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工业应用.在半导体产业中，三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的（plasma etching）中。三氟甲烷也是一种制冷剂（冷媒），名称为R-23或HFC-23，因为其不含氯，不会造成臭氧层破洞，有时会用来会取代造成臭氧层破洞的三氟氯甲烷（cfc-13）。三氟甲烷因为其低毒性、不容易反应及高密度，可用作灭火剂使用。此时常使用杜邦的商标名称FE-13代表三氟甲烷。三氟甲烷过去曾用来取代气体灭火系统中的海龙1301（cfc-13b1）。
有机化学.三氟甲烷在去