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分析技术.表面的研究和分析涉及物理的和化学的分析技术。几种现代方法探测暴露于真空的最上面1-10nm的表面。这些包括X射线光电子能谱法，俄歇电子能谱法，低能电子衍射法（LEED），电子能量损失谱法，法，离子散射谱法，二次离子质谱法，法，以及其他。许多这些技术需要真空，因为它们依赖于从所研究的表面发射的电子或离子的检测。纯光学技术可用于在各种条件下研究界面。X射线散射和光谱技术也用于表征表面和界面。X射线光电子能谱学（XPS）是用于测量表面物质的化学状态和用于检测