電子束誘導沉積

電子束誘導沉積 （ Electron beam - induced deposition ， EBID ） 是一種使用電子束分解氣相分子 ， 從而在襯底上的特定位置實現沉積生長的技術 。 電子束誘導沉積實驗中的電子束常常由掃描電子顯微鏡提供 。 這是因爲掃描電子顯微鏡的電子束具有極高的空間精準度 （ 可達納米級別 ） ； 這也使得電子束誘導沉積具有生長出獨立三維結構的潛能 。