反應離子刻蝕

反應離子蝕刻 （ 英文 ： Reactive - Ion Etching ， 或簡寫爲RIE ） 是一種半導體生產加工工藝 ， 它利用由等離子體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料 ， 來達到刻蝕的目的 。 氣體在低壓 （ 真空 ) 環境下由電磁場產生 ， 等離子體中的高能離子轟擊晶片表面並與之反應 。