Brevet FR2009759A1 — publié le 19700206

La présente invention se rapporte à un: procédé de pulvérisation d'un film conducteur sur un support-à partir de plusieurs paires d'organes conducteurs parallèles écartés les uns des autres, disposés symétriquement par rapport au support. 5 Dans le procédé de pulvérisation cathodique connu utilisé pour déposer des couches conductrices minces sur un support dans une chambre à vide, on établit une décharge par effluve ou plasma dans le gaz par l'application d'un potentiel continu élevé entre une cathode formée par une source de matériau filmogène 10 et une anode qui supporte le support. Des ions positifs du gaz sont attirés par la source de matériau filmogène , appelée par la suite cible,et bombardent celle-ci afin de déloger des atomes du matériau filmogène qui forment à leur tour un revêtement sur la face adjacente du support. 15 Ordinairement, les électrons libérés dans la décharge sont attirés par l'anode de pulvérisation et bombardent la face adjacente du support. Un tel bombardement provoque l'échauffement localisé du support, cet échauffement dégradant bien souvent la qualité de la couche déposée. Par exemple, dans le cas du dépôt 20 de couches d'aluminium ayant une épaisseur moyenne supérieure à 0,2 micron, le dépôt à de telles températures de support élevées provoque des dépôts de couches inégales . Dans le passé, on a utilisé certains moyens pour combattre ces problèmes. Le meilleur moyen consiste probablement à 25 appliquer un potentiel continu négatif à la couche déposée durant la pulvérisation afin de repousser les électrodes de plasma du support. Ce procédé, connu sous le nom de'pulvérisation à polarisation continuer» a été utilisé avec satisfaction pour engendrer des échantillons de couches conductrices minces dans des cloches 30 et analogue. Toutefois, ce procédé est gênant lorsqu'on veut l'utiliser pour la production à grande échelle de couches minces sur des supports mobiles. L'utilisation de là pulvérisation à polarisation continue dans un tel montage implique la nécessité de prévoir dans une chambre à vide des contacts de frottement satis-35 faisants entre la source de polarisation fixe et le revêtement disposé sur les supports qui se déplacent d'une façon continue. Ces difficultés ont été éliminées par le procédé selon l'invention qui consiste à appliquer une tension de pulvérisation alternativement entre les éléments de chaque paire d'organes 40 afin de pulvériser sur le support un matériau provenant de l'élé 69 17838 2 2009759 ment de chaque paire, qui, à chaque instant, est négatif, et à étar-blir un champ électrique possible entre les éléments de chaque paire afin d'empêcher le bombardement du support par les" électrons. L'invention sera décrite ci-après en se référant aux 5 dessins joints dans lesquels i - la figure 1 est une vue en perspective avec arrachement partiel, d'un-appareil de pulvérisation utilisant une cible et une plaque de polarisation auxiliaire réalisée pour traiter un support plan ; 10 - la figure 2 est une vue en élévation latérale, avec arrachement partiel, du montage selon la figure 1 avec la plaque de polarisation ôtée, montrant le dispositif de refroidissement du réseau de cible ; - la figure 3 est une vue de l'appareil de pulvérisa-15 tion selon la figure 2, montrant les connexions électriques du réseau de cible et de la plaque de polarisation ; - la figure 4 est une vue partielle élargie d'une partie d'un élément du réseau de cible , montrant un fil constitué d'un "agent d'ensemencement" . „ enroulé autour de l'élément ; 20 - la figure 5 est une vue schématique du réseau de cible selon la figure 1, montrant les connexions électriques de celui-ci ; - les figures 6 et 7 sont des courbes montrant les variations typiques du courant cathodique en fonction des tensions 25 de polarisation positive et négative respectivement ; - la figure 8 est une vue■similaire à celle de la figure 3 , montrant une autre disposition de l'organe de polarisation ainsi que les connexions électriques correspondantes ; - la figure 9 est une vue en perspective, partielle-30 ment schématique et avec arrachement partiel, d'une autre forme de réseau de cible et de l'organe de polarisation auxiliaire, destiné à traiter un support cylindrique î -la figure 10 est une vue en bout, partiellement schématique, du montage selcm la figure 9y montrant les connexions 35 électriques du réseau de cible. . •' Dans un exemple de .forme de réalisation convenant pour pulvériser"dès couches d'aluminium sur~dgs supports plans mobiles, la cible est formée à partir de plusieurs tubes d'aluminium allongés individuels disposés parallèlement-les uns aux autres en un 40 plan et s'étendant transversalement dans la chambre. Le plan du 69 17838 3 2009759 réseau est parallèle au trajet des supports mobiles et se trouve écarté par rapport à ce trajet. La pulvérisation est amorcée en appliquant une tension alternative relativement grande entre des tubes adjacents. Chaque 5 tube sert de source de matériau filmogène durant la partie du cycle alternatif durant laquelle il est relativement négatif. Des électrons libres du gaz ionisé sont capturés par le champ électrique oscillant établi entre les tubes adjacents, de telle sorte que lTéchauffement du support,par suite du bombardement de celui-ci 10 par ces électrons libres, est éliminé sans qu'il soit nécessaire de polariser la couche pulvérisée sur les supports mobiles. La densité de courant dans le réseau de cathode et donc la vitesse de dépôt de la couche pulvérisée peut être grandement améliorée en déformant le champ électrique oscillant établi 15 entre les tubes. Cela peut être réalisé, par exemple, en montant un organe conducteur derrière le réseau de cathode et en appliquant à cet organe, soit une tension de polarisation continue positive, soit une tension de polarisation continue négative. Pour une pression donnée quelconque dans la chambre, 1'amélioration de 20 la vitesse de dépôt est à peu près proportionnelle à l'amplitude de la tension de polarisation appliquée à cet organe. On peut utiliser dans 1*appareil selon l'invention des cibles et des supports ayant d'autres configurations que la configuration plane. Par exemple, si le support mobile est cylin-25 drique, comme c'est le cas par exemple lorsqu'il s'agit de revêtir des fils de cuivre de permalloy ou d'un autre matériau magnétique anisotropique pour former des dispositifs de mémoire, les tubes peuvent être disposés longitudinalement en un réseau circulaire autour du fil mobile. 30 On peut avantageusement déposer des couches d'alliage en constituant les tubes alternativement de l'un des métaux de l'alliage et les autres tubes,de l'autre métal. Dans ce cas, on peut obtenir un degré de contrôle de la composition de la couche pulvérisée résultante en portant les éléments adjacents du réseau 35 à des potentiels continus différents. Les figures 1 et 2 montrent un appareil de pulvérisation allongé 21 qui peut être formé d'une partie d'une machine à vide en ligne. L'appareil 21 comprend une chambre de pulvérisation rectangulaire 22 (Fig. 1) constituée d'.un matériau conducteur 40 tel que l'acier, et mis à la masse. La chambre 22 est délimitée 69 17838 4 2009759 par deux paires de parois latérales opposées 23 et 24, disposées horizontalement et verticalement, respectivement. Les parois 23 et 24 sont terminées â leurs extrémités longitudinales opposées par deux parois terminales 26 (Fig. 2). Les parois terminales sont 5 fixées,respectivement, par deux brides 2? qui permettent de fixer la chambre à des brides similaires prévues sur les parois terminales de chambres similaires 28 et 29« Deux rails métalliques en forme de canal 31 s'étendent longitudinalement dans la chambre de pulvérisation 22 afin de sup-10 porter plusieurs supports plans, non conducteurs de l'électricité tout en permettant à ces supports d'être déplacés. Les rails 31 sont portés d'une manière fixe dans deux fentes de forme corres- s pondante 33 disposées d'une manière centrale dans les parois terminales de la chambre 22 et des chambres 28 et 29,respectivement. 15 Les supports peuvent être déplacés longitudinalement entre les rails dans le sens d'une flèche 34 (Fig. 2) par des moyens non représentés qui peuvent être constitués par exemple par un dispositif de va-et-vient. La chambre 22 est emplie d'un gaz inerte, tel que 20 l'argon, à une pression convenant pour la pulvérisation. Le trajet suivi par les supports 32 dans la chambre 22 se prolonge jusqu'au-delà de la cible de pulvérisation fixe, représenté en 36 (Fig. 1) pour recevoir de celle-ci un revêtement uniforme du matériau dont est constituée la cible lorsque les conditions de pul-25 vérisation sont établies dans la chambre, comme décrit plus loin. La cible 36 se présente sous la forme d'un réseau plan d'organes cylindriques allongés parallèles 37a-37f (Fig. 2) portés à un potentiel alternatif et s'étendant verticalement dans la chanbre 22. Les organes 37 s'étendent complètement en travers de 30 la chambre et traversent les parois horizontales opposées 23 par l'intermédiaire de plusieurs joints 38. Comme le montre le mieux la figure 3 » le plan du réseau est parallèle au plan des supports 32 et se trouvent écartés transversalement par rapport à ceux-ci. Chacun des organes 37 est tubulaire et présente une 35 ouverture centrale 39 (Fig. 2) au travers de laquelle un agent de refroidissement approprié (non représenté) peut être envoyé durant la phase de pulvérisation afin d'empêcher l'échauffement et/ou la fusion excessive des organes 37. La forme tubulaire permet à l'agent de refroidissement d'entrer en contact direct avec la sur-40 face intérieure de chaque organe et favorise ainsi l'échange effi 69 17838 5 2009759 cace de chaleur. L'agent de refroidissement peut être introduit dans l'ouverture 39 de chaque orgaïie 37 par l'intermédiaire d'un conduit d'entrée 40 et en être éliminé par l'intermédiaire d'un conduit de sortie 41. 5 Des organes alternés 37a, 37c et 37e sont connectés électriquement en commun, par l'intermédiaire d'un commutateur 42, à une borne 43 d'une source alternative 44> de tension élevée et de basse fréquence, qui est isolé électriquement des parois de la chambre 22. Les autres organes 37b, 37d et 37f sont connectés 30 électriquement en commun à une autre borne 45 de la source 44. Le potentiel entier de la source peut donc être appliqué entre des éléments adjacents 37 du réseau afin de créer un champ électrique oscillant intense entre les éléments adjacents. Durant l'alternance de la tension alternative appliquée pendant laquelle les or-15 ganes 37a, 37c et 37e sont négatifs par rapport aux autres organes, les organes 37a, 37c et 37e constituent la cathode instantanée de l'appareil de pulvérisation. D'une manière similaire, lorsque les organes 37b, 37d et 37f sont négatifs par rapport aux autres organes, ces éléments 37b, 37d et 37f constituent la cathode ins-20 tantanée. De cette manière, chacun des organes 37 constitue une source de matériau filmogène et aucune anode séparée n'est requise comme dans les appareils de pulvérisation à deux électrodes. Lorsque le commutateur 42 qui se trouve en série avec la source de tension alternative 44 est fermé, la. tension alter-25 native de la source est appliquée entre des organes adjacents 37. Les champs électriques résultants entre les organes adjacents ionisent le gez se trouvant dans la chambre, de telle sorte que les ions positifs du gaz bombardent les organes 37 qui sont relativement négatifs à ce moment. Les atomes d'aluminium,qui sont 30 alors expulsés des organes bombardés, sont déposés sur les supports 32 en face du réseau de cible sous la forme d'un revêtement- en couche mince 46 (Fig. 3). Durant l'alternance suivante de ia source d'alimentation, les ions positifs du gaz bombardent les autres organes 37, qui sont à présent relativement négatifs, de telle 35 sorte que les atomes d'aluminium expulsés par ces organes se trouvent déposés d'une manière identique. Les électrons libres du gaz ionisé sont capturés par le champ électrique alternatif entre les organes adjacents, et oscillent entre ceux-ci lorsque les polarités relatives des orga-40 nés du réseau de Cathode s'inversent. A tout moment, ces électrons 69 17838 6 2009759 sont attirés par les organes 37 qui sont positifs plutôt que par la couche conductrice 46 déposée sur les supports qui sont électriquement isolés du réseau» De cette manière, 1'échauffement des supports 32, par suite du bombardement des électrons, est essen-5 tiellement empêché' sans qu'il soit nécessaire de prévoir des contacts de frottement sur la pellicule déposée afin de polariser négativement les supports. Il en résulte qu'il a été possible d'éli-minerla détérioration de la couche mince déposée que provoque un tel échauffement durant le dépôt continu de couches d'alumininium 10 ayant des épaisseurs supérieures à 0,2 micron. Dans certains cas, l'adhérence et l'uniformité de la . couche d'aliminium 46 peut être améliorée en enroulant un fil 47 (Fig. 4) constitué d'un agent d'ensemencement convenable, par exemple du tantale ou du titane, autour de chacun dés organes 37 du ré-15 seau de cathode. Durant la pulvérisation, ces agents d'ensemencement forment sur le support des dépôts à grains extrêmement petits et ils agissent comme noyaux pour l'aluminium déposé qui formerait autrement un dépôt à grains grossiers. On a également constaté que l'utilisation du réseau 20 de cathode polarisé par une tension alternative élimine-théoriquement le retard (courant) dans les dispositifs de pulvérisation d'aluminium à deux électrodes (entre le moment où le potentiel de pulvérisation est appliqué et le moment où les atomes sont réellement éjectés de la surface de la cible. Cet intervalle de temps, 25 appelé période d'induction, que l'on croit être provoqué par une couche naturelle d'oxyde d'aluminium sur la surface dé la cible avant la pulvérisation, peut normalement durer plusieurs heures. Le montage selon les figures 1 à 3, permet également le dépôt de couches d'alliage, telles que des compositions de tan-30 taie et de silicium. Dans- ce cas, des organes 37 sont alternativement formés de l'un des métaux de l'alliage, les autres organes étant formés de l'autre métal. Un certain contrôle de la composition de l'alliage résultant peut être obtenu en incorporant une source de polarisation continue auxiliaire 48 (Fig. 5) en série 35 avec la source alternative 44» Les organes alternés 37a, 37c et 37e sont plus négatifs en'moyenne que les* autres organes et ils procurent généralement une plus grande partie de la composition de la couche de pulvérisation. ' - -■ Si l'amplitude de la "tension alternative est réduite 40 à zéro et si la tension de la source continue 48 est réglée d'une 69 17838 7 2009759 d'une façon convenable, on obtient un montage de pulvérisation à tension continue dans lequel le support (non représenté) n'est pas bombardé par des électrons puisque le champ de courant continu est appliqué entre des tubes adjacents 37 plutôt qu'entre le réseau de 5 cathode et un support» Il est entendu qu'un tel effet se produit également lorsque tous les tubes sont formés d'un même matériau. Dans" les montages polarisés en courant alternatif que l'on vient de décrire, le courant de cathode maximum, c'est-à-dire le courant total tiré de la source par le réseau d'organes 37 10 (Figo 3) est déterminé par la pression de la chambre d'une manière analogue à celle selon laquelle est déterminé le courant dans le procédé de pulvérisation à deux électrodes. En raison de cette dépendance, la vitesse de dépôt (qui est déterminés grandement par le courant de cathode) ne peut être réglé d'une manière convenable 15 indépendamment de la densité de la couche ; cette dernière est une fonction de la pression dans la chambre, les pressions inférieures correspondant aux densités de couches plus élevées; Le dispositif selon les figures 1 à 3 peut être adapté pour éliminer dans une grande mesure la dépendance de la densi-20 té du courant de cathode par rapport à la pression dans la chambre, de telle sorte que des couches minces ayant une densité de couche prescrite puissent être obtenues avec des vitesses de dépôt plus élevées (et donc une vitesse de traitement plus élevée), que celle qu'il est possible d'obtenir par le procédé de pulvérisation nor-25 mal à deux électrodes. Cela est réalisé comme le montre la figure 1 en prévoyant un organe de polarisation auxiliaire 51, conducteur de l'électricité, dans la chambre 22 à proximité du plan du réseau 36. L»organe auxiliaire 51 est une plaque métallique qui est supportée parallèlement au réseau et qui est connectée élec-30 triquement à celui-ci au moyen d'un bras diélectrique 52 fixé à la paroi verticale adjacente 24 de la chambre 22. L'organe 51 occupe une grande partie de la surface de la chambre 22 dans un plan parallèle au réseau 36 et à la paroi verticale 24. Comme le montre la figure 3, l'organe 51 est polarisé 35 à un potentiel fixe, de polarité choisie, à partir d'une source de polarisation 53j réglable et mise à la masse. On a constaté que,pour une pression donnée quelconque dans la chambre 22, l'utilisation de l'organe de polarisation 51, conjointement au réseau 36 polarisé en courant alternatif, augmente 40 la densité du courant de cathode durant la pulvérisation directement 69 17838 8 2009759 proportionnellement à la tension de la source 53 jusqu'à des tensions de polarisation de plusieurs centaines de volts. Ce phénomène est similaire à celui obtenu par des moyens électromagnétiques relativement complexes dans le procédé de pulvérisation à trois 5 électrodes, dans lequel une cathode thermo-ionique et une anode indépendante sont utilisées pour établir la décharge d'ionisation. Bien que l'explication de ce phénomène d'accroissement du courant ne soit pas complètement connu, on croit que,dans 1«» cadre du montage selon l'invention, l'effet de déformation de l'organe de 10 polarisation 51 sur les champs électriques alternatifs établis dans le réseau 36 augmente la concentration d'ionisation du gaz dans la région du réseau. Des variations typiques du courant de s cathode du réseau 36 en fonction de l'amplitude de la tension de polarisation positive ou négative de l'organe 51 (la tension alter-15 native efficace et la pression dans la chambre étant maintenues constantes à 4,6 kilovolts et 1133 pascals environ, respectivement) sont montrées sur les figures 6 et 7, respectivement. On peut voir sur la figure 6, par exemple, que pour une tension de polarisation positive de 400 volts, l'amélioration de l'ionisation est 20 telle que le courant de cathode est multiplié par 10 environ par rapport à l'état non polarisé. D'une manière similaire, on peut voir sur la figure 7 que l'amélioration de l'ionisation procurée par les tensions de polarisation négatives est un peut moins prononcée pour les tensions de polarisation positives, le courant de 25 cathode atteignant une valeur limite de 2,5 fois le courant à l'état non ionisé pour une tension de polarisation de moins 150 volts. Il va de soi que les courbes des figures 6 et 7 ne sont nullement des courbes universelles applicables à toutes les pressions dans les chambres et à toutes les tensions de cathode. Elles 30 n'ont pour but que de montrer l'effet général des tensions de polarisation appliquées de polarité choisie. On s'attend à ce que l'effet relatif des tensions de polarisation appliquées, en ce qui concerne les valeurs numériques d'amplification du courant de cathode, soit une fonction de la pression dans la chambre, de la ten-35 sion de cathode et des dimensions spécifiques de la forme de l'appareil de pulvérisation. Par exemple, l'influence du diamètre du tube de cathode, 1'écartsment entre les tubes adjacents et l'écar-tement entre la plaque de polarisation et les tubes sont parmi les paramètres du dispositif qui peuvent influencer l'amplification du 40 courant de cathode. 69 17838 9 2009759 La figure 8 montre une autre manière d'utiliser line plaque de polarisation auxiliaire avec le réseau de cathode polarisé en courant alternatif, illustré sur les figures 1 à 3» Dans cette forme de réalisation, la plaque de polarisation (désignée 5 par la référence 54) est disposée derrière le plan du support 32 et à proximité de celui-ci, et elle est polarisée en courant alternatif à partir d'une seconde source de polarisation 56, réglable et mise à la masse. Ce montage assure une amélioration de l'ionisation d'une manière similaire à celle obtenue avec l'organe de 10 polarisation auxiliaire 51 sur la figure 3. Dans ce qui précède, on a supposé que le réseau de cible 36 et les supports 32 étaient plans. Toutefois, d'autres configurations de supports et de cible peuvent être utilisées et notamment la configuration cylindrique. Dans le montage représen-15 té sur la figure 9, dans lequel la chambre de pulvérisation est omise pour la clarté du dessin, le support est constitué par un fil 59 (constitué de cuivre, de béryllium ou d'un matériau analogue) qui doit recevoir un revêtement d'un matériau magnétique ani-sotropique tel que le permalloy. Ainsi qu'il est bien connu, de 20 tels fils revêtus sont utilisés, par exemple, dans les mémoires magnétiques. Le fil 59, comme les supports 32 sur la figure l,peut ordinairement être sujet à un échauffement excessif provoqué par le bombardement des électrons durant la pulvérisation ; toutefois, 25 d'une manière analogue à celle décrite précédemment, ce problème peut être évité er utilisant, pour la cible de cathode, plusieurs organes cylindriques allongés constitués de permalloy 6la-6lh (Fig. 9) s'étendant longitudinalement parallèlement au fil 59 et disposés en un réseau circulaire autour du fil 59, à des intervalles 30 obliques égaux. Les organes 61 sont supportés à leurs extrémités opposées par deux anneaux isolants 62. Comme le montre schématiquement la figure 10, les organes 61a, 61c, 61e et 6lg sont connectés en commun à une borne 63 d'une source de tension alternative 64. Les autres organes 6lb, 35 6ld 6lf et 6lh sont connectés en commun à une autre borne 66 de la source de tension alternative 64» Un cylindre de polarisation auxiliaire 67 (Fig, 9), analogue à la plaque de polarisation 51 sur les figures 1 et 3? est disposé à l'extérieur du réseaa circu}^ire des organes 61 et coaxialement à celui-ci. Bien qu'on ne l'aie, pas 40 représenté d'une manière spécifique, le cylindre 67 est supposé 17838 10 2009759 être connecté à une borne d'une source de tension de polarisation continue dont l'autre borne est connectée à la terre. En raison de la structure fermée de l'électrode de polarisation (c'est-à-dire le cylindre 67) dans ce montage, la source de tension alternative 5 64 (Fig. 10) utilisée pour alimenter les organes 6la à 6lh est constitué de préférence d'un transformateur muni d'une prise médiane connectée à la terre (non représenté ) afin de permettre l'établissement d'une ionisation stable du gaz inerte dans le volume contenu dans le cylindre 67 (Fig» 9), et de permettre en outre, 10 lorsqu'on le désire, un support électriquement flottant. L'anisotropie magnétique requise du fil revêtu 59 est assurée en soumettant le fil à l'action d'un champ magnétique cir- s culaire durant le dépôt de la couche de permalloy. Le champ magnétique peut être établi, avec un minimum d'échauffement du fil, en 15 faisant passer dans le fil 59 un courant continu puisé à faible fréquence et fourni par -une source d'impulsions appropriée 68 par l'intermédiaire d'un commutateur 69. Sans limiter aucunement la généralité du procédé décrit dans ce qui précède, on donnera ci-après un exemple pour il-20 lustrer l'aptitude du procédé selon l'invention à pulvériser des pellicules d'aluminium planesuniformes ayant des épaisseurs à 0,2 microno EXEMPLE: On a utilisé le dispositif représenté sur les figures 25 1 à 3 pour déposer une couche d'aluminium sur des supports de verre de 5 x 7,6 cm, supportés dans une chambre à vide de 30,5 cm x 30,5 cm x 30,5 cm dans un appareil à vide à fonctionnement continu. La chambre était emplie d'argon à une pression de 1133 pascals environ. 30 La cible consistait en six tubes d'aluminium pur à 99,99de 1,3 cm de diamètre, disposés en un réseau plan. Chaque tube présentait une ouverture centrale de 0,45 cm de diamètre pour le passage d'eau de refroidissement. Les tubes étaient écartés d'axe en axe de 3,8 cm» Le plan du réseau était situé à 6,4 cm 35 du plan des supports. Une plaque de polarisation auxiliaire consistant en une feuille d'acier inoxydable de 27,9 cm x 27,9 cm x 0sl6 ;m était placée derrière le réseau et était écartée de celui-ci de 8 s25 cm» La pulvérisation a été effectuée avec une tension de 40 4,6 kilovolts à 60 Hz, appliquée entre les tubes adjacents du 69 T7838 11 2009759 réseau» ije courant de cathode était de 300 milliampères. La plaque auxiliaire était polarisée par une tension positive de 400 volts avec un courant de 1,01 ampère» Dans les tubes circulait de l'eau de refroidissement ayant une température de 19|5°C à l'entrée et 5 une vitesse de 11,44 cm par1seconde» Dans ces conditions on a pulvérisé une couche d'aluminium ayant une épaisseur nominale de 0,4280 micron sur deux supports disposés en face des tubes centraux du réseau, Le support était maintenu fixe durant le dépôt» 10 Après le dépôt on a mesuré l'épaisseur de la couche en trois endroits de la couche par un procédé de profilimétrie classique. On a également mesuré la résistivité de feuille de la couche en trois endroits de celle-ci au moyen d'une sonde à quatre points. 1$ On a constaté que la variation totale d'épaisseur de la couche d'aluminium était de + 1,9 % tandis que la variation de résistivité de feuille était négligeable. La température du support durant la phase de dépôt n'avait également augmentée que de façon négligeable. 20 Durant la pulvérisation, la température de sortie de l'eau de refroidissement s'est stabilisée 4l,0°C, soit à une valeur supérieure de 21,5°C à sa température d'entrée. Pour une puissance d'entrée à la cathode de 4>6 x 3 = 1>38 kW, cet accroissement de température de l'eau était équivalent à une dissipation de 74 % 25 de la puissance d'entrée sous forme de chaleur dans l'eau de refroidissement» Si on le désire, le réseau de cathode peut avantageu-. sement être prévu pour pulvériser des couches isolantes telles que des couches de bioxyde de silicium. On prévoit pour ce faire des 30 contre-organes conducteurs appropriés pouvant servir de bornes pour les organes diélectriques du réseau, et on superpose une tension à fréquence radioélectrique à la tension de pulvérisation alternative à 60 hertz. D'autres modifications peuvent encore être apportées,comme par exemple celle qui consiste à utiliser des 35 champs magnétiques extérieurs, ou des supports électriquement flottants (avec ou sans polarisation appliquée) et à adopter d'au-.très formes géométriques pour les organes de cathode et les élec» trodes de polarisation» 69 17838 12- 2009759 REVENDICATIONS lo- Procédé de pulvérisation d'un film (46) sur un support (32) à partir de plusieurs paires d'organes conducteurs parallèles écartés les uns des autres (37a - 37f)» disposés symé-5 triquement par rapport au support, caractérisé en ce qu'on applique une tension de pulvérisation alternative (44) entre les éléments de chaque paire d'organes (37a-37b ; 37b-37c ; 37c-37d ; etc..) afin de pulvériser sur le support un matériau (46) provenant de l'élément de chaque paire, qui, à chaque instant, est négatif 10 et d'établir entre les éléments de chaque paire d'organes un champ électrique oscillant afin d'empêcher le bombardement du support par les électrons. 2.-Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on déforme le champ électrique oscillant dans la région com- 15 prise entre les éléments (37a-37f) afin d'augmenter la densité de courant dans chaque élémeût de manière à augmenter la vitesse de pulvérisation. 3.- Procédé selon l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce qu'on imprime un déplacement relatif en- 20 tre les paires d'organes (37a-37d ; etc...) et le support (32) afin de revêtir du matériau pulvérisé; des régions successives du support. 4o- Procédé selon l'une ou l'autre des revendications précédentes, caractérisé en ce que le support est plan. 25 5.- Procédé selon l'une ou l'autre des revendica tions 1 à 3» caractérisé en ce que le support est cylindrique. 6.~ Procédé selon l'une ou l'autre des revendications précédentes, caractérisé en ce que les organes sont alternativement constitués de matériaux différents et sont alternativement 30 portés à des potentiels continus différents. 7«- Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'on utilise un organe de polarisation auxiliaire, conducteur de l'électricité (51 ou 54) porté à un potentiel fixe de polarité choisie afin de déformer ledit champ électrique oscillant. 35 Dispositif pour mettre en oeuvre le procédé se lon la revendication 1.