b、Ni、Os、Pd、Pt、Rh、Ru、Re、Si、SiN、SiO、TiO和W，且还在继续发展。最常用的前体是 Me(CO) 结构的金属羰基配合物或茂金属：虽然它们易于制备，但是由于 CO 配体中的碳原子较多，导致沉积的目标金属含量较低。金属卤化物（例如WF）作为前体的沉积较 Me(CO) 更为干净，但由于它们一般有毒且有腐蚀性，导致沉积的过程较难掌握。化合物的沉积一般会用到一些特别的工艺与气体，例如用 DGaN 来沉积 GaN。
离子束诱导沉积.离子束诱导沉积（Ion bea