光罩護膜

光罩護膜 （ Pellicle ） ， 即表示是光罩上的膜或薄膜的意思 ， 結構爲一薄膜展開在框架上 ， 以免於光罩受到微塵或揮發性氣體的污染 。 自1970年代後期即開始發展 ， 早期的保護膜大都使用硝化纖維素 ， 其波長在350 ～ 450nm ， 折射率約爲 1.5 ， 厚度則 2.85 mm 。 因爲硝化纖維素在小於350nm的波長有明顯的吸收能力 ， 所以KrF ( 248nm ) 、 ArF ( 193nm ) 的保護膜則使用非結晶之氟聚合物材質 （ 如鐵氟龍 、 Cytop ） ， 但是上述的兩個材料的折射率皆很低 ， 248nm的折射率約爲 1.34 ， 193nm 則約 1.40 ， 因此很難找到效果良好的抗反射塗層 ， 因此單層薄膜在這些波長下是最常見的 。 「 抗反射塗層 」 （ 成份爲氟化鈣或氟碳化合物 ） ， 通常會塗在保護膜的一側或兩側 ， 以提高透光率之用 。 在目前逐步踏入EUV的世代 ， 因爲其波長僅有 13.5 nm ， 以往所使用的 「 光罩護膜 」 將會吸收此光源的波長 ， 然而據報導指出ASML是唯一成功開發出商用的 「 EUV保護膜 」 的製造商 ， 也在2019年與日本三井化學公司簽署EUV光罩護膜組裝技術的授權 。