曝光机（）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（）或扫描式光刻机（），获得比模板更小的曝光图样。
概要.生产集成电路的简要步骤：其中曝光机就是利用紫外线波长的准分子激光通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利