65納米制程

65納米制程是半導體制程的一個技術水平 。 至2007年 ， 英特爾 、 AMD 、 IBM 、 聯華電子 、 特許半導體和臺積電等公司已有能力進行65納米制程的量產 。 當製程進入65納米之時 ， 用於進行光刻的光的波長是193納米和248納米 。 具有低於光波波長的製造廠要求使用一些特殊技術 ， 比如光學鄰近校正和相位移掩膜板技術 。 此外 ， 12英寸晶圓在此製程開始成爲主流 。