45納米制程

45納米制程是半導體制造製程的一個水平 。 自2007年後期 ， 松下電器和英特爾開始大量製造45納米的芯片產品 。 芯片製造廠商使用High - k材料來填充柵極 ， 目的是爲了減少漏電 。 至2007年 ， IBM和英特爾宣佈他們採用了金屬柵極解決方案 。 2020年 ， 華爲擬在上海建設不使用美國技術的晶片工廠 ， 預期工廠將從低端45納米晶片做起 。