光刻機

曝光機  是製造微機電 、 光電 、 二極體大規模集成電路的關鍵設備 。 可以分爲兩種 ， 分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner ， 曝光時模板緊貼晶圓 ； 以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機  或掃描式光刻機  ， 獲得比模板更小的曝光圖樣 。