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硬烘干.光阻显影完成后，图形就基本确定，不过还需要使光阻的性质更为稳定。硬烘干可以达到这个目的，这一步骤也被称为坚膜。在这过程中，利用高温处理，可以除去光阻中剩余的溶剂、增强光阻对硅片表面的附着力，同时提高光阻在随后刻蚀和离子注入过程中的抗蚀性能力。另外，高温下光阻将软化，形成类似玻璃体在高温下的熔融状态。这会使光阻表面在表面张力作用下圆滑化，并使光阻层中的缺陷（如针孔）减少，这样修正光阻图形的边缘轮廓。
光阻的去除.这一步骤简称去胶。刻蚀或离子注入之