说明。
真空蒸镀的原理.在达真空的容器中、将欲蒸镀的材料加热直至汽化昇华、并使此气体附着于放置在附近的基板表面上、形成一层薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO、TiO、ZrO、MgF等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。成膜时依基板与蒸镀材料可先使用RF等离子与离子枪照射来使蒸镀有更高的密着度。但是、被蒸