光刻

微影製程 （ photolithography ） 是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟 ， 該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構 ， 然後通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上 。 這裏所說的襯底不僅包含矽晶圓 ， 還可以是其他金屬層 、 介質層 ， 例如玻璃 、 SOS中的藍寶石 。