在传统的"浸没"型PIII系统（也称为"二极"型结构）中，晶片保持负电位，正电性等离子体中的带正电荷的离子进行注入。被处理的晶片试样放置于真空室中的样品架上。样品架与高压电源相连并与器壁绝缘。通过抽气进气系统，可获得工作气体在适当压力下的气氛。.当基体加上负偏压（几千伏）时，所产生的电压在电子等离子体的响应时间尺度ω内 ( ~ l0 sec)将电子从基体表面排斥开。这样在基体表面就会形成缺少电子的离子阵德拜鞘层。到达离子等离子体响应时间尺度ω ( ~ 10 sec)后，负偏压的基体将会使离子加速。离子