改良（CTI）与共用电晶体技术（STT）引入硅锗绝缘（SGoI）的65纳米SOI制程来制造K10架构（包括Turion/Turion 64在内，架构系列号为11h）的处理器晶片，以缩小其晶片面积和降低处理器的耗电量。2008年开始，在国际商业机器（IBM）的协助下，超微导入45纳米SOI Ultra-LKMG 制程，但仍未使用HKMG技术，主要用于生产Phenom II系列、Athlon II系列的处理器。2010年，由超微晶片制造事业部拆分出来的格罗方德（GlobalFoundries）开始导入32纳