English: ‘Physics-based’ simulation “software” specially designed for the “development” of lithographic, etching or deposition processes for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor materials.
French: “Logiciel” de simulation ‘basé sur la physique’, spécialement conçu pour le “développement” de procédés de lithographie, de gravure et de dépôt pour transformer des figures de masque en figures topographiques spécifiques dans les conducteurs, les diélectriques ou les matériaux semi-conducteurs.
Spanish: "Equipo lógico"(software) de simulación ‘basado en las leyes de la física’ y diseñado especialmente para el "desarrollo" de procesos litográficos, de grabado o depósito destinados a transformar patrones de enmascaramiento en patrones topográficos específicos en los materiales conductores, dieléctricos o semiconductores.
Italian: “Software” di simulazione “basato sulla fisica” appositamente progettato per lo “sviluppo” di processi di litografia, di attacco o di deposizione per trasformare dei tracciati di maschere in specifici tracciati topografici nei materiali conduttori, dielettrici o semiconduttori.
Dutch: ‚Op fysische elementen gebaseerde’ simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de „ontwikkeling” van lithografische, ets- of opdampingsprocedés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.
Danish: 'Fysikbaseret' simulations»software«, der er specielt beregnet til »udvikling« af litografiske, ætsnings- eller udfældningsprocesser til overføring af maskemønstre til specifikke topografiske mønstre i ledere, dielektrika eller halvledere.
Swedish: ’Fysikbaserad’ simulerings ”programvara” speciellt konstruerad för ”utveckling” av litografiska, etsnings- eller uppbyggnads (depositions) -processen så att maskvärdena omvandlas till specifika typografiska mönster i de olika ledar-, dielektriska eller halvledarlagren.
Finnish: ’Fysiikkapohjaiset’ simulaatio-”ohjelmistot”, jotka on erityisesti suunniteltu sellaisten litografia-, syövytys- ja pinnoitusprosessien ”kehittämiseen”, jotka muuntavat maskin kuviot erityisiksi topografisiksi johtimien, eristeiden ja puolijohdemateriaalien kuvioiksi.
Greek: «Λογισμικό» προσομοίωσης, «βασισμένο στη φυσική», ειδικά σχεδιασμένο για την «ανάπτυξη» διεργασιών λιθογραφίας, χάραξης ή εναπόθεσης προκειμένου τα σχήματα μάσκας να μεταφράζονται σε επιμέρους τοπογραφικά σχήματα με αγωγούς, διηλεκτρικά ή υλικά ημιαγωγών.
Czech: „software“„založený na fyzikální“ simulaci a speciálně navržený pro „vývoj“ litografických, leptacích anebo vylužovacích procesů na překládání maskovacích obrazců do speciálních topografických obrazců ve vodičích, dielektrikách nebo polovodičových materiálech.
Slovak: Simulačný „fyzikálne založený“„softvér“ osobitne navrhnutý na „vývoj“ litografických, leptacích alebo vylučovacích procesov na prekladanie maskovacích obrazcov do osobitných topografických obrazcov vo vodičoch, dielektrikách alebo v polovodičových materiáloch.
Hungarian: Olyan, ’fizikán alapuló’ szimulációs „szoftver”, amelyet kifejezetten olyan litográfiai, maratási vagy leválasztási folyamatok „fejlesztésére” terveztek, amelyek segítségével a maszkmintákat a vezetőkön, a dielektrikumokon vagy a félvezető anyagon megjelenő specifikus topográfiai mintákká fordítják le.
Slovenian: ‚Na fiziki temelječa‘ simulacijska „programska oprema“, posebej zasnovana za „razvoj“ postopkov litografije, jedkanja ali nanašanja pri prevajanju maskirnih vzorcev v specifične topografske vzorce v vodniških, dielektričnih ali polprevodniških materialih.
Romanian: ‘Produse software’ pentru simularea „bazată fizic”, special concepute pentru „dezvoltarea” proceselor de litografiere, erodare și depunere pentru transferarea formelor de mască în formele topografice specifice în materiale conductoare, dielectrice sau semiconductoare.
Bulgarian: Симулативен „софтуер“„на физическа основа“, специално проектиран за „разработване“ на литографиране, ецване или процеси на отлагане, за пренасяне на шаблоните от маските в специфични топографски форми в проводници, диелектрици или полупроводникови материали.
Estonian: ‘Füüsikalistel alustel põhinev’ simulatsiooni „tarkvara”, mis on spetsiaalselt ette nähtud litograafia-, söövitus- või pinnakatmisprotsesside „arenduseks” maskide struktuuri üleviimisel spetsiifiliseks juhtide, dielektrikute või pooljuhtide topograafiliseks struktuuriks.
Lithuanian: ‚Fizinio pagrindo‘ modeliavimo „programa“, specialiai suprojektuota litografijos, ėsdinimo ar padengimo procesams „kurti“, kaukių paveikslus paverčiant savitais topografiniais paveikslais laidininkuose, dielektrikuose ar puslaidininkiuose.
Maltese: “Software” ta’ simulazzjoni ‘ibbażat fuq il-fiżika’ ddisinjat apposta għall-“iżvilupp” ta’ proċessi litografiċi, ta’ inċiżjoni jew ta’ depożizzjoni għat-trasformazzjoni ta’ disinji ta’ maskri f’disinji topografiċi speċifiċi f’materjali kondutturi, dielettriċi jew semikondutturi.