English: For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal “matrix” “composites” substrates, but are not included for the application of silicides to ‘cemented tungsten carbide’ (16), ‘silicon carbide’ (18) substrates.
French: Elles ne sont en revanche pas indiquées pour l’application de siliciures au ‘carbure de tungstène cémenté’ (16) et au ‘carbure de silicium’ (18).
Spanish: Por ejemplo, los datos técnicos del proceso de revestimiento del depósito químico en fase de vapor (CVD) están incluidos para la aplicación de siliciuros a sustratos de "materiales compuestos" (composites), carbono-carbono, cerámicos y de "matriz" metálica pero no están incluidos para la aplicación de siliciuros a sustratos de Carburo de wolframio cementado (16), Carburo de silicio (18).
Italian: Ad esempio, i dati tecnici relativi al processo di rivestimento della deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) sono inclusi per l’applicazione dei siliciuri a carbonio-carbonio, materiali “compositi” a “matrice” ceramica o a “matrice” metallica, ma non per l’applicazione dei siliciuri a substrati di ‘carburo di tungsteno cementato’ (16), ‘carburo di silicio’ (18).
Dutch: Voorbeeld: voor het bekledingsprocedé „chemische afzetting uit de damplaag (CVD)” geldt dat siliciden wel geschikt zijn voor substraten van „composieten” met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal-„matrix”, maar niet voor de substraten ‚gecementeerde wolfraamcarbide’ (16) of ‚siliciumcarbide’ (18).
Danish: De tekniske data for belægningsprocessen ved kemisk dampudfældning (CVD) er for eksempel medtaget for pålægning af silicider til substrater af carboncarbon, keramiske og metal»matrix«»komposit«substrater, men er ikke medtaget for pålægning af silicider til substrater af 'cementeret wolframcarbid' (16) og 'siliciumcarbid' (18).
Swedish: Till exempel, tekniska uppgifter om beläggningsprocessen med kemisk förångningsdeposition (CVD) är inbegripna för applicering av silicider till kol-kol-, keram- och metall-”matris”-”komposit”substrat, men är inte inbegripna för applicering av silicider till substrat av ’hårdmetall innehållande volfram’ (16) och ’kiselkarbid’ (18).
Finnish: Esimerkiksi kemiallista kaasufaasipinnoitusta (CVD) koskevat pinnoitusprosessin tekniset tiedot koskevat niitä tapauksia, joissa silisideillä pinnoitetaan hiili-hiili-, keraami- ja metalli”matriisi””komposiitti”-substraatteja, mutta ne eivät koske tapauksia, joissa silisideillä pinnoitetaan ’volframikarbidikovametalli’ (16)- ja ’piikarbidi’ (18) -substraatteja.
Greek: Για παράδειγμα, τα τεχνικά δεδομένα της μεθόδου επίχρισης που αφορά την εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους (CVD) αναφέρονται στην εφαρμογή των πυριτιδίων σε υποστρώματα «σύνθετων» υλικών με «βάση» άνθρακα-άνθρακα, κεραμικό υλικό και μέταλλο, αλλά δεν αφορούν την εφαρμογή των πυριτιδίων σε υποστρώματα «επιστοιχειωμένου (ενανθρακωμένου) καρβιδίου βολφραμίου» (16) και «καρβιδίου πυριτίου» (18).
Czech: Například technické údaje týkající se procesu nanášení chemická depozice v parní fázi (CVD) se vztahují k použití silicidů na substráty „kompozity“ uhlík-uhlík, keramické „kompozity“ a „kompozity“ s kovovou „matricí“, avšak nikoli k použití silicidů na substráty cementovaný karbid wolframu (16) a karbid křemíku (18).
Slovak: Napríklad technické údaje týkajúce sa procesu chemického nanášania pár (CVD) sa uvádzajú v prípade nanášania silicidov na kompozitné materiály s matricou uhlík-uhlík, keramickou a kovovou, neuvádzajú sa však v prípade nanášania silicidov na substrát spekaný karbid volfrámu (16) ani karbid kremíka (18).
Hungarian: Például a gőzfázisú kémiai leválasztás (CVD) bevonási eljárás műszaki adatai a szilicideknek szén-szén, kerámia és fém „mátrix” „kompozitok” hordozókra való alkalmazása esetében vannak feltüntetve, nincsenek azonban feltüntetve a szilicideknek a ’cementált volfrám-karbid’ (16) és ’szilícium-karbid’ (18) -hordozókra történő alkalmazására.
Slovenian: Primer: Tehnični podatki o postopku nanašanja s kemičnim naparevanjem (CVD) so navedeni samo za nanašanje silicidov na podlage iz ogljik-ogljikovih, keramičnih in kovinskih „matričnih“-„kompozitov“, ne pa tudi za nanašanje silicidov na podlage iz utrjenega volframovega karbida (16) in silicijevaga karbida (18).
Bulgarian: Например, техническите данни за процеса на нанасяне на покрития чрез химическо свързване на пари (НПХСП/CVD) са включени за полагане на силициди върху субстрати от въглерод—въглерод, керамични и метални „матрични“„композити“, но не са включени за полагане на силициди върху субстрати от „циментиран волфрамов карбид“ (16), „силициев карбид“ (18).
Estonian: Näiteks keemilist aurustamist-sadestamist (CVD) hõlmava pindamismenetluse tehnilised andmed puudutavad neid juhte, kus silitsiitidega pinnatakse süsinik-süsinik-, keraamiliste ja metallpõhiainete komposiitsubstraate, kuid ei kehti siis, kui silitsiitidega pinnatakse kõvasulamvolframkarbiid- (16) ja ränikarbiid (18) -substraate.
Latvian: Piemēram, pārklāšanas procesā izmantotās ķīmiskās tvaiku kondensācijas pārklāšanas (CVD) tehniskie dati ir ietverti saistībā ar silicīdu klāšanu uz “kompozītiem” ar oglekļa-oglekļa, keramikas un metāla “matricu” substrātiem, bet nav ietverti saistībā ar silicīdu klāšanu uz ‘cementēta volframa karbīda’ (16), ‘silikona karbīda’ (18) substrātiem.
Lithuanian: Pavyzdžiui, cheminio nusodinimo iš garų fazės dengimo proceso techniniai duomenys nurodyti silicidų dėjimo ant „kompozitų“ su anglis-anglis, keramikiniu ir metaliniu „rišikliu“ padėklų atvejui, bet nenurodyti silicidų dėjimo ant „cementuoto volframo karbido“ (16), „silicio karbido“ (18) padėklų atvejui.
Maltese: Pereżempju, data teknika dwar il-proċess ta’ kisi mid-Depożizzjoni ta’ Sustanza Kimika mill-Fwar (CVD) hija inkluża għall-applikazzjoni ta’ siliċuri għas-sottostrati tal-“kompożiti” ta’ “matriċi” tal-karbonju-karbonju, taċ-ċeramika, u tal-metall, iżda mhiex inkluża għall-applikazzjoni ta’ siliċuri għal karbur tat-tungstenu ssimentat (16), sottostrati (18) tal-‘karbur tas-silikon’.