形式的微影(光刻)技术（如光刻和电子束光刻）。 它们包括以下内容：1.更低的成本比传统微影技术大量生产。2.非常适合应用在生物技术。3.非常适合应用在塑胶电子。4.非常适合于超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。5.不需要制作光罩，即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的（30〜100纳米）差不多。
缺点.现在的积体电路包含了好几层不同的材料，PDMS压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差，也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭