方法。这种方法是当初第一次被哈佛大学的乔治·怀特塞兹和Amit Kumar提出的。基于这种方法的提出，很多其他软光刻技术方法也陆续的出现了。
步骤.
模板的备制.模板的备制使用的是传统的光刻。模板一般都是在硅材料上完成的，但也可以在其他固体表面上完成。光致抗蚀剂被提供到表面，并使用紫外光和光罩来完成制备。模板需要在使用以前经过烘烤，曝光，清洁的程序。一般的制备过程里，光致抗蚀剂都被保存于晶体上，以被用做地形模板。然而，不经保护的硅材料可能会被腐蚀，光致抗蚀剂可