English: Polyethylene film, of a thickness of 20 micrometres or more but not exceeding 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits [12]
French: Feuille en polyéthylène, d'une épaisseur de 20 micromètres ou plus mais n'excédant pas 40 micromètres, destinée à la fabrication de film photorésistant pour les semi-conducteurs ou des circuits imprimés [12]
German: Polyethylenfolien mit einer Dicke von 20 Mikrometer bis 40 Mikrometer, zum Herstellen von Fotoresist-Filmen für die Halbleiterfertigung oder für gedruckte Schaltungen [12]
Spanish: Hojas de polietileno, de espesor superior o igual a 20 micrómetros pero inferior o igual a 40 micrómetros, destinadas a la fabricación de películas fotorresistentes para la producción de semiconductores o de circuitos impresos [12]
Italian: Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati [12]
Portuguese: Folha de polietileno, de espessura igual ou superior a 20 micrómetros, mas não superior a 40 micrómetros, destinada ao fabrico de filme fotorresistente para os semicondutores ou circuitos impressos [12]
Dutch: foliën van polyethyleen met een dikte van 20 of meer doch niet meer dan 40 micrometer, bestemd voor de vervaardiging van fotoresistfilm gebruikt bij de productie van halfgeleiders of van gedrukte schakelingen [12]
Danish: Polyethylenfolier af tykkelse 20 mikrometer og derover, men ikke over 40 mikrometer, til fremstilling af fotoresistfilm til fremstilling af halvledere eller trykte kredsløb [12]
Swedish: Polyetylenfilm, med en tjocklek av minst 20 mikrometer men högst 40 mikrometer, avsedd för framställning av fotoresistfilm som används vid tillverkning av halvledare eller tryckta kretsar [12]
Czech: Polyethylenové filmy o tloušťce 20 mikrometrů nebo větší, avšak nepřesahující 40 mikrometrů, k výrobě fotorezistivních filmů používaných pro výrobu polovodičů nebo tištěných spojů [12]
Slovak: Polyetylénové filmy s hrúbkou 20 mikrometrov alebo väčšou, ale nepresahujúcou 40 mikrometrov, na výrobu svetlostálych filmov používaných pri výrobe polovodičov alebo tlačených obvodov [12]
Polish: Folia polietylenowa, o grubości 20 mikrometrów lub większej, ale nieprzekraczającej 40 mikrometrów, do produkcji folii fotoodpornych stosowanych do produkcji półprzewodników lub obwodów drukowanych [12]
Hungarian: Polietilén film, legalább 20, de legfeljebb 40 mikron vastagságú, félvezetők vagy nyomtatott áramkörök gyártásához használt fényérzékeny film gyártásához [12]
Slovenian: polietilenski film debeline 20 μm ali več, vendar ne več kot 40 μm, za proizvodnjo fotoobstojnih filmov, ki se uporabljajo v proizvodnji polprevodnikov in tiskanih vezij [12]
Romanian: Pelicule de polietilenă cu o grosime de minimum 20 microni, dar de maximum 40 microni, pentru fabricarea peliculelor fotorezistente utilizate la fabricarea semiconductorilor sau a circuitelor imprimate [12]
Maltese: Film ta’ polietilene, ta’ ħxuna ta’ 20 mikrometri jew aktar iżda mhux iżjed minn 40 mikrometri, għall-produzzjoni ta’ film foto reżistenti użat fil-manifattura ta’ semi-kondutturi jew ċirkuwiti stampati [12]