原子層沉積

原子層沉積 （ 英文 ： Atomic layer deposition ） 是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法 。 原子層沉積與普通的化學沉積 （ 化學氣相沉積 ） 有相似之處 。 但在原子層沉積過程中 ， 新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的 ， 這種方式使每次反應只沉積一層原子 。 原子層沉積的主要反應物有兩種化學物質 ， 通常被稱作前驅物 。 前驅產物和材料表面發生連續的 ， 自限性的反應 。 薄膜通過分別和不同的前驅產物進行反應緩慢沉積 。 原子層沉積是關鍵的半導體設備裝配方法 ， 也可以成爲一些納米材料合成方法中的一環 。