背向散射電子繞射技術

背向散射電子繞射技術 （ Electron Back Scatter Diffraction, EBSD ） 是一種利用繞射電子束來鑑別樣品結晶學方位的技術 。 掛載在掃描式電子顯微鏡 （ Scanning Electron Microscopy, SEM ） 中 ， 傾斜角度約70度 ， 加速後的電子束射入樣品中 ， 產生反彈的背向散射電子 ， 經過表面晶體結構繞射 ， 攜帶著樣品表面的晶粒方位的資訊 ， 進入探測器中 ， 藉此判斷其每一顆晶粒的方向性 。 在知道每一顆晶粒的方位後 ， 因此可用在判斷晶界 （ Grain boundary ） 、 相鑑別 （ Phase identification ） 、 晶粒方向 （ Orientation ） 、 織構 （ Texture ） 及應變 （ Strain ） 的分析方法 。 Category: 科學技術 Category: 繞射 Category: 光譜學