合应用在塑胶电子。4.非常适合于超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。5.不需要制作光罩，即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的（30〜100纳米）差不多。
缺点.现在的积体电路包含了好几层不同的材料，PDMS压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差，也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭曲，都会损坏多层奈米电子装置。因此，软蚀刻法不适合制造需要精准堆叠的多层结构。此缺点可借热压成形式奈米压印或步进光感式奈米压印来改善之。