tion::::基本原理.此技术系在测量光在入射样品时，其反射光偏振性质与入射光偏振性质的改变。通常，椭圆偏振在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电函数，来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。逾越上述的假设，则会不符标准椭圆偏振之处理程序，因而将需要对此技术