tron beam-induced deposition，EBID）是一种使用电子束分解气相分子，从而在衬底上的特定位置实现沉积生长的技术。电子束诱导沉积实验中的电子束常常由扫描电子显微镜提供。这是因为扫描电子显微镜的电子束具有极高的空间精准度（可达纳米级别）；这也使得电子束诱导沉积具有生长出独立三维结构的潜能。
实验流程.电子束诱导沉积中的电子束往往由扫描电子显微镜或提供，而离子束诱导沉积（IBID）则用代替了电子束。前体材料一般是液体或固体；在沉积实验前，前体材料会被汽化或