對映體過剩率

對映體過剩率 ， 常用ee表示 ， 即enantiomeric excess的縮寫 。 定義爲在對映體混合物中一個異構體a比另一個異構體b多出來的量佔總量的百分數 。 算式如下 ： 對映體過剩率用來表示一種手性化合物的光學純度 。 ee值越高 ， 光學純度也越高 。 對映體過剩率產生於核磁共振技術以前 。 當時人們無法測量對映體的絕對含量 ， 於是就用對映體過剩率來表示光學純度 。 而現在人們可以做到測量對映體的絕對含量 ， 所以有人建議逐漸廢除對映體過剩率這個概念 。