司的主要产品是用来生产大规模积体电路的核心设备曝光机。在世界同类产品中有90%的市佔率，在10奈米节点以下有100%的市佔率。
概要.1984年从荷兰着名电子制造商飞利浦独立，此后致力于大规模积体电路制造设备的研究和制造。根据摩尔定律不断为提高单位面积集成度作贡献。2007年已经能够提供制造37nm线宽积体电路的光刻机。制造大规模积体电路时要对半导体晶圆曝光3、40次。为在不降低品质的情况下减少曝光次数，阿斯麦公司在曝光机上使用德国蔡斯公司的光路系统，镜头使用萤石和石英制造。