分为物理沉积（PVD）与化学沉积(CVD)两种。在高真空的容器中、将欲沉积的材料加热直至汽化升华、并使此气体附着于放置在附近的基板表面上、形成一层薄膜。依沉积材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。沉积材料有铝、锌、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO、TiO、ZrO、MgF等氧化物与氟化物。沉积除金属外，树脂和树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可沉积。
真空沉积.成膜时依基板与沉积材料可先使用RF等离子与离子