有機金屬化學氣相沉積法

有機金屬化學氣相沉積法 ， 是在基板上成長半導體薄膜的一種方法 。 其他類似的名稱如 ： 、 及等等 ， 其中的前兩個字母 或是 ， 指的是半導體薄膜成長過程中所採用的反應源爲金屬化合物 或是有機金屬化合物 。 而後面三個字母 或是 ， 指的是所成長的半導體薄膜的特性是屬於非晶形薄膜或是具有晶形的薄膜 。 一般而言 ， 所指的是非晶形薄膜的成長 ， 這種成長方式歸類於 " 沉積 " ( Deposition ) ； 而所指的是具有晶形的薄膜成長方式 ， 這種方式歸類於 " 磊晶 " ( Epitaxy ) 。