）是指将金属和氧化物等蒸发，使其于素材的表面附着形成一层薄膜的一种方法。蒸镀可大略分为物理蒸镀（PVD）与化学蒸镀(CVD)两种。接下来以PVD的一种真空蒸镀来说明。
真空蒸镀的原理.在达真空的容器中、将欲蒸镀的材料加热直至汽化昇华、并使此气体附着于放置在附近的基板表面上、形成一层薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO、TiO、ZrO、MgF等氧