FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: where the K factor = 0,35
French: où le facteur K = 0,35.
Spanish: siendo el factor K = 0,35.
Italian: dove il fattore K = 0,35
Dutch: waarbij de K-factor = 0,35
Danish: hvor K-faktor = 0,35.
Swedish: där K är en skalfaktor = 0,35
Finnish: jossa: K kerroin = 0,35
Greek: όπου ο συντελεστής K = 0,35.
Czech: kde K faktor = 0,35
Slovak: kde faktor K = 0,35,
Hungarian: ahol »K« faktor = 0,35
Slovenian: pri čemer je faktor K = 0,35
Romanian: unde factorul K = 0,35
Bulgarian: където факторът К = 0,35
Estonian: kus K tegur = 0,35
Latvian: b. spēj formēt trafaretattēlu ar ‘mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ (MRF) 95 nm vai mazāku; Tehniska piezīme ‘Mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ (MRF) aprēķina ar šādu formulu: MRF =ekspozīcijas gaismas avota viļņu garums nm × K koeficients ciparu aparatūra
Lithuanian: kur K faktorius = 0,35;
Maltese: fejn il-fattur K = 0,35
English: Imprint lithography equipment capable of producing features of 95 nm or less;
French: équipements de lithographie par impression capables de produire des éléments égaux ou inférieurs à 95 nm;
Spanish: Equipos de impresión litográfica que puedan producir características de 95 nm de base o menos:
Italian: apparecchiature di impressione litografica in grado di produrre elementi uguali o inferiori a 95 nm;
Dutch: apparatuur voor imprintlithografie die structuren van 95 nm of minder kan produceren;
Danish: Litografisk udstyr til prægning, der kan frembringe detaljer på 95 nm eller mindre
Swedish: Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 95 nm eller mindre.
Finnish: Kohokuviointilaitteet, joilla pystytään tuottamaan kuvioita, joiden koko on 95 nm tai vähemmän;
Greek: Εξοπλισμός εντυπωτικής λιθογραφίας ικανός να παράγει λεπτομέρειες διαστάσεων 95 nm και κάτω.
Czech: Vybavení pro tiskovou litografii schopné vyrábět struktury o velikosti 95 nm nebo menší;
Slovak: Tlačiarenské litografické zariadenia schopné vytvoriť detaily veľkosti 95 nm alebo menej.
Hungarian: 95 nm vagy annál kisebb felbontási méretű minta létrehozására képes imprinting litográfiai berendezés;
Slovenian: tiskarska litografska oprema, s katero se lahko tiska podobe z največ 95 nm;
Romanian: echipamente de litografie cu imprimare, capabile să producă elemente de 95 nm sau mai mici;
Bulgarian: Оборудване за литографски печат, способно да печата елементи от 95 nm или по-малки;
Estonian: Jäljendi litograafiaseadmed, mis on võimelised tekitama kujutisi mõõtmetega 95 nm või vähem;
Lithuanian: Litografinės spaudos įranga, kuria galima sukurti 98 nm ar mažesnes savybes;
Maltese: Tagħmir litografiku tal-istampar li kapaċi jipproduċi elementi ta’ 95 nm jew inqas;
English: f.2. includes:
French: L’alinéa 3B001.f.2 inclut:
Spanish: f.2. incluye:
Italian: f.2 comprende:
Dutch: 001 f)2 omvat:
Danish: f.2. omfatter
Swedish: Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:
Finnish: f.2 kohtaan sisältyvät:
Greek: Στο σημείο 3Β001.στ.2. περιλαμβάνονται:
Czech: Položka 3B001.f.2 zahrnuje:
Slovak: 2 zahŕňa:
Hungarian: a 3B001.f.2. pont magában foglalja az alábbiakat:
Slovenian: Točka 3B001(f)(2) zajema:
Romanian: f.2 include:
Bulgarian: f.2. включва:
Estonian: punkt 3B001.f.2 hõlmab:
Lithuanian: f.2 apima:
Maltese: f.2. jinkludi:
English: Micro contact printing tools
French: les outils d’impression par microcontact,
Spanish: Instrumentos de impresión por microcontacto
Italian: dispositivi di stampa a microcontatto,
Dutch: apparatuur voor microcontactdruk,
Danish: Mikrokontakttrykkeredskaber
Swedish: Verktyg för mikrokontakttryck.
Finnish: Pehmytkuviointivälineet
Greek: Τα εργαλεία τυπογραφίας μικροεπαφής,
Czech: Mikrokontaktní tiskové nástroje
Slovak: mikrokontaktné tlačiarenské nástroje,
Hungarian: mikrokontaktus-nyomtatók
Slovenian: mikrokontaktno tiskarsko orodje
Romanian: utilaje de imprimare cu microcontact;
Bulgarian: Инструменти за микроконтактен печат
Estonian: mikrokontakttrükiseadmed,
Lithuanian: mikrokontaktinius spaudos įtaisus
Maltese: Għodod tal-istampar bil-mikro kuntatt
English: Hot embossing tools
French: les outils de gaufrage à chaud,
Spanish: Instrumentos de troquelado en caliente
Italian: dispositivi di termoimpressione,
Dutch: apparatuur voor warm pregen (hot embossing),
Danish: Varmeprægningsredskaber
Swedish: Verktyg för värmeprägling.
Finnish: Kuumapakotusvälineet
Greek: Τα εργαλεία θερμοεντύπωσης,
Czech: Nástroje pro ražení za tepla
Slovak: nástroje na horúcu razbu,
Hungarian: forró dombornyomásra szolgáló eszközök
Slovenian: vroča reliefna orodja
Romanian: utilaje de imprimare la cald;
Bulgarian: Инструменти за горещо щамповане
Estonian: kuumreljeeftrükiseadmed (hot embossing tools),
Lithuanian: karštos reljefinės spaudos įrankius
Maltese: Għodod tal-intaljar bis-sħana
English: Nano-imprint lithography tools
French: les outils de lithographie par nanoimpression,
Spanish: Instrumentos de nanoimpresión litográfica
Italian: dispositivi litografici per nanostampa,
Dutch: apparatuur voor nano-imprintlithografie,
Danish: Litografiske redskaber til nanoprægning
Swedish: Verktyg för nanopräglingslitografi.
Finnish: Nanomuokkauskuviointivälineet
Greek: Τα εργαλεία νανοεντυπωτικής λιθογραφίας,
Czech: Nástroje pro nanotiskovou litografii
Slovak: litografické nástroje na tlač v nanorozmeroch,
Hungarian: nano-imprinting litográfiai eszközök
Slovenian: nanotiskarska litografska orodja
Romanian: utilaje de nanoimprimare litografică;
Bulgarian: Инструменти за литографски нанопечат
Estonian: nanojäljendi litograafiaseadmed (nano-imprint lithography tools),
Lithuanian: nanoįspaudimo litografijos įrankius
Maltese: Għodod litografiċi għan-nano-stampar
English: Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
French: les outils de lithographie par impression “step and flash”.
Spanish: Instrumentos de impresión litográfica S-FIL (step and flash)
Italian: dispositivi di impressione litografica Step and Flash (S-FIL).
Dutch: apparatuur voor S-FIL (Step and flash imprint lithography).
Danish: Litografiske (S-FIL) redskaber til step-and-flash-prægning
Swedish: S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).
Finnish: Step and flash -kuviointi (S-FIL) -välineet
Greek: Τα εργαλεία εντυπωτικής λιθογραφίας με βήμα και λάμψη (step-and-flash)
Czech: Nástroje pro tiskovou litografii technikou „Step and flash“ (S-FIL)
Slovak: tlačiarenské litografické nástroje „step and flash“ (SFIL).
Hungarian: Step and Flesh imprinting litográfiai (S-FIL) eszközök
Slovenian: ‚step and flash‘ tiskarska litografska orodja (S-FIL)
Romanian: utilaje de litografie cu imprimare step and flash (S-FIL).
Bulgarian: Инструменти за литографски печат S-FIL (step and flash imprint lithography).
Estonian: step and flash imprint-litograafiaseadmed (step and flash imprint lithography (S-FIL) tools).
Lithuanian: žingsninės („step and flash“) litografijos (S-FIL) įrankius
Maltese: Għodod litografiċi tal-istampar Step and Flash (S-FIL)
English: a. Using deflected focussed electron beam, ion beam or “laser” beam; and
French: a. utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau “laser” avec focalisation et balayage du faisceau; et
Spanish: a. Que utilicen un haz de electrones, un haz de iones o un haz "láser", enfocado y desviable, y
Italian: a. utilizzanti un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio “laser”; e
Dutch: gebruikmaken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of „laser”-bundels, en
Danish: a. Bruger en afbøjet fokuseret elektronstråle, ionstråle eller »laser«stråle og
Swedish: Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser” strålar, och
Finnish: a. Ne käyttävät poikkeutettua ja fokusoitua elektronisuihkua, ionisuihkua tai ”laser”sädettä; ja
Greek: α. με τη χρήση εκτρεπόμενης εστιασμένης δέσμης ηλεκτρονίων, δέσμης ιόντων ή δέσμης «λέιζερ», και
Czech: a. využívají vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku a
Slovak: používajú vychýlený zaostrený elektrónový lúč, iónový lúč alebo „laserový“ lúč a
Hungarian: a. eltérített fókuszált elektronsugarat, ionsugarat vagy „lézersugarat” alkalmaz; és
Slovenian: uporablja elektronski žarek z odklonjenim fokusom, ionski ali „laserski“ žarek in
Romanian: utilizează deflexia unui fascicul focalizat de electroni, de ioni sau „laser”; și
Bulgarian: a. Използва отклонен фокусиран електронен лъч, йонен лъч или „лазерен“ лъч; и
Estonian: a. kasutatatakse hälvitatud-fokuseeritud elektronkimpu, ioonkimpu või „laser” kiirt ja
Lithuanian: a. naudojanti kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą, jonų pluoštą ar „lazerio“ pluoštą; ir
Maltese: a. Użu ta’ raġġ ta’ elettroni ffukat iddevjat, raġġ ta’ joni jew raġġ tal-“laser”; u
English: A spot size smaller than 0,2 μm;
French: ayant une dimension du spot inférieure à 0,2 μm;
Spanish: Tamaño del haz en el impacto (spot) inferior a 0,2 micras;
Italian: dimensione del punto del fascio inferiore a 0,2 μm;
Dutch: een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 μm;
Danish: Pletstørrelse mindre end 0,2 μm
Swedish: En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm.
Finnish: Suihkun tai säteen pisteen koko on pienempi kuin 0,2 μm;
Greek: Εστιακό μέγεθος μικρότερο από 0,2 μm,
Czech: stopu paprsku menší než 0,2 μm,
Slovak: veľkosť bodu menej ako 0,2 μm;
Hungarian: a sugárpont mérete kisebb mint 0,2 μm;
Slovenian: točko, manjšo od 0,2 μm;
Romanian: dimensiunea spotului mai mică de 0,2 μm;
Bulgarian: Размер на светлинното петно, по-малък от 0,2 μm;
Estonian: laotuspunkti suurus väiksem kui 0,2 μm;
Lithuanian: Dėmės matmenis, mažesnius kaip 0,2 μm;
Maltese: Daqs tal-ponta tar-raġġ iżgħar minn 0,2 μm;
English: Being capable of producing a pattern with a feature size of less than 1 μm; or
French: capables de produire des figures d’une dimension inférieure à 1 μm; ou
Spanish: Capacidad de producir un patrón en el que el tamaño de la característica sea inferior a 1 micra, o
Italian: in grado di produrre un tracciato con dimensione del tratto inferiore a 1 μm; o
Dutch: geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 μm, of
Danish: I stand til at frembringe et mønster med enkeltheder, der er mindre end 1 μm, eller
Swedish: Förmåga att producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än 1 μm.
Finnish: Ne kykenevät tuottamaan kuvioita, joiden viivaleveys on vähemmän kuin 1 μm; tai
Greek: Είναι ικανός να παράγει σχήμα με χαρακτηριστικό μέγεθος κάτω από 1 μm, ή
Czech: jsou schopná vytvořit obrazec o velikosti prvku menší než 1 μm, nebo
Slovak: schopnosť vytvoriť obrazec s veľkosťou znaku menej ako 1 μm alebo
Hungarian: képes olyan mintát előállítani, amelynek fő mérete 1 μm-nél kisebb; vagy
Slovenian: zmožnost izdelave vzorca s potezami, manjšimi od 1 μm ali
Romanian: sunt capabile sa producă o rețea cu dimensiunea caracteristicii mai mică de 1 μm; sau
Bulgarian: Способност да създава растер (модел) с размер на елементите, по-малък от 1 μm; или
Estonian: võimelised tekitama mustreid, milles vähima lahutatava elemendi mõõt on väiksem kui 1 μm, või
Lithuanian: Galinti sukurti paveikslus, kurių topologinių elementų matmenys mažesni kaip 1 μm; arba
Maltese: Li jkun kapaċi jipproduċi disinn bid-daqs tal-element ta’ anqas minn 1 μm; jew
English: An overlay accuracy of better than ± 0,20 μm (3 sigma);
French: précision de chevauchement meilleure que ± 0,20 μm (3 sigma);
Spanish: Exactitud de recubrimiento mejor que ± 0,20 micras (3 sigma);
Italian: precisione di sovrapposizione migliore di ± 0,20 μm (3 sigma);
Dutch: overlay-nauwkeurigheid beter dan ± 0,20 μm (3 sigma); g) maskers of fijne optische netwerken (‹reticles›) voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001;
Danish: Overlægningsnøjagtighed bedre end + 0,20 μm (3 sigma)
Swedish: En passningsnoggrannhet som är bättre än ± 0,20 μm (3 sigma).
Finnish: Kohdistustarkkuus on parempi kuin ±0,20 μm (3 sigmaa).
Greek: Ακρίβεια επικάλυψης καλύτερη από ± 0,20 μm (3 sigma).
Czech: přesnost překrytí je lepší než ± 0,20 μm (3 sigma);
Slovak: presnosť prekryvu lepšia ako ± 0,20 μm (3 sigma).
Hungarian: az elhelyezési pontosság jobb mint ± 0,20 μm (3 szigma);
Slovenian: površinsko natančnost boljšo od ± 0,20 μm (3 sigme);
Romanian: o precizie de suprapunere mai bună de ± 0,20 μm (3 sigma);
Bulgarian: Точност на наслояване по-добра от ± 0,20 μm (3 сигма);
Estonian: paigutustäpsus parem kui ± 0,20 μm (3 sigmat);
Lithuanian: Bendrasis tikslumas geresnis kaip ± 0,20 μm (3 sigma).
Maltese: Preċiżjoni ta’ sovrapożizzjoni aħjar minn ± 0,20 μm (3 sigma);
English: g. Masks and reticles, designed for integrated circuits specified in 3A001;
French: g. masques ou réticules conçus pour circuits intégrés visés au paragraphe 3A001;
Spanish: g. Máscaras y retículas, diseñadas para circuitos integrados incluidos en el artículo 3A001;
Italian: g. maschere e reticoli, progettati per i circuiti integrati specificati in 3A001;
Dutch: maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag. Noot:
Danish: g. Masker og okularmikrometre, beregnet for integrerede kredsløb, der er specificeret i 3A001;
Swedish: Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar enligt avsnitt 3A001. h) Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager. Anm.:
Finnish: g. Maskit tai retikkelit, jotka on suunniteltu 3A001 kohdassa määriteltyjä integroituja piirejä varten;
Greek: ζ. Μάσκες ή πλεγματίδια που έχουν σχεδιαστεί για ολοκληρωμένα κυκλώματα που καθορίζονται στο σημείο 3Α001.
Czech: g. masky a optické mřížky, konstruované pro integrované obvody uvedené v položce 3A001;
Slovak: Masky a kontrolné šablóny znakov navrhnuté pre integrované obvody uvedené v 3A001. h) Viacvrstvové masky s vrstvou fázového posuvu. Poznámka:
Hungarian: g. A 3A001. pontban meghatározott integrált áramkörökhöz tervezett maszkok és hajszálvonalas lemezek;
Slovenian: maske in mrežice, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001; (h) večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi; Opomba:
Romanian: măști sau reticule, pentru circuitele integrate menționate la 3A001;
Bulgarian: g. Маски и сита за интегралните схеми, описани в 3A001;
Estonian: g. maskid ja niitvõrgustikud, mis on ette nähtud punktis 3A001 nimetatud integraallülitustele;
Lithuanian: g. Kaukės ir tarpiniai fotošablonai, skirti integriniams grandynams, nurodytiems 3A001;
Maltese: g. Maskri u rettikoli, iddisinjati għaċ-ċirkwiti integrati speċifikati fi 3A001;
English: h. Multi-layer masks with a phase shift layer;
French: h. masques multicouche comportant une couche à décalage de phase;
Spanish: h. Máscaras multicapas con una capa de cambio de fase;
Italian: h. maschere multistrato con uno strato a spostamento di fase;
Danish: h. Flerlagsmasker med et faseforskydningslag;
Finnish: h. Monikerrosmaskit, joissa on vaihesiirtokerros;
Greek: η. Μάσκες με πολλαπλά στρώματα που περιλαμβάνουν στρώμα ολίσθησης φάσης.
Czech: h. vícevrstvé masky s vrstvou fázového posunu;
Hungarian: h. Többrétegű maszkok fáziseltolásos rétegekkel;
Romanian: măști multistrat cu un strat cu decalaj de fază;
Bulgarian: h. Многопластови маски с фазово отместван слой.
Estonian: h. mitmekihilised maskid faasinihke kihiga;
Lithuanian: h. Daugiasluoksnės kaukės su fazės poslinkio sluoksniu.
Maltese: h. Maskri b’numru ta’ saffi b’saff ta’ spostament tal-fażi;
English: h. does not control multi-layer masks with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
French: L’alinéa 3B001.h ne vise pas les masques multicouche comportant une couche à décalage de phase conçus pour la fabrication de dispositifs mémoire non visés par le paragraphe 3A001.
Spanish: El subartículo 3B001.h. no somete a control las máscaras multicapas con una capa de cambio de fase diseñadas para la fabricación de dispositivos de memoria no sometidos a control por el artículo 3A001.
Italian: h non sottopone ad autorizzazione le maschere multistrato con uno strato a spostamento di fase progettate per la fabbricazione di dispositivi di memoria non sottoposti ad autorizzazione in 3A001.
Danish: h lægger ikke eksportkontrol på flerlagsmasker med et faseforskydningslag, der er beregnet til fremstilling af hukommelsesindretninger, der ikke er pålagt eksportkontrol iflg. 3A001.
Finnish: h kohta ei aseta valvonnanalaiseksi monikerrosmaskeja, joissa on vaihesiirtokerros ja jotka on suunniteltu sellaisten muistilaitteiden valmistukseen, joita ei aseteta valvonnanalaiseksi 3A001 kohdassa.
Greek: Στο σημείο 3Β001.η. δεν υπάγονται οι μάσκες με πολλαπλά στρώματα που περιλαμβάνουν στρώμα ολίσθησης φάσης οι σχεδιασμένες για την κατασκευή συσκευών μνήμης που δεν υπάγονται στο σημείο 3Α001.
Czech: h. nezahrnuje vícevrstvé masky s vrstvou fázového posuvu navržené pro výrobu paměťových přístrojů, které se neřídí podle 3A001.
Hungarian: A 3B001.h. nem vonja ellenőrzés alá azokat a fáziseltolásos rétegekkel ellátott többrétegű maszkokat, amelyeket a 3A001. pontban meg nem határozott memóriaeszközök gyártására terveztek.
Romanian: h nu supune controlului măștile multistrat cu un strat de decalaj de fază concepute pentru fabricarea memoriilor care nu sunt incluse la 3A001.
Bulgarian: h. не контролира многослойни маски с фазово променен (изместен) слой, проектирани за производство на запаметяващи устройства, които не се контролират от 3A001.
Estonian: punkt 3B001.h ei hõlma mitmekihilisi maske faasinihke kihiga, mis on ette nähtud punktis 3A001 mitte hõlmatud mäluseadmete tootmiseks.
Latvian: f.2. pozīcija attiecas uz šādām iekārtām: kontakta mikrodrukas ierīcēm, karstspieduma ierīcēm, nanodrukas litogrāfijas ierīcēm, Step and flash drukas (S-FIL) litogrāfijas ierīces.
Lithuanian: h netaikomas daugiasluoksnėms kaukėms su fazės poslinkio sluoksniu, suprojektuotoms atmintinių įtaisų, kuriems netaikomas 3A001, gamybai.
Maltese: h. ma jikkontrollax maskri b’numru ta’ saffi b’saff ta’ spostament tal-fażi ddisinjat għall-manifattura ta’ apparat ta’ memorja li m’hux ikkontrollat minn 3A001.
English: i. Imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3A001.
French: i. gabarits de lithographie par impression conçus pour les circuits intégrés visés au paragraphe 3A001.
Spanish: i. Plantillas para impresión litográfica diseñadas para circuitos integrados especificados en 3A001.
Italian: i. sagome di impressione litografica progettate per i circuiti integrati specificati in 3A001.
Danish: i. Litografiskabeloner til prægning beregnet til integrerede kredsløb som omhandlet i 3A001.
Finnish: i. Kohokuviointimallineet, jotka on suunniteltu 3A001 kohdassa määriteltyjä integroituja piirejä varten.
Greek: θ. Μακέτες εντυπωτικής λιθογραφίας σχεδιασμένες για τα ηλεκτρονικά κυκλώματα που προσδιορίζονται στο 3Α001.
Czech: i. šablony pro tiskovou litografii určené pro integrované obvody stanovené v položce 3A001.
Hungarian: i. A 3A001. pontban meghatározott integrált áramkörökhöz tervezett imprinting litográfiai sablonok.
Romanian: șabloane de imprimare litografică, pentru circuitele integrate menționate la 3A001.
Bulgarian: i. Шаблони за литографски печат, проектирани за интегрираните схеми, описани в 3A001.
Estonian: i. jäljendi litograafiašabloonid, mis on ette nähtud punktis 3A001 nimetatud integraallülitustele.
Latvian: speciālas iekārtas masku izgatavošanai vai pusvadītāju iekārtu apstrādei, izmantojot tiešās rakstīšanas metodes, un kam ir visi šie raksturlielumi: a. izmanto novirzītu fokusētu elektronu staru kūli, jonu staru kūli vai “lāzera” staru kūli; un b. ir kāds no šiem raksturlielumiem: 1. punkta izmērs ir mazāks par 0,2 μm; 2. spēj formēt trafaretattēlu ar “mazāko atšķiramu detaļu lielumu” mazāku par 1 μm;vai 3. pārklājuma precizitāte ir labāka par ± 0,20 μm (3 sigma); g. maskas un rastri, kas konstruēti 3A001. pozīcijā minētajām integrālajām shēmām; h. daudzslāņu maskas ar fāžu nobīdes slāni; Piezīme. Saskaņā ar 3B001.h. pozīciju kontroli neattiecina uz daudzslāņu maskām ar fāžu nobīdes slāni, kas paredzētas tādu atmiņu iekārtu ražošanai, uz kurām neattiecina kontroli saskaņā ar 3A001. pozīciju. i. drukas litogrāfijas veidnes, kas paredzētas 3A001. pozīcijā minētajām integrālajām shēmām.
Lithuanian: i. Litografinės spaudos šablonai, skirti integriniams grandynams, nurodytiems 3A001.
Maltese: i. Mudelli għal stampar litografiku ddisinjati għaċ-ċirkwiti integrati speċifikati fi 3A001.
English: a. For testing S-parameters of transistor devices at frequencies exceeding 31,8 GHz;
French: a. pour le test des paramètres S de transistors à une fréquence supérieure à 31,8 GHz;
Spanish: a. Para ensayo de parámetros S de dispositivos de transistores a frecuencias superiores a 31,8 GHz;
Italian: a. per il collaudo dei parametri S dei dispositivi a transistor a frequenze superiori a 31,8 GHz;
Dutch: voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;
Danish: a. Til afprøvning af transistorers S-parametre ved frekvenser over 31,8 GHz
Swedish: Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
Finnish: a. Laitteet transistorien S-parametrien testaukseen yli 31,8 GHz:n alueella;
Greek: α. Για να δοκιμάζονται οι παράμετροι S συσκευών τρανζίστορ σε συχνότητες άνω των 31,8 GHz.
Czech: a. pro zkoušení S-parametrů tranzistorových součástek při frekvencích větších než 31,8 GHz;
Slovak: na skúšanie parametrov S-parametrov tranzistorových zariadení pri frekvenciách nad 31,8 GHz;
Hungarian: a. Tranzisztor eszközök S-paraméterének tesztelésére szolgáló eszközök 31,8 GHz-et meghaladó frekvencián;
Slovenian: za preizkušanje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31,8 GHz;
Romanian: pentru testarea parametrilor S ai dispozitivelor cu tranzistori la frecvențe ce depășesc 31,8 GHz;
Bulgarian: a. За изпитване на S параметрите на транзисторни устройства при честоти над 31,8 GHz;
Estonian: a. transistoride S-parameetrite testimiseks sagedustel üle 31,8 GHz;
Latvian: a. tranzistoru S-parametru pārbaudei pie frekvencēm, kas pārsniedz 31,8 GHz;
Lithuanian: a. skirta tranzistorinių įtaisų S parametrams tikrinti dažniuose, viršijančiuose 31,8 GHz;
Maltese: a. Għall-ittestjar tal-parametri-S ta’ apparat ta’ transisters fi frekwenzi ta’ aktar minn 31,8 GHz;
English: c. For testing microwave integrated circuits specified in 3A001.b.2.
French: c. pour le test de circuits intégrés hyperfréquences visés à l’alinéa 3A001.b.2.
Spanish: c. Para el ensayo de los circuitos integrados de microondas incluidos en el subartículo 3A001.b.2.
Italian: c. per il collaudo di circuiti integrati a microonde specificati in 3A001.b.2.
Dutch: voor het testen van in 3A001 b)2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven.
Danish: c. Til prøvning af integrerede mikrobølgekredsløb, der er specificeret i 3A001.b.2.
Swedish: Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som omfattas av avsnitt 3A001.b.2.
Finnish: c. Laitteet 3A001.b.2 kohdassa määriteltyjen integroitujen mikroaaltopiirien testaukseen.
Greek: γ. Για τη δοκιμή ολοκληρωμένων κυκλωμάτων μικροκυμάτων προσδιοριζόμενων στο 3Α001.β.2.
Czech: c. pro zkoušení mikrovlnných integrovaných obvodů uvedených v položce 3A001.b.2.
Slovak: na testovanie mikrovlnových integrovaných obvodov uvedených v 3A001.b)2.
Hungarian: c. A 3A001.b.2. részben meghatározott mikrohullámú integrált áramkörök tesztelésére szolgáló eszközök.
Slovenian: za preizkušanje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001(b)(2).
Romanian: pentru testarea circuitelor integrate pentru microunde menționate la 3A001.b.2.
Bulgarian: c. За изпитване на микровълнови интегрални схеми, описани в 3A001.b.2.
Estonian: c. punktis 3A001.b.2 nimetatud mikrolaine integraallülituste testimiseks.
Latvian: c. 3A001.b.2. pozīcijā minēto mikroviļņu integrālo shēmu pārbaudēm.
Lithuanian: c. skirta mikrobanginiams integriniams grandynams, nurodytiems 3A001.b.2, tikrinti.
Maltese: c. Għall-ittestjar taċ-ċirkwiti integrati microwave speċifikati fi 3A001.b.2.