橢圓偏振技術

橢圓偏振技術 （ ellipsometry ） 是一種多功能和強大的光學技術 ， 可用以取得薄膜的介電性質 （ 複數折射率或介電常數 ） 。 它已被應用在許多不同的領域 ， 從基礎研究到工業應用 ， 如半導體物理研究 、 微電子學和生物學 。 橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質測量技術 ， 且具有非破壞性和非接觸之優點 。 分析自樣品反射之偏振光的改變 ， 橢圓偏振技術可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊 ， 小至一個單原子層 ， 甚至更小 。 橢圓儀可測得複數折射率或介電函數張量 ， 可以此獲得基本的物理參數 ， 並且這與各種樣品的性質 ， 包括形態 、 晶體質量 、 化學成分或導電性 ， 有所關聯 。 它常被用來鑑定單層或多層堆疊的薄膜厚度 ， 可量測厚度由數埃 （ Angstrom ） 或數奈米到幾微米皆有極佳的準確性 。 之所以命名爲橢圓偏振 ， 是因爲一般大部分的偏振多是橢圓的 。 此技術已發展近百年 ， 現在已有許多標準化的應用 。 然而 ， 橢圓偏振技術對於在其他學科如生物學和醫學領域引起研究人員的興趣 ， 並帶來新的挑戰 。 例如以此測量不穩定的液體表面和顯微成像 。