tion::::单层自组装.纳米光刻的方法之一是使用自组装单层膜（SAM）的方法，该方法为软方法。SAM是各种长链，可在金表面自组装，形成有序的单层膜。这种方法的优点是创造一个高质量的结构，其横向尺寸为5纳米到500纳米。在这种方法中，通常使用由聚二甲基硅氧烷（PDMS）制成的图案化弹性体作为掩膜。为了制作PDMS印章，第一步是在硅晶片上涂覆一层光致抗蚀剂。下一步是用紫外光曝光该层，然后用显影剂洗掉曝光的光刻胶。为了降低预聚物的厚度，在图案母材上用全氟烷基三氯硅烷处理，这些PDMS弹性体可用于在平面和曲面