蚀刻或清洁等。借由原位技术，可使取得基本过程随时间变化之光学特性参数，如成长或蚀刻速率。原位椭圆偏振的量测，需有许多额外的考量：光点要进入处理腔室并打到样品，比起"ex situ"在腔室外的测量，更为不易。因此，其机械装置可能得外加光学元件（镜子、稜镜或透镜）以调整光束，将其重新导向或聚焦。由于过程中之环境可能会很严苛，椭圆偏振装置中较外敏感之光学元件需注意自高热区域中隔离。最简单的情形可借由光学窗口，透过採用张力诱导之双折射（玻璃）窗来达成。此外，可提升样品温度，比较其高温时之光学性质与常温下之差异。仅管