极紫外光微影、超紫外线平版印刷术（，亦称EUV或EUVL）是一种使用极紫外光（EUV）波长的技术，目前使用7纳米，2020年得到广泛应用 。透过高能量、波长短的光源，将电路图案转印到晶圆的光阻剂涂层。EUV光源波长比目前DUV（深紫外线微影）的光源波长短，约为15分之1，因此能使用于线距更小电路图案的曝光上。然而EUV光罩与传统的光罩截然不同，当採用13.5nm波长的极紫外光微影技术时，所有的光罩材料都是不透光的，因此具复合多涂层反射镜的光罩可将电路图案反射到晶圆上。这种多层膜EUV光罩一方面可维持光罩