反应。后来爱伯特·亨纳（Albert Henne）将上述的反应变成二阶段的反应，第一阶段用溴仿和三氟化锑合成一溴二氟甲烷，再和氟化汞反应产生三氟甲烷，这是第一个有效率制备三氟甲烷的方法。
工业应用.在半导体产业中，三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的（plasma etching）中。三氟甲烷也是一种制冷剂（冷媒），名称为R-23或HFC-23，因为其不含氯，不会造成臭氧层破洞，有时会用来会取代造成臭氧层破洞的三氟氯甲烷（cfc-13）。三氟甲烷因为其低毒性、不容易反应及高密度，可用