ection::::真空沉积.成膜时依基板与沉积材料可先使用RF等离子与离子枪照射来使沉积有更高的密着度。但是、被沉积物是树脂的时候这样做会造成反效果，因此在被沉积物的材质不明确下必须进行调查与事前的实验以免造成失败。RF等离子加工法为真空槽内加入氩与氧气，使已经离子化的被沉积物表面变质（RF离子化）。而离子枪加工法是在离子枪内部加入氩与氧气后在离子化的基板表面设置开有φ1mm左右小孔的画素电极，而后将离子枪往该处照射进行加工（IAD：Ion Assist Deposition）将容器真空化的作用