放.过去数十年来，金氧半场效电晶体的尺寸不断地变小。早期的积体电路金氧半场效电晶体制程里，通道长度约在几个微米的等级。但是到了今日的积体电路制程，这个参数已经缩小到了几十分之一甚至一百分之一。2008年初，Intel开始以45奈米的技术来制造新一代的微处理器，实际的元件通道长度可能比这个数字还小一些。至90年代末，金氧半场效电晶体尺寸不断缩小，让积体电路的效能大大提升，而从历史的角度来看，这些技术上的突破和半导体制程的进步有着密不可分的关系。
金氧半场效电晶体的尺寸缩小.基于以下