化學氣相沉積

化學氣相沉積 （ chemical vapor deposition ， 簡稱CVD ） 是一種用來產生純度高 、 性能好的固態材料的化學技術 。 半導體產業使用此技術來成長薄膜 。 典型的CVD製程是將晶圓 （ 基底 ） 暴露在一種或多種不同的前趨物下 ， 在基底表面發生化學反應或 / 及化學分解來產生欲沉積的薄膜 。 反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品 ， 但大多會隨著氣流被帶走 ， 而不會留在反應腔 （ reaction chamber ） 中 。 微製程大都使用CVD技術來沉積不同形式的材料 ， 包括單晶 、 多晶 、 非晶及磊晶材料 。 這些材料有硅 、 碳纖維 、 碳奈米纖維 、 奈米線 、 奈米碳管 、 SiO2 、 硅鍺 、 鎢 、 硅碳 、 氮化硅 、 氮氧化硅及各種不同的等材料 。 CVD製程也常用來生成合成鑽石 。