English: Equipment specially designed for equipment specified in 3B001.e. and designed according to the manufacturer’s specifications or optimised for use in the production of semiconductor devices with critical dimensions of 65 nm or less;
French: équipement spécialement conçu pour les équipements visés à l’alinéa 3B001.e et conçu selon les spécifications du fabricant ou optimisé pour être utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs ayant une dimension critique égale ou inférieure à 65 nm;
Spanish: Equipos diseñados especialmente para el equipo incluido en el subartículo 3B001.e. y diseñados de conformidad con las especificaciones del fabricante u optimizados para ser utilizados en la fabricación de dispositivos semiconductores con unas dimensiones críticas iguales o inferiores a 65 nm;
Italian: apparecchiature appositamente progettate per le apparecchiature specifiche in 3B001.e, progettate secondo le specifiche del costruttore o ottimizzate per l’uso nella produzione di dispositivi semiconduttori con dimensioni critiche uguali o inferiori a 65 nm;
Dutch: speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001 e) en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 65 nm of minder;
Danish: Udstyr specielt konstrueret til udstyr, der er specificeret i 3B001.e., og konstrueret efter producentens specifikationer eller optimeret med henblik på fremstilling af halvlederkomponenter med kritiske dimensioner på 65 nm eller derunder
Swedish: Utrustningen är speciellt konstruerad för utrustning som anges i avsnitt 3B001.e och konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre.
Finnish: Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu 3B001.e kohdassa määriteltyjä laitteita varten ja jotka on suunniteltu valmistajan eritelmien mukaan tai optimoitu käytettäväksi sellaisten puolijohdelaitteiden tuotannossa, joiden kriittiset mitat ovat 65 nm tai vähemmän;
Greek: Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιασθεί για εξοπλισμό που καθορίζεται στο σημείο 3Β001.ε. και σχεδιασμένος σύμφωνα με τις προδιαγραφές του κατασκευαστή ή βελτιστοποιημένος προς χρήση στην παραγωγή συσκευών ημιαγωγών με κρίσιμες διαστάσεις έως και 65 nm.
Czech: zařízení speciálně navržené pro zařízení uvedené v položce 3B001.e. a navržené podle technických podmínek výrobce anebo optimalizované pro použití při výrobě polovodičových nástrojů s kritickými rozměry 65 nm anebo méně;
Slovak: Zariadenie osobitne navrhnuté pre zariadenie špecifikované v 3B001.e) a navrhnuté podľa technických podmienok výrobcu alebo optimalizované na použitie pri výrobe polovodičových prístrojov s kritickými rozmermi 65 nm alebo menej.
Hungarian: Kifejezetten a 3B001.e. pontban meghatározott berendezéshez tervezett berendezés, amelyet a gyártó előírásai szerint terveztek vagy legfeljebb 65 nm-es kritikus méretű félvezető eszközök gyártásához való használatra optimalizáltak;
Slovenian: oprema, posebej narejena za opremo iz točke 3B001(e), in izdelana v skladu s specifikacijami proizvajalca ali prirejena za uporabo v proizvodnji polprevodniških elementov s kritično dimenzijo 65 nm ali manj;
Romanian: echipamente special concepute pentru echipamentele menționate la 3B001.e și concepute conform specificațiilor fabricantului sau optimizate pentru utilizarea în producția de semiconductori cu dimensiuni critice de 65 nm sau mai mici;
Bulgarian: Оборудване, специално проектирано за оборудването, посочено в 3B001.е., и проектирано съгласно спецификация на производителя или оптимизирано за употреба в производство на полупроводникови механизми с критически размери от 65 nm или по-малко;
Estonian: seadmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud punktiga 3B001.e hõlmatud seadmete jaoks ja mis on tootja spetsifikatsioonide järgi ette nähtud või optimeeritud pooljuhtseadiste tootmises kasutamiseks kriitiliste mõõtmetega 65 nm või vähem;
Latvian: iekārtas, kas speciāli radītas iekārtām un kuras definētas 3B001.e. pozīcijā un izveidotas saskaņā ar ražotāja specifikāciju vai optimizētas lietošanai tādu pusvadītāju ierīču ražošanā, kuru kritiskie izmēri ir 65 nm vai mazāk;
Lithuanian: Įranga, specialiai suprojektuotai įrangai, nurodytai 3B001.e., suprojektuota pagal gamintojo charakteristikas ar optimizuota naudojimui puslaidininkių įtaisų, kurių kritiniai matmenys yra ne didesni kaip 65 nm, gamyboje;
Maltese: Tagħmir iddisinjat apposta għat-tagħmir speċifikat fi 3B001.e. u ddisinjat skont l-ispeċifikazzjonijiet tal-manifattur jew ottimizzat għall-użu fil-produzzjoni ta’ apparat semikonduttur b’dimensjonijiet kritiċi ta’ 65 nm jew anqas;