光阻胶（），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是微影工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和半导体分立器件的细微图形加工。
光刻胶的类别.光刻胶根据在显影过程中曝光区域的去除或保留可分为两种－正性光刻胶（positive photoresist）和负性光刻胶（negative photoresist）。
光阻剂组分.光阻剂通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)进