用.蚀刻在半导体制造工业中，用于制造集成电路；在航空航天工业中使用，可以在表面铣出凹坑、网格、筋条的薄壁件。 
过程.化学铣切有五个步骤：清洁、掩蔽、划线、蚀刻和解蔽。
常见的腐蚀剂.对于铝材可使用氢氧化钠。对于钢材可使用盐酸和硝酸；对不锈钢可使用氯化铁；对低碳钢可使用硝酸乙醇（由硝酸和乙醇，甲醇，或甲基化酒精组成的混合物）。普通碳素钢常用2％的硝酸酒精。对于铜材可使用氯化铜、氯化铁、过硫酸铵、氨、25-50％的硝酸、盐酸和过氧化氢的混合物等。