温度下的气相氟化反应：四氟化钍有多种水合物。含水最多的是ThF·xHO（x=2.5-3.0），受热时会分解成ThF·0.25HO。继续真空加热则生成无水四氟化钍。四氟化钍可以形成[ThF]配合物。
用途.尽管具有轻微的放射性，四氟化钍还是被用作多层光学涂层中的抗辐射材料。它具有卓越的光学透明度，大约是0.35–12 µm。而它的辐射主要是α粒子引起的，可以轻易地用一薄层其他材料遮挡住，以免对人体造成伤害。 四氟化钍还用于制造碳弧灯，这为电影放映机和探照灯提供了高强度的光