S'il y a défaut d'alignement des deux points 14A et 19A, leurs images apparaîtront sur l'écran en deux points 14A' et 19A'. Lorsque les masques superpo-20 sés sont illuminés par la source de lumière supérieure 25 à travers la fente 36 du disque 35, la lumière de la source inférieure 23 étant interceptée par la surface opaque du disque 33» la lumière se dirige vers le bas à travers le masque 16 jusque sur la surface du matériau photosélectif 15» Lorsque celui-ci est illuminé par le 25 faisceau lumineux venant du haut, il réfléchit une partie importante de la lumière incidente à travers le masque 16 de telle sorte qu'une image seulement est visible par le tube de prise de vues 28, cette image étant celle du point 19A porté sur le masque 16. Cela revient à dire que lorsque les masques superposés sont illuminés 30 par le haut, la couche de matériau photosélectif 15 empêche l'illumination suffisante du masque 10 de telle sorte que le point 14A sur la surface de celui-ci n'est pas visible par le tube de prise de vue 28» Lorsque les masques sont illuminés par le haut, le point 19A est vu par le tube de prise de vues 28 de telle sorte que 35 seule l'image 19A' correspondante apparaît sur l'écran du dispositif de contrôle 29» Les disques 35 et 33 tournent en synchronisme de telle sorte que les masques superposés sont alternativement illuminés, à cadence rapide, par le haut et par le bas. Cette alternance du 40 sens d'illumination donne lieu alternativement à une image-des 69 16115 6 2ft13019 points 14A et 19A d'abord, et du seul point 1ÇA ensuite. L'image du point 19A occupe la même position sur l'écran lorsqu'il est affiché seul que lorsqu'il est affiché avec l'image du point 14A. Si les points 14A et 19A sont en alignement exact, comme ils doivent 5 l'être lorsque le masque à vérifier 16 est correct, les deux images 14A' et 19A* apparaissent sur l'écran en alignement exact. Il ne se produit alors aucune modification visible de l'image affichée lorsque seule l'image 19A' apparaît sur l'écran. Toutefois, si les points 14A et 19A ne sont pas alignés, il se produit sur l'écran 10 un changement visible ou effet de scintillation lorsque le dispositif de contrôle 29 affiche les images combinées 14A' et 19A', d'une part, et l'image 19A' seule, d'autre part. La -vitesse d'alternance et l'illumination est choisie de telle sorte que l'effet de scintillation soit très apparent pour l'oeil humain. Le degré 15 de scintillation indique aisément à l'opérateur le degré de défaut d'alignement des points. La grille 32 superposée sur l'écran du dispositif de contrôle 29 permet à l'opérateur de se faire un jugement quant à savoir si le degré de défaut d'alignement se trouve dans certaines limites prédéterminées. 20 Dans le système illustré sur la figure 1 le disque obtura teur supérieur 35 est facultatif car lorsque la lumière provenant de la source inférieure 23 traverse les deux masques superposés, elle annihile l'effet d'illumination par la source supérieure 25• Dans la plupart des cas un rendement satisfaisant peut être obtenu 25 en permettant à la source supérieure 25 d'illuminer la surface supérieure des masques superposés d'une manière continue et en interrompant l'illumination des masques par la source inférieure 23. Lorsque la lumière provenant de la source inférieure se trouve interrompue, seule l'image 19A' apparaît sur l'écran du dispositif 29> 30 Toutefois, lorsque le faisceau lumineux provenant de la source inférieure 23 traverse les masques superposés, il surmonte l'effet du faisceaux lumineux provenant de la source supérieure 25 et les deux images 14A' et 19A' apparaissent sur l'écran du dispositif 29. L'interruption du faisceau lumineux provenant de la source inféri-35 eure 23 donne par conséquent lieu à un effet de scintillation identique à celui qui 1 été décrit plus haut. Lorsque les deux premiers points opaques 14A et 19A ont été inspectés, le plateau mobile 12 est systématiquement déplacé suivant les deux directions X et Y (par des moyens non représentés) 40 afin d'inspecter tous les autres points opaques sur les deux masques. 69. 16115 7 2013019 Le procédé qui vient d'être décrit se rapportait à une paire de masques symétriques, c'est-à-dire que chacun des masques présentait un aspect identique quelle que soit la face par laquelle il est regardé. Sur la figure 1 le masque supérieur 16 est in-5 versé de manière à se trouver face à face avec le masque inférieur 10 de telle sorte que les surfaces porteuses des points opaques 14 et 19 soient adjacentes et séparées seulement par la couche de matériau photosélectif 15» Un problème supplémentaire surgit lorsque les masques à inspecter ne sont pas symétriques et ne peuvent par 10 conséquent être inversés de manière à être disposés face à face. Comme on le voit sur la figure 2, le problème lorsqu'on inspecte des masques non symétrique provient du fait que le masque supérieur 43 a une épaisseur finie,de telle sorte que lorsque les sources lumineuses supérieure et inférieure sont alternativement 15 interrompues la distance focale du tube de prise de vues 28 doit être modifiée afin de faire alternativement la mise au point sur les points opaques 44A et 42A. Afin de compenser la nécessité de modifier la distance focale pour tenir compte de l'épaisseur du masque à vérifier 43 > un compensateur 40 est ajouté au dispositif 20 représenté sur la figure 1. Le compensateur 40 (voir figure 2) comprend un moteur 45 qui est connecté à un disque tournant 46. Des ouvertures 47 et 48 sont formées dans le disque 46, une des ouvertures 47 étant ouverte tandis que l'autre ouverture 48 est emplie d'un matériau de 25 compensation 50, constitué d'une substance ayant la même épaisseur que le masque à vérifier 43 et les mêmes propriétés de transmission de lumière que celui-ci. La rotation du moteur 45 est synchronisée avec l'interruption de l'illumination par les sources supérieure et inférieure 25 et 23> de telle sorte que lorsque l'illumination 30 provient de la source inférieure 23 seule, l'ouverture 47 se trouve en alignement avec le trajet optique tandis que lorsque l'illumination provient de la source supérieure 25 seule, c'est l'ouverture 48 qui se trouve en alignement avec le trajet optique. Le tube de prise de vues se trouve au départ mis au point 35 sur le point opaque inférieur 12A à travers l'ouverture 47. Lorsqu'on désir que le tube de prise de vues 28 voie le point opaque supérieur 44A, on introduit le matériau de compensation optique emplissant l'ouverture 48, dans le trajet optique de manière que le matériau de compensation optique 50 modifie effectivement la dis-40 tance focale du tube de prise de vues. Il en résulte une image 69 16115 8 2613019 parfaitement mise au point 42A' du point opaque inférieur 42A combiné avec une image du point opaque supérieur 44A qui n'est pas tout à fait mise au point, qui alterne avec une image parfaitement mise au point 44A' du point opaque supérieur 44A seul sur l'écran 5 du dispositif de contrôle 29» Le défaut d'alignement des masques donne un effet de scintillation comme dans le cas précédent» Dans certains cas les vibrations provenant du moteur 45 sont indésirables. Dane ces cas on peut utiliser un deuxième procédé de compensation illustré sur la figure 3» Une couche 51 de 10 matériau de compensation optique est interposée entre le masque étalon 41 et la couche de matériau photosélectif 15. La couche 51 doit avoir approximativement la même épaisseur que le masque'supérieur 43 et avoir les mêmes propriétés de transmission de la lumière» Pour ce faire on peut généralement utiliser un support en ver-15 re ne portant aucun repère mais on peut également y prévoir un quadrillage sur une surface d'une couche interposée supplémentaire de matériau photosélectif ou de la couche de compensation 51 de telle sorte qu'une grille soit affichée sur l'écran du dispositif de contrôle. Cette variante a pour effet de compenser les distorsions 20 du système, optique, permettant à l'observateur de vérifier avec précision le degré de variation des points 42A' et 44A' affichés sur l'écran» Le tube de prise de vue 28 est mis au point au départ sur la couche de matériau photosélectif 15» Lorsque les masques super-25 posés sont illuminés par la source supérieure 25, le tube de prise de vues 28 voit, par réflexion sur la surface du matériau photosélectif 15, la surface inférieure du point opaque supérieur 44A. Cela signifie, que, en fait, la lumière pénétrant dans le tube de prise de vues 28 traverse deux fois l'épaisseur du masque ainsi af-30 fiché, une fois en allant vers le matériau photosélectif 15 et une fois en revenant vers le tube de prise de vues 28.- Lorsque les masques superposés sont illuminés par la source inférieure 23, le faisceau lumineux, après avoir quitté le point opaque inférieur 42A, traverse la couche de compensation optique 51, la couche de maté-35 riau photosélectif 15 et le masque a vérifier 43 « La distance op-r tique jusqu'à la lentille du tube de prise de vue 28 est la même que la distance lorsque les masques sont illuminés par la source supérieure 25 seule» La mise au point du tube de prise de vues 28 sur la couche photosélective 15 permet ainsi au tube de prise de 40 vues de voir une image virtuelle du point opaque supérieur 44A 69. 16*15 9 2013019 dans le même plan que le point inférieur 42A. Le procédé de compensation optique illustré sur la figure 3 donne lieu à l'apparition sur l'écran du dispositif de contrôle 29 d'images 42A? et 44A' très nettes de telle sorte que le défaut d'alignement des masques 5 peut être évalué d'une manière précise» Le présent procédé d'inspection peut être utilisé pour comparer des zones traitées sur une plaquette de semiconducteur avec une configuration voulue sur un masque photographique. Comme le montre la figure 4, une plaquette de semiconducteur 54 portant 10 des zones traitées 55 est montée dans un cadre 53» Par exemple, les zones traitées 55 peuvent être constituées par des connexions opaques en or» Un masque 10 portant une configuration de points opaques 14, de préférence la même que la configuration des zones traitées 55, est superposée sur la plaquette 54. Une source de ra-15 diations infrarouges 52 est situées en dessous de la plaquette 54 afin de diriger les radiations à travers la plaquette et le masque. Etant donné que le silicium est transparent aux radiations ayant une longueur d'onde supérieure à 1,1 micron environ et que le germanium est transparent aux radiations ayant une longueur d'onde 20 supérieure à 1,6 micron environ, les radiations infrarouges émises par la source 52 pénètrent à la fois dans la plaquette 54 et dans le masque 10 et donnent lieu à une image superposée du point inférieur 55A et du point opaque supérieur 14A dans le trajet du tube de prise de vues 28 utilisant un vidicon dont la courbe de réponse 25 descend jusqu'à des longueurs d'ondes de 2,2 microns. L'illumination par la source 52 est alternée avec l'illumination visible émise par la source supérieure 25. Lorsque la lumière infrarouge 52 est interrompue et lorsque la lumière visible est émise par la soup-ce 25, le tube de prise de vues 28 voit uniquement le point opaque 30 14A car la lumière visible ne pénètre pas dans la plaquette de semiconducteur. Une couche de matériau photosélectif, comme montré sur les figures 1 à 3 j peut être placée entre le masque et la plaquette en cas de nécessité. L'alternance d'illumination par les sources 52 et 25 fait apparaître alternativement sur l'écran 35 du dispositif de contrôle 29 les images combinées 55A' et 14A', puis l'image 14A'. De cette manière la configuration des zones traitées 55 sur la plaquette 54 se trouve inspectée et comparée à la configuration des zones opaques 14 sur la surface du masque étalon 10. Un défaut d'alignement donne lieu à un effet de scintil-40 lation comme décrit plus haut. Bien que le procédé d'inspection 69 16T15 xo 2013019 illustré schématiquement sur la figure 4 ait été décrit dans le cas d'un masque symétrique, il permet tout aussi bien d'inspecter des configurations non symétriques sur des plaquettes de semiconducteur en utilisant les procécés illustrés par les figures 2 et 3« 5 Une particularité supplémentaire qui peut être prévue dans le système d'inspection sur les figures 1 à 4> est l'utilisation d'un dispositif d'affichage à plusieurs couleurs.- On connaît un tube à rayons cathodiques à plusieurs couleurs qui possède deux couches de matériau luminescent superposées sur l'écran d'afficha-10 ge. L'activation d'une couche produit une image rouge et l'acti-vation de l'autre couche produit une image verte. Chaque couche peut être activée sélectivement en appliquant un potentiel requis à une grille de commande. Lorsque le tube à plusieurs couleurs est utilisé, dans le dispositif de contrôle 29, l'activation de la 15 grille de commande est synchronisée avec l'illumination soit de la source de lumière supérieure, soit de la source de lumière inférieure. Une image rouge puis une image verte est alors affichée alternativement sur l'écran du dispositif de contrôle afin de permettre la détection plus facile de l'effet de scintillation. Si 20 la vitesse d'interruption est accrue, les parties superposées de l'image apparaissent en jaune et les parties non superposées de l'image apparaissent en vert et en rouge. Il convient de souligner que dans les systèmes qui précèdent les dispositifs optiques utilisés pour positionner les masques et 25 les couches interposées donnent lieu à un système optique dans lequel les zones opaques des masques respectifs sont situées sensiblement dans le même plan focal, de sorte que ces systèmes se prêtent à une amplification élevée des zones opaques examinées. 69 16-115 11 2013019 REVENDICATIONS 1.~ Procédé pour afficher visuellement la relation entre deux objets (19A, 14A) consistant à engendrer une première image optique (19AT) du premier objet par un système optique et à engen- 5 drer une seconde image optique, caractérisé en ce que la seconde image optique est engendrée par ledit système optique et comprend des images (19A' et 14A')- du premier (19A) et du second objet(14A) à la fois superposées sur la zone occupée par la première image optique, et en ce que la seconde image optique est interrompue à 10 une vitesse telle qu'elle présente un effet de scintillation lorsque les deux objets ne sont pas en alignement. 2.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on interrompt la première image optique durant le laps de temps pendant lequel la seconde image optique est affichée» 15 3»~ Procédé selon l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que chaque objet comprend une zone opaque sur un support transparent et en ce qu'on place les supports transparents contre une feuille intermédiaire de matériau propre à transmettre la lumière incidente venant d'une première direction 20 et à réfléchir la lumière incidente venant d'une seconde direction, à produire ladite première image optique d'après la lumière réfléchie par ladite feuille intermédiaire et à produire ladite seconde image optique d'après la lumière traversant ladite feuille intermédiaire» 25 4»- Procédé selon la revendication 3> caractérisé en ce que les zones opaques sont formées sur les mêmes faces desdits supports transparents et en ce qu'on introduit un organe transparent dans le trajet du faisceaux lumineux qui produit la première image optique, ledit organe transparent ayant une épaisseur égale à cel-30 le de l'un desdits supports transparents» 5»- Procédé selon la revendication 3» caractérisé en ce que les zones opaques sont formées sur les mêmes faces desdits supports transparents et en ce qu'on introduit une couche transparente entre ladite feuille intermédiaire et l'un desdits supports trans-35 parents, ladite couche ayant une épaisseur égale à celle dudit support transparent» 6.= Procédé selon l'une ou l'autre des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'on utilise de la lumière visible pour engendrer la première image optique et de la lumière infrarouge pour 40 engendrer la seconde image optique. 69 16.1 15 12 2013019 7»- Système pour mesurer le degré d'écart de position des zones opaques disposées sur une surface d'un premier masque photographique par rapport à la position des zones opaques disposées sur une surface d'un second masque photographique, comprenant des 5 moyens pour monter lesdits masques en superposition, la surface dudit premier masque portant des zones opaques à proximité de la surface dudit second masque portant des zones opaques, et un dispositif de réception et de contrôle optique aligné sur une série sélectionnée de zones opaques portés par lesdits masques, caracté-10 risé en ce qu'il est prévu une couche de matériau photosélectif disposée entre les surfaces adjacentes desdits masques afin de réfléchir et transmettre la lumière ; des premiers moyens pour illuminer les masques superposés par la même face que celle qui illumine le dispositif de contrôle, l'illumination étant réfléchie par 15 ladite couche photosélective afin d'afficher sur le dispositif de contrôle une image de la zone opaque du premier masque seulement; des seconds moyens pour illuminer les masques superposés par la fece opposée à celle qui illumine le dispositif de contrôle, l'illumination étant transmise à travers ladite couche de matériau 20 photosélectif afin d'afficher sur le dispositif de contrôle une image composite des zones opaques du premier et du second masque ; et des moyens pour interrompre l'illumination produite par les premiers moyens d'illumination à une vitesse telle qu'il se crée un effet de scintillation sur l'écran d'affichage du dispositif 25 de contrôle lorsque les zones opaques sélectionnées ne sont pas en alignement» 8.- Système selon la revendication 7> caractérisé en ce que la couche de matériau photosélectif est composée de polyéthylène-térephtalate.