消耗和成本等因素。纳米光刻技术有三种基本方法。一种是使用一种抗蚀材料，这种材料作为 "掩模 "来覆盖和保护表面上需要光滑的部分。现在可以蚀刻掉未覆盖的部分，并用保护材料作为模板。第二种方法是直接雕刻所需的图案。蚀刻可能涉及使用，如电子或光，或化学方法，如氧化或等。第三种方法是将所需的图案直接放置在表面上，产生最终产品，比原来的表面厚几纳米。为了使要制作的表面可视化，必须用纳米分辨率的显微镜对表面进行可视化，这两种显微镜包括（SPM）和原子力显微镜（AFM）。这两种显微镜也可以参与最终产品的加工。Sect