FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger. Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionized plasma.
French: dépôt par évaporation cathodique par arc qui utilise une cathode consommable du matériau constituant le revêtement et qui émet une décharge d'arc provoquée à la surface par le contact momentané d'un déclencheur mis à la masse. les mouvements contrôlés de la formation d'arc attaquent la surface de la cathode, ce qui crée un plasma fortement ionisé. l'anode peut être soit un cône fixé à la périphérie de la cathode par l'intermédiaire d'un isolant, soit la chambre elle-même. la polarisation du substrat sert au dépôt hors de portée visuelle.
Spanish: en el depósito por arco catódico se utiliza un cátodo consumible del material que constituye el revestimiento y que emite una descarga de arco en la superficie por el contacto momentáneo de un disparador puesto a masa. el movimiento controlado del arco erosiona la superficie del cátodo creando un plasma fuertemente ionizado. el ánodo puede ser un cono fijado a la periferia del cátodo por medio de un aislante o a la cámara. la polarización del sustrato permite el depósito fuera del alcance visual.
Slovenian: nanašanje s katodnim lokom izkorišča sprejemno katodo materiala, ki oblikuje nanos, in ob trenutnem stiku z ozemljeno vžigalno elektrodo pride na površini katode do praznjenja loka. nadzorovano gibanje loka razjeda površino katode in ustvarja visokoionizirano plazmo. anoda je lahko stožec ali konus, pritrjen na obrobju katode, z izolatorjem, ali pa komora. polarizacija podlage se uporablja za nanašanje zunaj vidne linije.
Lithuanian: katodinis lankinis nusodinimas, kai eroduojamas katodas iš dengiančiosios medžiagos, o ant katodo paviršiaus įtaisytas lankinis iškroviklis akimirksnį kontaktuoja su įžemintu paleidimo įtaisu (trigeriu). valdomojo judesio lankinio išlydžio katodo erozija sukuria smarkiai jonizuotą plazmą. anodas gali būti arba kūgis, įtvirtintas prie išorinės katodo dalies per izoliatorių, arba pati kamera. netiesiniam nusodinimui valdyti naudojamas padėklo priešįtampis.
English: The anode can be either a cone attached to the periphery of the cathode, through an insulator, or the chamber. Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition. N.B.This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
French: définition ne s'applique pas au dépôt par arc cathodique aléatoire avec des substrats non polarisés.
Spanish: definición no incluye el depósito por arco catódico aleatorio con sustratos no polarizados.
Slovenian: opomba:ta opredelitev ne zajema nanašanja z naključnim katodnim lokom z nepolariziranimi podlagami.
Lithuanian: n.b.Ši apibrėžtis neapima atsitiktinio katodinio lankinio nusodinimo, kai padėklas neturi priešįtampio.
English: Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma. The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process.
French: le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (te-pvd) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau. l'introduction de matériaux réactifs, l'évaporation de solides à l'intérieur de la chambre de traitement, ainsi que l'utilisation d'instruments de contrôle pour mesurer en cours de processus les caractéristiques optiques et l'épaisseur des revêtements sont des variantes ordinaires de ce procédé.
Spanish: el metalizado iónico es una modificación especial de un proceso general - en el que se utiliza un plasma o una fuente de iones para ionizar el material a depositar y se aplica una polarización negativa al sustrato para facilitar la operación consistente en extraer del plasma el material. la introducción de materiales reactivos, la evaporación de sólidos en el interior de la cámara de proceso y la utilización de monitores para medir durante el proceso las características ópticas y el espesor de los revestimientos son modificaciones normales del proceso.
Slovenian: ionsko nanašanje je posebna oblika splošnega postopka te-pvd, v kateri se za ioniziranje nanosnega materiala izkorišča vir plazme ali vir ionov, in negativni polarizirani material se uporablja za podlage zaradi lažje ekstrakcije nanosnih materialov iz plazme. uporaba reaktivnih elementov, evaporizacije trdnih delcev v komori, v kateri poteka postopek, in uporaba monitorjev za meritve optičnih značilnosti in debeline prevlek med potekom postopka so običajne modifikacije postopka.
Lithuanian: joninis nusodinimas – speciali bendrojo te–pvd proceso atmaina, kai dengimo medžiagai jonizuoti naudojamas plazmos ar jonų šaltinis, o neigiamasis padėklo priešįtampis padeda paimti iš plazmos nusodintus komponentus. reaktingųjų medžiagų įdėjimas, kietųjų medžiagų išgarinimas dengimo kameroje, monitorių naudojimas optiniams dangų parametrams ir storiui matuoti dengimo metu yra įprastos šio proceso modifikacijos.
English: Plasma Spraying is an overlay coating process wherein a gun (spray torch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed. Plasma spraying constitutes either low pressure plasma spraying or high velocity plasma spraying.
French: la projection de plasma est un procédé de revêtement (par recouvrement) par lequel un canon (chalumeau ou torche à plasma) produisant et contrôlant un plasma reçoit des matériaux de revêtement sous forme de poudre ou de fil, les fait fondre et les projette sur un substrat où se forme ainsi un revêtement intégralement adhérent. la pulvérisation de plasma peut être une pulvérisation à faible pression ou une pulvérisation à grande vitesse.
Spanish: la pulverización de plasma es un proceso de revestimiento por recubrimiento en el que una pistola soplete de pulverización que produce y controla un plasma recibe los materiales de revestimiento en forma de polvo o de alambre, los funde y los proyecta hacia un sustrato en el que se forma así un revestimiento aglutinado integralmente. la pulverización de plasma puede ser una pulverización a baja presión o una pulverización a gran velocidad.
Slovenian: pršenje s plazmo je postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem razpršilka oblikuje in krmili plazmo, praškaste ali nitkaste nanosne materiale, jih tali in vrtinči proti podlagi, na kateri se oblikuje integralno povezan nanos. pršenje s plazmo je možno prek plazme z nizkim ali visokim tlakom pršenja.
Romanian: Pulverizarea catodică din plasmă este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le proiectează pe substrat, pe care se formează în consecință o acoperire integral aderentă. pulverizarea cu plasmă poate fi o pulverizare la joasă presiune sau o pulverizare catodică din plasmă de mare viteză.
Lithuanian: plazminis purškimas yra viršutinio sluoksnio sudarymo procesas, kai plazmą formuojantis ir valdantis prožektorius priima miltelių ar vielos pavidalo dengiančiąsias medžiagas, jas išlydo ir stumia prie padėklo, ant kurio formuojama gerai surišta danga. plazminis purškimas gali būti mažo slėgio plazminis purškimas arba didelio greičio plazminis purškimas.
English: Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material). The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
French: le dépôt par pulvérisation cathodique est un procédé de revêtement par recouvrement, fondé sur un phénomène de transfert d'énergie cinétique, par lequel des ions positifs sont accélérés par un champ électrique et projetés sur la surface d'une cible (matériau de revêtement). l'énergie cinétique dégagée par le choc des ions est suffisante pour que des atomes de la surface de la cible soient libérés et se déposent sur le substrat placé de façon adéquate.
Spanish: la deposición catódica es un proceso de revestimiento por recubrimiento basado en un fenómeno de transferencia de energía cinética, en el que iones positivos son acelerados por un campo eléctrico hacia la superficie de un blanco (material de revestimiento). la energía cinética desprendida por el choque de los iones es suficiente para que se liberen átomos de la superficie del blanco y se depositen sobre un sustrato situado convenientemente.
Slovenian: nanašanje z brizganjem je nanašanje prevleke na površino, ki temelji na principu visokega podtlaka in prehoda delcev, kjer so pozitivni ioni pospešeni z elektronskim poljem v smeri sustrata. kinetična energija ionov, ki se zaletijo v substrat, je tako velika, da se atomi na površini nanosnega materiala sprostijo in nanesejo na primerno nameščeno podlago.
Lithuanian: dulkinamasis nusodinimas yra viršutinio sluoksnio sudarymo procesas, pagrįstas judesio kiekio perdavimo reiškiniu: teigiamųjų jonų judėjimą link taikinio (dengiamosios medžiagos) paviršiaus pagreitina elektrinis laukas. smūgiuojančių jonų kinetinės energijos užtenka taikinio paviršiaus atomams išmušti ir nusodinti ant tinkamai įtvirtinto padėklo.
English: Ion Implantation is a surface modification coating process in which the element to be alloyed is ionized, accelerated through a potential gradient and implanted into the surface region of the substrate. This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
French: l'implantation ionique est un procédé de revêtement par modification de surface par lequel l'élément à allier est ionisé, accéléré par un gradient de potentiel et implanté dans la zone superficielle du substrat. cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même temps que le dépôt en phase vapeur par procédé physique par faisceau d'électrons ou le dépôt par pulvérisation cathodique.
Spanish: la implantación iónica es un proceso de revestimiento por modificación de superficie en el que el elemento que se pretende alear es ionizado, acelerado mediante un gradiente de potencial e implantado en la zona superficial del sustrato. la definición incluye procesos en los que la implantación iónica se realiza simultáneamente con el depósito en fase de vapor por método físico de haz de electrones o la deposición catódica.
Slovenian: ionska implantacija je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine, pri katerem se element, predviden za zlitino, ionizira, pospešuje skozi potencialni padec in vsadi v površino podlage. ta postopek vključuje postopek, pri katerem potekata istočasno ionska implantacija in fizično plinska metoda nanašanja s pomočjo elektronskega žarka ali visokega podtlaka.
Lithuanian: jonų implantavimas yra paviršių keičiantis dengimas arba viršutinio sluoksnio sudarymo procesas, kurio metu įlydomasis elementas yra jonizuojamas, jonų judėjimas įgreitinamas potencialiniame lauke, o jonai implantuojami į padėklo paviršinę sritį. tai apima procesus, kurių metu jonų implantavimas vykdomas kartu su elektronų pluošto fizikiniu nusodinimu iš garų fazės ar dulkinamuoju nusodinimu.
English: Note 2:The control status of integrated circuits described in 3A001.a.3. to 3A001.a.9. or 3A001.a.12. which are unalterably programmed or designed for a specific function for another equipment is determined by the control status of the other equipment. N.B.:When the manufacturer or applicant cannot determine the control status of the other equipment, the control status of the integrated circuits is determined in 3A001.a.3. to 3A001.a.9. and 3A001.a.12. 3A001 Electronic components and specially designed components therefor, as follows: a. General purpose integrated circuits, as follows: Note 1:The control status of wafers (finished or unfinished), in which the function has been determined, is to be evaluated against the parameters of 3A001.a.
Spanish: Nota 2:Los circuitos integrados incluyen los tipos siguientes:
English: "Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of equipment or materials specified in 3A, 3B or 3C; Note 1:3E001 does not control "technology" for the "production" of equipment or components controlled by 3A003.
Spanish: "Tecnología", de acuerdo con la Nota General de Tecnología, para el "desarrollo" o la "producción" de equipos o materiales incluidos en los artículos 3A, 3B o 3C;
English: Note 2:3E001 does not control "technology" for the "development" or "production" of integrated circuits specified in 3A001.a.3. to 3A001.a.12., having all of the following: 1. Using "technology" of 0,5 µm or more; and
Spanish: Nota 1:El artículo 3E001 no somete a control la "tecnología" para la "producción" de equipos o componentes sometidos a control por el artículo 3A003.
English: Digital signal processors; Logic processors;
Spanish: Nota 2:El régimen de control de los "ordenadores digitales" o equipo conexo descritos en el artículo 4A003 viene determinado por el régimen de control de los otros equipos o sistemas, siempre que: a.
English: Note 2:The control status of the "digital computers" and related equipment described in 4A003 is determined by the control status of other equipment or systems provided: a. The "digital computers" or related equipment are essential for the operation of the other equipment or systems; b. The "digital computers" or related equipment are not a "principal element" of the other equipment or systems; and
Spanish: 1:El régimen de control de los equipos de "proceso de señales" o de "resaltado de imagen" diseñados especialmente para otros equipos que posean funciones limitadas a las necesarias para los otros equipos viene determinada por la inclusión en el control de los otros equipos aunque se sobrepase el criterio de "elemento principal".
English: 2:For the control status of "digital computers" or related equipment for telecommunications equipment, see Category 5, Part 1 (Telecommunications). c.
Spanish: La "tecnología" relativa a los "ordenadores digitales" y equipo conexo se rija por el artículo 4E.
English: Designed or modified for "fault tolerance"; Note:For the purposes of 4A003.a., "digital computers" and related equipment are not considered to be designed or modified for "fault tolerance" if they utilise any of the following:
Spanish: Nota:A los efectos del subartículo 4A003.a., los "ordenadores digitales" y equipo conexo no se consideran diseñados ni modificados para "tolerancia a fallos" si utilizan cualquiera de los siguientes elementos:
English: Incorporating, or ’designed or modified’ to incorporate, a shaker unit or other vibration test equipment to produce vibration environments equal to or greater than 10 g rms, measured ’bare table’, between 20 Hz and 2 kHz imparting forces equal to or greater than 5 kN; Technical Notes: 1.
Spanish: Que incorporen o estén ’diseñadas o modificadas’ para incorporar una unidad agitadora u otro tipo de equipo para ensayo de vibraciones para producir ambientes de vibración iguales o superiores a 10 g , medidos a ’mesa vacía’ (), entre 20 Hz y 2 kHz ejerciendo fuerzas iguales o superiores a 5 kN;
English: The numbers in parenthesis refer to the Notes following this Table. -------------------------------------------------- ANNEX II
Spanish: Los números entre paréntesis se refieren a las Notas que siguen a esta Tabla.
Dutch: Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn.
English: Member state, name and signature, stamp of deduction 1. 2.
Spanish: Estado miembro, nombre, apellidos y firma, sello de la autoridad responsable de la deducción
Dutch: Lidstaat, naam en handtekening, stempelafdruk van de afboekende autoriteit
English: Designed to withstand …; 6A001.a.2.a.2. Hydrophones … Incorporating …
Spanish: Diseñados para soportar …
Dutch: ontworpen om een druk te weerstaan …;
English: 6A001.a.2.f. Processing equipment, specially designed for real time application with bottom or bay cable systems, having "user-accessible programmability" and time or frequency domain processing and correlation, including spectral analysis, digital filtering and beamforming using Fast Fourier or other transforms or processes; 6D003.a. "Software" for the "real time processing" of acoustic data;
Spanish: Dotados de módulos de señales de grupos de hidrófonos multiplexados …
Dutch: met ingebouwde multiplex-verzendingsmodules …;
English: Active noise reduction or cancellation systems, or magnetic bearings, specially designed for power transmission systems, and incorporating electronic control systems capable of actively reducing equipment vibration by the generation of anti-noise or anti-vibration signals directly to the source; 8E002.a. "Technology" for the "development", "production", repair, overhaul or refurbishing (re-machining) of propellers specially designed for underwater noise reduction.
Spanish: Sistemas de reducción de ruido para buques con un desplazamiento igual o superior a 1000 toneladas, según se indica:
Dutch: Geluiddempingssystemen voor gebruik in schepen met een waterverplaatsing van 1000 ton of meer, als hieronder:
English: 5E002 Only "technology" for the "development", "production" or "use" of the goods specified in 5A002.a.2. or 5D002.c.1. above. Items of the MTCR technology
Spanish: Sólo equipo lógico () que tenga las características o que realice o simule las funciones de los equipos incluidos en los artículos 5A002.a.2.
English: "Angle random walk" (7) means the angular error build up with time that is due to white noise in angular rate. (IEEE STD 528-2001)
Polish: „Czas trwania emisji lasera” (6) Czas, w którym „laser” emituje promieniowanie „lasera”, który dla „laserów impulsowych” oznacza czas emitowania pojedynczego impulsu lub serii kolejnych impulsów.
Estonian: (Elektri- ja Elektroonikainseneride Instituudi inertsiaalsete sensorite terminoloogia standard – Institute of Electrical and Electronics Engineers Standard for Inertial Sensor Terminology (IEEE STD 528–2001))
English: ’Nuclear reactor internals’ specially designed or prepared for use in a "nuclear reactor", including support columns for the core, fuel channels, thermal shields, baffles, core grid plates, and diffuser plates; Note:In 0A001.h.
Swedish: ’Kärnreaktors interna delar’ som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en "kärnreaktor", inklusive bottenplatta för härden, bränslekanaler (bränsleboxar), termiska skärmar, bafflar, härdgaller samt diffusorplåtar.
Romanian: „Componente interne ale reactorului nuclear” special concepute sau pregătite pentru a fi utilizate într-un „reactor nuclear”, inclusiv coloanele de susținere a miezului reactorului, canalele de combustibil, ecranele termice, deflectoarele, plăcile rețea ale zonei active și plăcile difuzorului;
Estonian: ’Tuumareaktori siseosad’, mis on spetsiaalselt projekteeritud või valmistatud kasutamiseks „tuumareaktoris”, sealhulgas südamiku kandetarindid, kütusekanalid, soojusekraanid, deflektorid, südamiku restplaadid ja hajutiplaadid;
English: Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);
Portuguese: Microcyclus ulei (sinónimo: Dothidella ulei);
Polish: Microcyclus ulei (synonim Dothidella ulei);
Estonian: Microcyclus ulei (sünonüüm Dothidella ulei);
English: Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);
Portuguese: Puccinia graminis (sinónimo: Puccinia graminis f. sp. tritici);
Polish: Puccinia graminis (synonim Puccinia graminis f. sp. tritici);
Estonian: Puccinia graminis (sünonüüm Puccinia graminis f. sp. tritici);
English: Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);
Portuguese: Puccinia striiformis (sinónimo: Puccinia glumarum);
Polish: Puccinia striiformis (synonim Puccinia glumarum);
Estonian: Puccinia striiformis (sünonüüm Puccinia glumarum);
English: 9A009.a. Hybrid rocket propulsion systems with total impulse capacity exceeding 1.1 MNs.
Estonian: 9A009.a Hübriidsed raketi tõukejõusüsteemid, mille koguimpulss on üle 1,1 MNs.
English: Article 13(3) —
Estonian: Artikli 13 lõige 3
English: Article 13(6) —
Estonian: Artikli 13 lõige
English: In accordance with the rules set out in paragraph 101 on page 86 of the Interinstitutional style guide (1997 edition), for texts in English published in the Official Journal of the European Communities: a comma is used to separate the whole number from the decimals, whole numbers are presented in series of three, each series being separated by a thin space. DEFINITIONS OF TERMS USED IN THIS ANNEX Definitions of terms between ’single quotation marks’ are given in a Technical Note to the relevant item. Definitions of terms between "double quotation marks" are as follows: N.B.:Category references are given in brackets after the defined term.
Dutch: DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN
Finnish: Toimielinten yhteisen julkaisukäsikirjan (vuoden 1997 laitos) sivulla 84 hakemistonumeron 102 kohdalla esitettyjen sääntöjen mukaisesti Euroopan unionin virallisessa lehdessä julkaistavissa teksteissä
English: "Active pixel" (6 8) is a minimum (single) element of the solid state array which has a photoelectric transfer function when exposed to light (electromagnetic) radiation. "Adapted for use in war" (1) means any modification or selection (such as altering purity, shelf life, virulence, dissemination characteristics, or resistence to UV radiation) designed to increase the effectiveness in producing casualties in humans or animals, degrading equipment or damaging crops or the environment. "Adjusted Peak Performance" (4) is an adjusted peak rate at which "digital computers" perform 64-bit or larger floating point additions and multiplications, and is expressed in Weighted TeraFLOPS (WT) with units of 1012 adjusted floating point operations per second.
Finnish: luvun kokonaisosa ryhmitellään kolmen numeron ryhmiin, joiden välissä on ohuke.
English: N.B.:See Category 4, Technical Note. "Aircraft" (1 7 9) means a fixed wing, swivel wing, rotary wing (helicopter), tilt rotor or tilt-wing airborne vehicle. N.B.:See also "civil aircraft".
Finnish: TÄSSÄ LIITTEESSÄ KÄYTETTYJEN TERMIEN MÄÄRITELMÄT