1，其化学式为CHF，在常温常压下是无毒、可液化的可燃气体，是甲烷的一氟取代物。氟甲烷用在半导体及电子产品的制程中，在射频场下氟甲烷会溶解氟离子，可选择性的蚀刻硅化合物的薄膜，即反应性离子蚀刻()。
性质.在氟甲烷中，C-F键的键能为552 kJ/mol，其键长为0.139 nm(典型的C-F键键长为0.14 nm)。分子构型为四面体。氟甲烷25度时的比热C为38.171 J.mol.K。临界点为44.9 °C (318.1 K)及6.280 MPa。氟甲烷是温室气体，其全