English: The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
French: le substrat et le mélange de poudres sont placés dans une cornue qui est portée à une température comprise entre 1030 k (757 °c) et 1375 k (1102 °c) pendant un temps suffisant pour permettre le dépôt du revêtement.
German: Das Substrat und das Pulvergemisch befinden sich in einer Retorte, die auf eine Temperatur zwischen 1030 K (757 °C) und 1375 K (1102 °C) erhitzt wird, wobei die Haltezeit ausreichend bemessen sein muss, um die Beschichtung abzuscheiden.
Spanish: el sustrato y la mezcla de polvo se introducen en una retorta que se calienta a una temperatura comprendida entre 1030 k (757 °c) y 1375 k (1102 °c) durante un tiempo suficiente para que se deposite el revestimiento.
Italian: Il substrato e la miscela di polveri sono posti in una storta portata ad una temperatura compresa tra 1030 K (757 °C) e 1375 K (1102 °C) per un tempo sufficiente a permettere la deposizione del rivestimento.
Portuguese: O substrato e a mistura de pós são introduzidos numa retorta, que é aquecida a uma temperatura compreendida entre 1030 K (757 °C) e 1375 K (1102 °C) durante o tempo necessário para a deposição do revestimento.
Dutch: Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1030 K (757 °C) à 1375 K (1102 °C) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.
Danish: Substratet og pulverblandingen indeholdes i en retort, som opvarmes til mellem 1030 K (757 °C.) og 1375 K (1102 °C.) i tilstrækkelig lang tid til udfældning af belægningen.
Swedish: Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1030 K (757 °C) och 1375 K (1102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.
Finnish: Substraatti ja jauheseos asetetaan retorttiin, joka kuumennetaan 757 °C (1030 K) – 1102 C° (1375 K) asteeseen riittäväksi ajaksi pinnoitteen aikaansaamiseksi.
Greek: Το μίγμα υποστρώματος και κόνεων περιέχεται σε κάμινο κέρατος, που θερμαίνεται σε θερμοκρασία μεταξύ 1030 Κ (757 °C) και 1375 (1102 °C) για όσο χρόνο απαιτεί η εναπόθεση του επιχρίσματος.
Czech: Substrát a prášková směs jsou uloženy v retortě, která je po dobu dostatečnou pro vytvoření povlaku vyhřívána na teplotu 1030 K (757 °C) až 1375 K (1102 °C).
Slovak: Substrát a prášková zmes sa nachádza v retorte, ktorá sa zahreje na teplotu 1030 K (757 °C) a 1375 K (1102 °C) na dobu postačujúcu na to, aby sa vytvoril povlak.
Polish: Podłoże wraz z mieszaniną proszków znajduje się w retorcie, która jest podgrzewana do temperatury od 1030 K (757 °C) do 1375 K (1102 °C) przez okres wystarczający do osadzenia powłoki.
Hungarian: A hordozót és a porkeveréket egy retortában helyezik el, amelyet a bevonóanyag leválásához szükséges időtartamra 1030 K (757 °C) – 1375 K (1102 °C) közötti hőmérsékletre fűtenek fel.
Slovenian: substrat in mešanica prahov sta v retorti, ogreti na temperaturo med 1030 k (757 °c) in 1375 k (1102 °c), za čas, ki zadošča za nanos prevleke.
Romanian: Substratul și amestecul de pulberi este introdus într-o retortă care este încălzită între 1030 K (757 °C) și 1375 K (1102 °C) un timp suficient pentru depunerea acoperirii.
Bulgarian: Субстратът и прахообразната смес се поставя в реторта, която се нагрява до температури между 1030 K (757 °C) and 1375 K (1102 °C) за достатъчно дълго време, за да се утаи покритието.
Estonian: Põhimik ja pulbrisegu asetatakse retorti, mida kuumutatakse katte sadestamiseks piisava aja jooksul temperatuurivahemikus 1030 K (757 °C) kuni 1375 K (1102 °C).
Latvian: Substrātu un pulvera maisījumu ievieto retortē, kuru uzkarsē līdz 1030–1375 K (757–1102 °C) temperatūrai, un šādu temperatūru uztur pārklājuma veidošanai vajadzīgo laiku;
Lithuanian: padėklas ir miltelių mišinys sudedami į kamerą, kuri kaitinama 1030 k (757 °c)–1375 k (1102 °c) temperatūroje tiek laiko, kiek reikia dangai susidaryti.
Maltese: Is-sottostrat u t-taħlita tat-trab jinżammu fi storta li hija msaħħna għal bejn 1030 K (757 °C) u 1375 K (1102 °C) għal ħin biżżejjed sabiex tiġi depożitata l-kisja.