90纳米制程是半导体制造制程的一个水平，大约于2004年至2005年左右达成。 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔、AMD、英飞凌、德州仪器、IBM和台积电所完成。许多厂商使用了193纳米的波长来进行关键层级的光刻。此外，12英寸晶圆在这个制程上成为主流。