磁控濺射

磁控濺射或磁控濺射法 、 磁控濺射技術  是在濺射的基礎上 ， 運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用 ， 在靶板附近添加磁場 ， 使得二次電子電離出更多的氬離子 ， 增加濺射效率 。 磁控濺射分爲平衡式與不平衡式 。 這種技術應用於材料鍍膜 。 其中高功率脈衝磁控濺射 （ 或 ） 近來使用較爲普遍 。