English: e. All resists designed or optimised for use with imprint lithography equipment specified in 3B001.f.2. that use either a thermal or photo-curable process.
French: e. toutes résines photosensibles (résists) conçues ou optimisées pour les équipements de lithographie par impression visés à l’alinéa 3B001.f.2 qui utilisent un procédé soit thermique soit photoréticulable.
Spanish: e. Todos los materiales de protección (resists) diseñados u optimizados para ser utilizados en los equipos de impresión litográfica incluidos en el subartículo 3B001.f.2. que utilicen un procedimiento térmico o fotocurable.
Italian: e. tutte le resine fotosensibili progettate o ottimizzate per essere utilizzate con apparecchiature di impressione litografica specificate in 3B001.f.2 che utilizzano un processo di invecchiamento prodotto dal calore o dalla luce.
Dutch: alle ‹resists› die ontworpen zijn of optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik met de in 3B001 f)2 bedoelde imprintlithografieapparatuur, waarbij gebruik wordt gemaakt van een thermisch procedé of van een uithardingsproces onder invloed van licht.
Danish: e. Alle resists, der er udviklet eller optimeret til brug med litografisk udstyr til prægning specificeret i 3B001.f.2., som bruger enten en termisk eller lyshærdende proces.
Swedish: Alla resistmaterial som är utformade eller optimerade för att användas tillsammans med litografisk präglingsutrustning som omfattas av avsnitt 3B001.f.2 och som använder antingen en värmeprocess eller en photo-curable-process.
Finnish: e. Kaikki estopinnoitteet, jotka on suunniteltu tai optimoitu käytettäväksi lämpö- tai säteilykovetusprosessia käyttävien 3B001.f.2 kohdassa määriteltyjen kohokuviointilaitteiden kanssa.
Greek: ε. Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά σχεδιασμένα ή αριστοποιημένα για χρήση με τον εξοπλισμό εντυπωτικής λιθογραφίας που καθορίζεται στο 3B001.στ.2. που χρησιμοποιούν είτε θερμική είτε φωτο-στυπωτική διαδικασία.
Czech: c. veškeré rezisty konstruované pro použití s rentgenovými paprsky o citlivosti 2,5 mJ/mm2 nebo lepší; d. veškeré rezisty optimalizované pro technologie zobrazování povrchu, včetně „silylátovaných“ rezistů. Technická poznámka: „Silylační“ techniky jsou definovány jako procesy, které využívají oxidace povrchu rezistu ke zlepšení vlastností jak při suchém, tak při mokrém vyvolávání;
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s röntgenovými lúčmi s citlivosťou najmenej 2,5 mJ/mm2; d) všetky odolné materiály optimalizované pre technológie povrchového zobrazovania vrátane „silylovaných“ odolných materiálov. Technická poznámka: Techniky „silylácie“ sú vymedzené ako procesy zahŕňajúce v sebe oxidáciu povrchu odolných materiálov na zvýšenie výkonu pri mokrom ako aj suchom vyvíjaní.
Hungarian: e. Valamennyi olyan védőanyag, amelyet a 3B001.f.2. pontban meghatározott olyan imprinting litográfiai berendezésekhez terveztek vagy optimalizáltak, amelyek termikus vagy fotokémiai eljárást alkalmaznak.
Slovenian: vse uporovne paste za uporabo ali optimizirane za uporabo s tiskarsko litografsko opremo iz podtočke 3B001(f)(2), ki uporabljajo termični postopek ali postopek strjevanja s svetlobo.
Romanian: toate rășinile destinate sau optimizate pentru utilizare cu echipamentele de litografie cu imprimare menționate la 3B001.f.2 care utilizează un proces termic sau de fotoexpunere.
Bulgarian: е. Всички съпротивителни покрития, проектирани или оптимизирани за употреба с оборудването за литографски печат, посочено в 3B001.f.2., което използва или термален процес, или процес на фотообработка.
Estonian: e. kõik resistid, mis on ette nähtud või optimeeritud kasutamiseks punktis 3B001.f.2 nimetatud jäljendi litograafiaseadmetega, mis kasutavad kas termilist või fototöötlust.
Latvian: e. visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti un optimizēti lietošanai 3B001.f.2. pozīcijā definētajās litogrāfijas iespiediekārtās un kuros lieto vai nu termisku, vai gaismā cietēšanas procesu.
Lithuanian: e. visi rezistai, suprojektuoti ir optimizuoti, kad būtų naudojami su litografinės spaudos įranga, nurodyta 3B001.f.2, kurioje naudojamas terminis arba kietinimo šviesoje procesas.
Maltese: e. Il-materjali fotosensibbli kollha ddisinjati jew ottimizzati għall-użu b’tagħmir litografiku tal-istampar speċifikat fi 3B001.f.2. li jużaw proċess termali jew dak foto-kurabbli.