脈衝激光沉積

脈衝雷射沉積 ( PLD ） ， 也被稱爲脈衝雷射燒蝕 ( PLA ） 爲物理氣相沉積 ( ， PVD ) 的一種, 是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊 ， 由於雷射能量極強 ， 會將靶材汽化形成電漿蕈狀團 ( plasma plume ) ， 並沉澱於基板上形成薄膜 。 於鍍膜可於高真空 、 超高真空或通入工作氣體 的環境下進行 。 於脈衝雷射沉積的過程中 ， 雷射的能量被靶材吸收之後 ， 能量首先激發靶材內部的電子躍遷 ， 之後再轉成熱能等使靶材汽化形成電漿態 ， 於電漿雲中 ， 包含分子 、 原子 、 電子 、 離子 、 微粒 、 融球體等物質 。 Category: 半導體物理學 Category: 薄膜沉積 Category: 雷射機械加工 Category: 雷射應用