易斯酸，能得到更好的结果，并可生产外异构体。
微电子应用.HfCl曾作为化学气相沉积和原子层沉积的一种前体，以生成二氧化铪和硅酸铪，它们在制造现代高密度集成电路时用作高κ电介质。然而，由于其相对较低的挥发性和腐蚀性的副产物（即HCl），HfCl为金属有机前体所淘汰，例如四(乙基甲基氨基)铪（TEMAH）。