FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: The metallic powders that are to be deposited (usually aluminium, chromium, silicon or combinations thereof);
French: les poudres métalliques à déposer (généralement de l’aluminium, du chrome, du silicium ou des combinaisons de ces métaux);
Spanish: Los polvos metálicos que han de depositarse (por lo general aluminio, cromo, silicio o combinaciones de ellos);
Italian: le polveri metalliche che devono essere depositate (generalmente alluminio, cromo, silicio o loro combinazioni);
Dutch: de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan);
Danish: De metalliske pulvere, der skal danne belægningen (normalt aluminium, chrom, silicium eller kombinationer af disse)
Swedish: metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),
Finnish: Depositioitavista metallijauheista (tavallisesti alumiinia, kromia, piitä tai niiden yhdistelmiä);
Greek: τις κόνεις των μετάλλων που πρόκειται να εναποτεθούν (συνήθως αργίλιο, χρώμιο, πυρίτιο ή συνδυασμοί αυτών),
Czech: nanášené kovové prášky (obvykle hliník, chrom, křemík nebo jejich kombinace),
Slovak: kovových práškov, ktoré sa majú naniesť (obvykle hliník, chróm, kremík alebo ich kombinácie);
Hungarian: A felvitelre szánt fémek pora (általában alumínium, króm, szilícium vagy ezek kombinációi);
Slovenian: nanosnih kovinskih prahov (navadno aluminij, krom, silicij ali njihova kombinacija);
Romanian: pulberi metalice care se depun (de obicei aluminiu, crom, siliciu sau combinații ale acestora);
Bulgarian: Металите на прах, които трябва да се утаят (обикновено алуминий, хром, силиций или съчетания от тях);
Estonian: sadestatavad metallipulbrid (tavaliselt alumiinium, kroom, räni või nende segud);
Latvian: uzklājamā metāla pulveriem (parasti alumīnija, hroma, silīcija vai to maisījumiem);
Lithuanian: Nusodinamo metalo miltelių (paprastai aliuminio, chromo, silicio ar jų mišinių);
Maltese: It-trabijiet metalliċi li jridu jiġu depożitati (normalment aluminju, kromju, silikon jew kombinazzjonijiet ta’ dawn);
English: An activator (normally a halide salt); and
French: un activant (généralement un sel halogéné); et
Spanish: Un activador (normalmente una sal haloidea), y
Italian: un attivatore (generalmente un sale alogenuro); e
Dutch: een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en
Danish: En aktivator (normalt et halidsalt) og
Swedish: en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och
Finnish: Aktivaattorista (tavallisesti halidisuola); ja
Greek: έναν ενεργοποιητή (συνήθως αλογονούχο άλας), και
Czech: aktivátor (obvykle halogenidová sůl) a
Slovak: aktivátora (väčšinou halogenidová soľ) a
Hungarian: Aktivátor (általában egy halogénsó); és
Slovenian: aktivatorja (navadno soli halidov) in
Romanian: un activator (în mod normal o sare halogenată); și
Bulgarian: Възбудител (обикновено халогенид); и
Estonian: aktivaator (tavaliselt halogeniidisool) ja
Latvian: aktivatora (parasti – halogenīda); un
Lithuanian: Aktyvatoriaus (paprastai halogenido druskos); ir
Maltese: Attivatur (normalment melħ ta’ alid); u
English: An inert powder, most frequently alumina.
French: une poudre inerte (la plupart du temps de l’alumine).
Spanish: Un polvo inerte, casi siempre alúmina.
Italian: una polvere inerte, più frequentemente allumina.
Dutch: een inerte stof, meestal aluminiumoxide.
Danish: Et inaktivt pulver, hyppigst aluminiumoxid.
Swedish: ett ballastpulver, oftast aluminium.
Finnish: Reagoimattomasta aineesta, useimmiten alumiinioksidista.
Greek: μία αδρανή κόνι, ως επί το πλείστον αλουμίνα.
Czech: inertní prášek, nejčastěji oxid hliníku.
Slovak: inertného prášoku najčastejšie oxidu hlinitého.
Hungarian: Egy semleges por, általában timföld.
Slovenian: inertnega prahu, najpogosteje aluminijev boksit.
Romanian: o pulbere inertă, cel mai frecvent alumină.
Bulgarian: Инертен прах, най-често двуалуминиев триоксид.
Estonian: inertne pulber, tavaliselt alumiiniumoksiid.
Latvian: inerta pulvera, visbiežāk alumīnija oksīda.
Lithuanian: Inertinių miltelių (dažniausiai aliuminio oksido).
Maltese: Trab inert, l-aktar spiss ossidu tal-aluminju.
English: Plasma spraying constitutes either low pressure plasma spraying or high velocity plasma spraying.
French: La pulvérisation de plasma peut être une pulvérisation à faible pression ou une pulvérisation à grande vitesse.
Spanish: La pulverización de plasma puede ser una pulverización a baja presión o una pulverización a gran velocidad.
Italian: La polverizzazione a plasma può essere una polverizzazione a bassa pressione o una polverizzazione a grande velocità;
Dutch: Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.
Danish: Plasmasprøjtning kan være enten lavtryksplasmasprøjtning eller højhastighedsplasmasprøjtning.
Swedish: Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.
Finnish: Plasmaruiskutus on joko matalapaineessa tai suurinopeuksista plasmaruiskutusta.
Greek: Πρόκειται για ψεκασμό πλάσματος είτε χαμηλής πιέσεως είτε υψηλής ταχύτητας.
Czech: Plazmovým stříkáním se rozumí buď nízkotlaké plazmové stříkání, nebo vysokorychlostní plazmové stříkání; POZN.
Slovak: Plazmové striekanie predstavuje buď plazmové striekanie pri nízkom tlaku alebo plazmové striekanie pri vysokej rýchlosti.
Hungarian: A plazmaszórás vagy kisnyomású plazmaszórásból vagy víz alatti, nagy sebességű plazmaszórásból áll.
Slovenian: Pršenje s plazmo je možno prek plazme z nizkim ali visokim tlakom pršenja.
Romanian: Pulverizarea cu plasmă poate fi o pulverizare la joasă presiune sau o pulverizare de mare viteză;
Bulgarian: Разпръскването на плазмата е или в условия на ниско налягане, или на висока скорост.
Latvian: NB! Pazemināts spiediens ir spiediens, kas mazāks par normālo atmosfēras spiedienu. 2. NB!
Lithuanian: Mažas slėgis reiškia mažesnį kaip atmosferos slėgį. N.B. 2.
Maltese: Traxxix bi plażma jikkostitwixxi kemm traxxix bi plażma fi pressjoni baxxa jew traxxix bi plażma b’veloċità għolja.
English: Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
French: Par basse pression, on entend une pression inférieure à la pression atmosphérique ambiante.
Spanish: Se entiende por baja presión la inferior a la presión atmosférica ambiente.
Italian: Per bassa pressione si intende una pressione inferiore alla pressione atmosferica ambiente.
Dutch: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.
Danish: Lavtryk betyder mindre end det omgivende atmosfæriske tryk.
Swedish: Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck.
Finnish: Matalapaineella tarkoitetaan alle ilmakehän painetta.
Greek: Χαμηλή πίεση σημαίνει χαμηλότερη από την ατμοσφαιρική πίεση περιβάλλοντος.
Czech: Výrazem nízkotlaký se rozumí, že tlak je nižší než okolní atmosférický tlak. POZN.
Slovak: Pod pojmom pri nízkom tlaku sa rozumie pri tlaku nižšom, než je atmosférický tlak prostredia.
Hungarian: A kis nyomás a környezeti, légköri nyomásnál kisebb nyomást jelent.
Slovenian: Nizkotlačna plazma pomeni plazmo tlaka, nižjega od atmosferskega.
Romanian: Presiune joasă înseamnă presiunea sub presiunea atmosferică.
Bulgarian: Ниско налягане означава по-ниско от околното атмосферно налягане.
Maltese: Pressjoni baxxa tfisser pressjoni anqas mill-pressjoni atmosferika tal-ambjent.
English: High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.
French: Par grande vitesse, on entend une vitesse du gaz à la sortie du chalumeau supérieure à 750 m/s, calculée à 293 K (20 °C) et à une pression de 0,1 MPa.
Spanish: Se entiende por gran velocidad una velocidad del gas a la salida de la tobera de más de 750 m/s calculada a 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.
Italian: Per grande velocità si intende una velocità del gas in uscita dalla torcia superiore a 750 m/s calcolata a 293 K (20 °C) e ad una pressione di 0,1 MPa.
Dutch: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa.
Danish: Høj hastighed refererer til, at gassens udgangshastighed ved dysens munding overstiger 750 m/s udregnet ved 293 K (20 °C) ved 0,1 MPa.
Swedish: Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa.
Finnish: Suurinopeuksisella tarkoitetaan kaasun lähtönopeutta suuttimesta, kun se ylittää 750 m/s laskettuna 20 °C (293 K) asteen lämpötilassa ja 0,1 MPa paineessa.
Greek: Η υψηλή ταχύτητα αναφέρεται σε ταχύτητες αερίου στην έξοδο του ακροφυσίου υψηλότερες από 750 m/s υπολογιζόμενες σε θερμοκρασία 293 Κ (20 °C) και πίεση 0,1 MPa.
Czech: Výrazem vysokorychlostní se rozumí, že rychlost plynu na výstupu z trysky je při 293 K (20 °C) a 0,1 MPa vyšší než 750 m/s.
Slovak: Pod pojmom pri vysokej rýchlosti sa rozumie rýchlosť plynu na výstupe z dýzy vyššia ako 750 m/s počítaná pri 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.
Hungarian: A nagy sebesség azt jelenti, hogy a fúvókából eltávozó gáz sebessége 0,1 MPa nyomásnál 293 K-en (20 °C) meghaladja a 750 m/s-ot.
Slovenian: Plazma velike hitrosti se nanaša na hitrosti plina iz dulca prek 750 m/s, računano pri 293 K (20 °C) in pri 0,1 MPa.
Romanian: Mare viteză se referă la viteze ale gazului la ieșirea ajutajului mai mari de 750 m/s calculate la 293 K (20 °C) și 0,1 MPa.
Bulgarian: Висока скорост се отнася до скорост при излизане от дюзата, надхвърляща 750 m/s, изчислена при 293 К (20 °С) при налягане от 0,1 МРа.
Lithuanian: e. Suspensinis dengimas yra paviršiaus pakeitimo arba viršutinio sluoksnio sudarymo procesas, kurio metu skystyje suspenduotas metalo ar keramikos miltelių ir organinio rišiklio mišinys patenka ant padėklo purškimo, panardinimo ar užtepimo būdu.
Maltese: Veloċità għolja tirreferi għal veloċità tal-ħruġ tal-gass miż-żennuna ta’ aktar minn 750 m/s kkalkulata f’temperatura ta’ 293 K (20 °C) f’0,1 MPa.
English: The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
French: L’énergie cinétique dégagée par le choc des ions est suffisante pour que des atomes de la surface de la cible soient libérés et se déposent sur le substrat placé de façon adéquate.
Spanish: La energía cinética desprendida por el choque de los iones es suficiente para que se liberen átomos de la superficie del blanco y se depositen sobre un sustrato situado convenientemente.
Italian: L’energia cinetica ottenuta dall’impatto degli ioni è sufficiente perché gli atomi della superficie del bersaglio siano liberati per depositarsi sul substrato situato in modo adeguato;
Dutch: De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat.
Danish: Når ionerne rammer overfladen, er den kinetiske energi tilstrækkelig til at frigøre overfladeatomer på målet og aflejre dem på det passende anbragte substrat.
Swedish: Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.
Finnish: Iskeytyvien ionien kineettinen energia on riittävä irroittamaan atomeja sen pinnasta ja pinnoittamaan sopivasti asetettua substraattia.
Greek: Η κινητική ενέργεια των προσπιπτόντων ιόντων αρκεί για να προκαλέσει την ελευθέρωση των ατόμων της επιφάνειας του στόχου και την εναπόθεσή τους σε καταλλήλως τοποθετημένο υπόστρωμα.
Czech: Kinetická energie dopadajících iontů způsobuje, že se z povrchu terče uvolňují atomy, které se ukládají na vhodně nastavený substrát;
Slovak: Kinetická energia dopadajúcich iónov je dostatočná na to, aby uvoľnila atómy z bombardovaného povrchu a naniesla ich na vhodne umiestnenom substráte.
Hungarian: A becsapódó ionok kinetikus energiája elegendő ahhoz, hogy a céltárgy felületéből atomok váljanak ki, és a megfelelően elhelyezett hordozón kiváljanak.
Slovenian: Kinetična energija ionov, ki se zaletijo v substrat, je tako velika, da se atomi na površini nanosnega materiala sprostijo in nanesejo na primerno nameščeno podlago.
Romanian: Energia cinetică degajată prin șocul ionilor este suficientă pentru eliberarea atomilor din suprafața țintă și depunerea lor pe un substrat poziționat adecvat;
Bulgarian: Кинетичната енергия на попадащите йони е достатъчна, за да доведе до избиване на атомите от повърхността и отлагането им върху подходящо разположен субстрат.
Latvian: Jonu triecienu kinētiskā enerģija ir pietiekama, lai atbrīvotu mērķa virsmas atomus un ar tiem pārklātu attiecīgi novietotu substrātu;
Lithuanian: Smūgiuojančių jonų kinetinės energijos užtenka taikinio paviršiaus atomams išmušti ir nusodinti ant tinkamai įtvirtinto padėklo.
Maltese: L-enerġija kinetika miksuba mill-impatt tal-joni hija suffiċjenti sabiex tikkawża r-rilaxx ta’ atomi mill-wiċċ tal-bersall u d-depożitu tagħhom fuq sottostrat pożizzjonat b’mod adatt.
English: Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
French: Des faisceaux ioniques à faible énergie (< 5 keV) peuvent être utilisés pour activer le dépôt.
Spanish: Se pueden utilizar haces de iones de baja energía (inferior a 5 keV) para activar la deposición.
Italian: fasci ionici a bassa energia (minore di 5 keV) possono essere utilizzati per attivare la deposizione.
Dutch: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten.
Danish: Lavenergiionstråler (mindre end 5 keV) kan anvendes til at aktivere belægningsprocessen.
Swedish: Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.
Finnish: Matalaenergisiä (alle 5 keV) ionisäteitä voidaan käyttää aktivoimaan depositiota.
Greek: Για την ενεργοποίηση της εναπόθεσης είναι δυνατόν να χρησιμοποιούνται δέσμες ιόντων χαμηλής ενέργειας (κάτω των 5 keV)
Czech: Pro aktivaci nanášení lze používat iontové paprsky o nízké energii (méně než 5 keV).
Slovak: Lúče iónov s nízkou energiou (menej ako 5 keV) sa môžu použiť na aktiváciu vylučovania.
Hungarian: Az alacsony energiájú (5 keV-nál kisebb) ionsugarakat a leválasztás aktiválására lehet használni.
Slovenian: Za sprožitev nanašanja se lahko uporabljajo nizkoenergijski ionski žarki (manj kot 5 keV).
Romanian: Pentru activarea depunerii pot fi folosite fascicule ionice de mică energie (mai mici de 5 keV).
Bulgarian: Йонни потоци с ниска енергия (по-малко от 5 keV) могат да се използват за задействане на отлагането.
Latvian: Pārklāšanas procesa aktivācijai var izmantot zemas enerģijas (zem 5 keV) jonu staru kūļu avotus.
Lithuanian: Nusėdimui suaktyvinti gali būti panaudoti mažos (mažesnės kaip 5 keV) energijos jonų pluoštai.
Maltese: Raġġi tal-joni ta’ enerġija baxxa (anqas minn 5 keV) jistgħu jintużaw sabiex jattivaw id-depożizzjoni.
English: This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
French: Cela comprend les procédés dans lesquels l’implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d’électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.
Spanish: La definición incluye procesos en los que la implantación iónica se realiza simultáneamente con el depósito en fase de vapor por método físico de haz de electrones o la deposición catódica.
Italian: Ciò comprende i processi nei quali l’impiantazione ionica viene effettuata contemporaneamente alla deposizione fisica in fase di vapore per fascio elettronico o alla deposizione per polverizzazione catodica.
Dutch: De definitie omvat mede procedés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt.
Danish: Dette omfatter processer, hvor ionimplanteringen sker samtidig med fysisk dampudfældning med elektronstråle eller sputterbelægning.
Swedish: Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.
Finnish: Tämä sisältää prosessit, joissa ioni-istutus suoritetaan samanaikaisesti elektronisuihku-PVD:llä tai sputteroinnilla.
Greek: Ο ορισμός αυτός περιλαμβάνει τις μεθόδους, στις οποίες η εμφύτευση ιόντων πραγματοποιείται ταυτόχρονα με εναπόθεση ατμού με φυσική μέθοδο δέσμης ηλεκτρονίων ή εναπόθεση καθοδικής διασκόρπισης.
Czech: Patří sem procesy, ve kterých se iontová implantace provádí fyzikální depozicí v parní fázi elektronovým svazkem nebo naprašováním.
Slovak: Toto zahŕňa aj procesy, pri ktorých sa implantovanie iónov vykonáva zároveň prostredníctvom fyzikálneho pokovovania zrážaním kovových pár pomocou elektrónového lúča alebo prostredníctvom nanášania poprašovaním.
Hungarian: Ez magában foglalja azokat az eljárásokat, amelyek során az ionbeültetés az elektronsugaras fizikai gőzfázisú leválasztással vagy katódporlasztással egyidejűleg történik. 3.
Slovenian: Ta postopek vključuje postopek, pri katerem potekata istočasno ionska implantacija in fizično plinska metoda nanašanja s pomočjo elektronskega žarka ali visokega podtlaka.
Romanian: Aceasta include procedeele în care implantarea ionică se realizează simultan cu depunerea fizică din stare de vapori cu fascicul de electroni sau cu depunere prin pulverizare catodică.
Bulgarian: Това включва процес, при който имплантацията на йони се извършва едновременно с физическо отлагане на пари с използване на електронен лъч или чрез отлагане на разпрашени вещества.
Latvian: Pie jonu implantācijas pieder arī procesi, kuros jonu implantāciju veic reizē ar elektronu staru kūļa vai uzputināšanas pārklāšanu. 3.
Lithuanian: Tai apima procesus, kurių metu jonų implantavimas vykdomas kartu su elektronų pluošto fizikiniu nusodinimu iš garų fazės ar dulkinamuoju nusodinimu.
Maltese: Dan jinkludi proċessi fejn l-impjantazzjoni jonika ssir simultanjament mad-depożizzjoni fiżika mill-fwar permezz ta’ raġġ tal-elettroni jew mad-depożizzjoni permezz ta’ traxxix katodiku.
English: CATEGORY 3
French: CATÉGORIE 3
Spanish: CATEGORÍA 3
Italian: CATEGORIA 3
Dutch: CATEGORIE 3
Danish: KATEGORI 3
Swedish: KATEGORI 3
Finnish: RYHMÄ 3
Greek: ΚΑΤΗΓΟΡΙΑ 3
Czech: KATEGORIE 3
Slovak: KATEGÓRIA 3
Hungarian: KATEGÓRIA
Slovenian: SKUPINA 3
Romanian: CATEGORIA 3
Bulgarian: КАТЕГОРИЯ 3
Latvian: KATEGORIJA
Lithuanian: 3 KATEGORIJA
Maltese: KATEGORIJA 3
English: ELECTRONICS
French: ÉLECTRONIQUE
Spanish: ELECTRÓNICA
Italian: MATERIALI ELETTRONICI
Dutch: ELEKTRONICA
Danish: ELEKTRONIK
Swedish: ELEKTRONIK
Finnish: ELEKTRONIIKKA
Greek: ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΑ
Czech: ELEKTRONIKA
Slovak: ELEKTRONIKA
Hungarian: ELEKTRONIKA
Slovenian: ELEKTRONIKA
Romanian: ELECTRONICĂ
Bulgarian: ЕЛЕКТРОНИКА
Latvian: ELEKTRONIKA
Lithuanian: ELEKTRONIKA
Maltese: ELETTRONIKA
English: Electronic components and specially designed components therefor, as follows:
French: Composants électriques et leurs composants spécialement conçus, comme suit:
Spanish: Componentes electrónicos y componentes diseñados especialmente para ellos, según se indica:
Italian: Dispositivi e componenti elettronici e relativi componenti appositamente progettati:
Dutch: Elektronische onderdelen en de speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder:
Danish: Elektroniske komponenter og specielt konstruerede komponenter hertil som følger:
Swedish: Elektroniska komponenter och speciellt konstruerade komponenter till dessa, enligt följande:
Finnish: Elektroniset komponentit ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit seuraavasti:
Greek: Ηλεκτρονικά δομικά στοιχεία και ειδικά σχεδιασμένα δομικά μέρη τους, ως εξής:
Czech: Elektronické součásti a speciálně pro ně konstruované součásti:
Slovak: Elektronické súčasti a ich osobitne navrhnuté súčasti:
Hungarian: Elektronikai alkatrészek és a kifejezetten azokhoz tervezett részelemek, az alábbiak szerint:
Slovenian: Elektronske komponente in posebej zanje izdelane komponente:
Romanian: Componente electronice și componentele special concepute pentru acestea, după cum urmează:
Bulgarian: Електронни компоненти и специално проектирани компоненти за тях, както следва:
Latvian: Elektroniskās komponentes un to īpaši izstrādātas sastāvdaļas:
Lithuanian: Elektroniniai komponentai ir specialiai suprojektuoti jų komponentai, išvardyti toliau:
Maltese: Komponenti elettroniċi u komponenti ddisinjati apposta għalihom, kif ġej:
English: a. General purpose integrated circuits, as follows:
French: a. Circuits intégrés d’usage général, comme suit:
Spanish: a. Circuitos integrados de uso general, según se indica:
Italian: a. circuiti integrati di uso generale, come segue:
Dutch: universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder:
Danish: a. Integrerede kredsløb til generelle formål som følger:
Swedish: Integrerade kretsar för allmänna ändamål, enligt följande:
Finnish: a. Seuraavat yleiskäyttöiset integroidut piirit:
Greek: α. Ολοκληρωμένα κυκλώματα για γενικούς σκοπούς, ως εξής:
Czech: a. integrované obvody pro všeobecné použití:
Slovak: Univerzálne integrované obvody:
Hungarian: a. Általános célú integrált áramkörök, az alábbiak szerint:
Slovenian: integrirana vezja za splošno rabo:
Romanian: circuite integrate pentru utilizări generale, după cum urmează:
Bulgarian: a. Универсални интегрални схеми, както следва:
Latvian: a. universālās integrālās shēmas:
Lithuanian: a. Bendrosios paskirties integriniai grandynai, išvardyti toliau:
Maltese: a. Ċirkwiti integrati bi skop ġenerali, kif ġej: