90納米制程

90納米制程是半導體制造製程的一個水平 ， 大約於2004年至2005年左右達成 。 這一製程由當時領先的半導體公司如英特爾 、 AMD 、 英飛凌 、 德州儀器 、 IBM和臺積電所完成 。 許多廠商使用了193納米的波長來進行關鍵層級的光刻 。 此外 ， 12英寸晶圓在這個製程上成爲主流 。