English: equipment specially designed for equipment specified in 3B001.e. and designed according to the manufacturer's specifications or optimised for use in the production of semiconductor devices with critical dimensions of 180 nm or less;
French: équipement spécialement conçu pour les équipements visés à l'alinéa 3B001.e. et conçu selon les spécifications du fabricant ou optimisé pour être utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs ayant une dimension critique égale ou inférieure à 180 nm;
German: Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung sowie entwickelt gemäß Herstellerangaben oder optimiert für die Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen mit einem CD-Wert (critical dimensions) von kleiner/gleich 180 nm;
Spanish: Equipos diseñados especialmente para el equipo incluido en el subartículo 3B001.e. y diseñados de conformidad con las especificaciones del fabricante u optimizados para ser utilizados en la fabricación de dispositivos semiconductores con unas dimensiones críticas iguales o inferiores a 180 nm;
Italian: apparecchiature appositamente progettate per le apparecchiature specifiche in 3B001.e, progettate secondo le specifiche del costruttore o ottimizzate per l’uso nella produzione di dispositivi semiconduttori con dimensioni critiche uguali o inferiori a 180 nm;
Dutch: speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en ontworpen volgens de specificaties van de fabrikant of geoptimaliseerd om te worden gebruikt voor het produceren van halfgeleiderelementen met kritische afmetingen van 180 nm of minder
Danish: Udstyr specielt konstrueret til udstyr, der er specificeret i 3B001.e., og konstrueret efter producentens specifikationer eller optimeret med henblik på fremstilling af halvlederkomponenter med kritiske dimensioner på 180 nm eller derunder;
Swedish: Utrustningen är speciellt konstruerad för utrustning som anges i avsnitt 3B001.e och konstruerad enligt tillverkarens specifikationer eller optimerad för användning vid produktion av halvledarenheter med kritiska dimensioner på 180 nm eller mindre.
Finnish: Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu 3B001.e kohdassa määriteltyjä laitteita varten ja jotka on suunniteltu valmistajan eritelmien mukaan tai optimoitu käytettäväksi sellaisten puolijohdelaitteiden tuotannossa, joiden kriittiset mitat ovat 180 nm tai vähemmän;
Greek: Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιασθεί για εξοπλισμό που καθορίζεται στο σημείο 3Β001.ε. και σχεδιασμένος σύμφωνα με τις προδιαγραφές του κατασκευαστή ή βελτιστοποιημένος προς χρήση στην παραγωγή συσκευών ημιαγωγών με κρίσιμες διαστάσεις έως και 180 mm.
Czech: zařízení speciálně navržené pro zařízení uvedené v položce 3B001.e. a navržené podle technických podmínek výrobce anebo optimalizované pro použití při výrobě polovodičových nástrojů s kritickými rozměry 180 nm anebo méně;
Slovak: zariadenie osobitne navrhnuté pre zariadenie špecifikované v 3B001.e a navrhnuté podľa technických podmienok výrobcu alebo optimalizované na použitie pri výrobe polovodičových prístrojov s kritickými rozmermi 180 nm alebo menej;
Polish: sprzęt specjalnie zaprojektowany do sprzętu wymienionego w pozycji 3B001.e oraz stosownie do wymagań producenta lub optymalizowany do użytku w produkcji urządzeń półprzewodnikowych o wymiarach krytycznych równych 180 nm lub mniejszych;
Hungarian: Kifejezetten a 3B001.e. pontban meghatározott berendezéshez tervezett berendezés, amelyet a legfeljebb 180 nm-es kritikus méretű félvezető eszközök gyártásához terveztek vagy optimalizáltak;
Slovenian: oprema, posebej narejena za opremo iz točke 3B001.e in izdelana v skladu s specifikacijami proizvajalca ali prirejena za uporabo v proizvodnji polprevodniških elementov s kritično dimenzijo 180 nm ali manj;
Estonian: seadmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud punktiga 3B001.e hõlmatud seadmete jaoks ja mis on tootja spetsifikatsioonide järgi ette nähtud või optimeeritud pooljuhtseadmete tootmises kasutamiseks kriitiliste mõõtmetega 180 nm või vähem;
Latvian: iekārtas, kas speciāli radītas iekārtām un kuras definētas 3B001.e. pozīcijā un izveidotas saskaņā ar ražotāja specifikāciju vai optimizētas lietošanai tādu pusvadītāju ierīču ražošanā, kuru kritiskie izmēri ir 180 nm vai mazāk;
Lithuanian: Įranga, specialiai sukurta įrangai, nurodytai 3B001.e., sukurta pagal gamintojo charakteristikas ar optimizuota naudojimui puslaidininkių įtaisų, kurių kritiniai matmenys yra ne didesni kaip 180 nm, gamyboje;