FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 μcoulomb/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 μcoulomb/mm2 ou meilleure;
German: alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 µC/mm2;
Spanish: Todos los materiales de protección («resists») destinados a su utilización con haces de electrones o haces iónicos, y que tengan una sensibilidad de 0,01 µculombios/mm2 o mejor;
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) progettate per essere utilizzate sotto l’effetto di fasci elettronici o ionici, aventi sensibilità di 0,01 microcoulomb/mm2 o migliore;
Dutch: alle „resists” ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter;
Danish: Alle resists, til brug med elektronstråler eller ionstråler, med en følsomhed på 0,01 mikrocoulomb/mm2 eller bedre;
Swedish: Alla resistmaterial, som är avsedda att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre.
Finnish: Kaikki estopinnoitteet, jotka on suunniteltu käytettäväksi elektroni- tai ionisuihkun kanssa ja joiden herkkyys on 0,01 mikrocoulombia/mm2 tai parempi;
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά για χρήση με δέσμες ηλεκτρονίων ή ιόντων που έχουν ευαισθησία 0,01 μcoulomb/mm2 ή καλύτερη,
Czech: veškeré rezisty konstruované pro použití s elektronovými nebo iontovými paprsky o citlivosti 0,01 μcoulomb/mm2 nebo lepší;
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s elektrónovými lúčmi alebo iónovými lúčmi, s citlivosťou najmenej 0,01 μcoulomb/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne zaprojektowane do użytku z wiązkami elektronowymi lub jonowymi, o czułości 0,01 μC/mm2 lub lepszej;
Hungarian: 0,01 μcoulomb/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi olyan védőréteg anyag, amelyeket elektronsugárral vagy ionsugárral történő alkalmazásra terveztek;
Slovenian: vse uporovne paste za uporabo z elektronskimi ali ionskimi žarki, z občutljivostjo 0,01 (mikrokulomba) μcoulomb/mm2 ali boljšo;
Estonian: kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks elektron- või ioonkimpudega, tundlikkusega 0,01 μC/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam elektronu staru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām ar jutību 0,01 mikrokuloni/mm2 vai lielāku;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti elektronpluoštėje arba jonpluoštėje litografijoje, kurių jautris yra ne mažesnis kaip 0,01 μC/mm2;
English: all resists designed for use with X-rays, with a sensitivity of 2,5 mJ/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure;
German: alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Röntgenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 2,5 mJ/mm2;
Spanish: Todos los materiales de protección («resists») destinados a su utilización con rayos X y que tengan una sensibilidad de 2,5 mJ/mm2 o mejor;
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) progettate per essere utilizzate sotto l’effetto di raggi X, aventi sensibilità di 2,5 mJ/mm2 o migliore;
Dutch: alle „resists” ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter;
Danish: Alle resists, til brug med røntgenstråler, med en følsomhed på 2,5 mJ/mm2 eller bedre;
Swedish: Alla resistmaterial som är avsedda att användas tillsammans med röntgenstrålar och som har en känslighet som är 2,5 mJ/mm2eller bättre.
Finnish: Kaikki röntgenestopinnoitteet, joiden herkkyys on 2,5 mJ/mm2 tai parempi;
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά για χρήση με ακτίνες Χ, με ευαισθησία 2,5 mJ/mm2 ή καλύτερη,
Czech: veškeré rezisty konstruované pro použití s rentgenovými paprsky o citlivosti 2,5 mJ/mm2 nebo lepší;
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s röntgenovými lúčmi s citlivosťou najmenej 2,5 mJ/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne przeznaczone do użytku promieni rentgenowskimi, posiadające czułość 2,5 mJ/mm2 lub lepszą;
Hungarian: 2,5 mJ/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi röntgensugárral történő használatra tervezett védőréteg;
Slovenian: vse uporovne paste za uporabo z rentgenskimi žarki, z občutljivostjo 2,5 mJ/mm2 ali boljšo;
Estonian: kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks röntgenikiirtega, tundlikkusega 2,5 mJ/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam rentgenstaru tehnoloģijās, ar jutību 2,5 mJ/mm2 vai lielāku;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti rentgeno litografijoje, kurių jautris yra ne mažesnis kaip 2,5 mJ/mm2;
English: all resists optimised for surface imaging technologies, including "silylated" resists.
French: toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des technologies de formation d'images de surface, notamment résines photosensibles à "silylation".
German: alle Fotoresists, optimiert für Oberflächen-Belichtungstechnologien einschließlich ‚silylierter‘ Fotoresists (silylated resists);
Spanish: Todos los materiales de protección optimizados para tecnologías de formación de imágenes de superficie, incluidos los materiales de protección («resists»)’sililados’;
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) ottimizzate per tecnologie di formazione di immagini di superficie, comprese le resine fotosensibili a ’sililazione’;
Dutch: alle „resists” die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ‚gesilyleerde’ resists.
Danish: Alle resists, der er optimeret til overfladebilleddannelsesteknologi, inklusive ’silylerede’ resists;
Swedish: Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker inklusive ”silylated” resistmaterial.
Finnish: Kaikki pintakuvausteknologiaa varten optimoidut estopinnoitteet, ’piitetyt’ estopinnoitteet mukaan lukien.
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά αριστοποιημένα για τεχνολογίες απεικόνισης επιφανειών, συμπεριλαμβανομένων των ’πυριτικοποιημένων’ φωτοανθεκτικών υλικών.
Czech: veškeré rezisty optimalizované pro technologie zobrazování povrchu, včetně ‚silylátovaných‘ rezistů.
Slovak: všetky odolné materiály optimalizované pre technológie povrchového zobrazovania vrátane ‚silylovaných‘ odolných materiálov.
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne zoptymalizowane do technologii tworzenia obrazów powierzchniowych, włącznie z fotorezystami „siliatowanymi”.
Hungarian: A felületi képalkotási technológiákhoz optimalizált összes védőréteg, beleértve a „szililezett” védőanyagokat is;
Slovenian: vse uporovne paste, optimizirane za tehniko površinske preslikave, skupaj s „siliciranimi“ uporovnimi pastami;
Estonian: kõik resistid, mis on optimeeritud pinnakujundamise tehnoloogiate jaoks, sealhulgas ka ’silüleeritud’ resistid.
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas optimizēti attēlu formēšanas tehnoloģijām, arī "sililēti" pārklājumi;
Lithuanian: Visi rezistai, optimizuoti vaizdų sudarymo paviršiuose technologijai, įskaitant ’sililinius’ rezistus.
English: "Silylation" techniques are defined as processes incorporating oxidation of the resist surface to enhance performance for both wet and dry developing.
French: Les techniques de "silylation" sont des procédés qui comportent l'oxydation de la surface de la résine photosensible pour améliorer les performances de développement humide ou à sec.
German: ‚Silylation‘-Techniken sind Verfahren, bei denen Oxydation innerhalb der Resistschicht zur Verbesserung der Nass- und Trockenentwicklung angewendet wird.
Spanish: Los métodos de ’sililación’ se definen como procesos que incluyen la oxidación de la superficie del material de protección con el fin de mejorar la realización del revelado tanto en húmedo como en seco.
Italian: le tecniche di ’sililazione’ sono processi che comportano l’ossidazione della superficie della resina fotosensibile per migliorare le prestazioni di sviluppo sia umido che a secco.
Dutch: ‚Silyleer’ technieken zijn procédés waarbij het oppervlak van de „resists” wordt geoxideerd ter verhoging van de kwaliteit bij zowel natte als droge ontwikkeling.
Danish: ’Silylerings’ teknik defineres som processer, der omfatter oxidering af resistoverfladen for at forbedre udførelsen af både våd og tør fremkaldning.
Swedish: Med ”silylated”-teknik avses processer som innebär att resistmaterial oxideras på ytan för att förstärka effekten av såväl torr som våt framkallning.
Finnish: ’Piittämis’tekniikka on prosessi, jossa käytetään estopinnoitteen pinnan oksidointia parantamaan sen ominaisuuksia sekä märkä- että kuivakehityksessä.
Greek: Οι τεχνικές μέθοδοι ’πυριτικοποίησης’ ορίζονται ως οι διαδικασίες που περιλαμβάνουν οξείδωση της επιφάνειας του φωτοανθεκτικού υλικού ώστε να ενισχυθεί η απόδοσή του τόσο για υγρή όσο και για ξηρά εμφάνιση.
Czech: ‚Silylační‘ techniky jsou definovány jako procesy, které využívají oxidace povrchu rezistu ke zlepšení vlastností jak při suchém, tak při mokrém vyvolávání;
Slovak: Techniky ‚silylácie‘ sú vymedzené ako procesy zahŕňajúce v sebe oxidáciu povrchu odolných materiálov na zvýšenie výkonu pri mokrom, ako aj suchom vyvíjaní.
Polish: Techniki „siliatowania” są zdefiniowane jako procesy zawierające utlenianie powierzchni materiałów fotorezystywnych w celu poprawy ich parametrów zarówno podczas wywoływania na sucho, jak i na mokro.
Hungarian: A szililezési technikák olyan eljárások, amelyek a védőréteg felületének oxidálását is magukban foglalják, mind a nedves, mind a száraz előhívási eljárás teljesítményének fokozása céljából.
Slovenian: Tehnike „siliciranja“ so opredeljene kot postopki, ki vključujejo oksidacijo uporovne površine zaradi izboljšanja lastnosti pri mokrem in suhem razvijanju.
Estonian: ’Silüleerimistehnika’ tähendab protsesse, mis sisaldavad resisti pinna oksüdeerimist, et parandada selle omadusi nii märg- kui ka kuivilmutamisel.
Latvian: "Sililēšanas" tehnoloģijas definē kā procesus, kas ietver aizsargpārklājuma oksidēšanu, lai celtu gan slapjas, gan sausas attīstīšanas intensitāti.
Lithuanian: ’Sililinimo’ technika yra apibrėžiama kaip procesas, apimantis rezisto paviršiaus oksidavimą, siekiant pagerinti drėgnąjį ir sausąjį ryškinimą.
English: Organo-inorganic compounds, as follows:
French: Composés organo-inorganiques, comme suit:
German: Organisch-anorganische Verbindungen wie folgt:
Spanish: Compuestos organo-inorgánicos según se indica:
Italian: Composti organici-inorganici come segue:
Dutch: Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder:
Danish: Følgende organiske-uorganiske forbindelser:
Swedish: Organiska-oorganiska blandningar enligt följande:
Finnish: Seuraavat orgaanis-epäorgaaniset yhdisteet:
Greek: Ενώσεις οργανικού με ανόργανο στοιχείο ως εξής:
Czech: Organoanorganické sloučeniny:
Slovak: Organicko-anorganické zlúčeniny:
Polish: Związki organiczno-nieorganiczne, takie jak:
Hungarian: Szerves-szervetlen vegyületek, az alábbiak szerint:
Slovenian: Organsko-anorganske spojine:
Estonian: Orgaanilis-anorgaanilised ühendid:
Latvian: Organiski-neorganiskie savienojumi:
Lithuanian: Organiniai – neorganiniai junginiai, išvardyti toliau:
English: organo-metallic compounds of aluminium, gallium or indium having a purity (metal basis) better than 99,999 %;
French: composés organométalliques d'aluminium, de gallium et d'indium ayant une pureté (pureté du métal) supérieure à 99,999 %;
German: Metallorganische Verbindungen aus Aluminium, Gallium oder Indium mit einer Reinheit (bezogen auf das Metall) größer als 99,999 %;
Spanish: Compuestos organometálicos de aluminio, de galio o de indio, con una pureza (del metal) superior al 99,999 %;
Italian: composti metallo-organici di alluminio, gallio o indio, aventi una purezza (purezza del metallo) superiore al 99,999 %;
Dutch: organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %;
Danish: Metalorganiske forbindelser af aluminium, gallium eller indium, med en renhed (metal-basis), der er bedre end 99,999 %;
Swedish: Metallorganiska blandningar av aluminium, gallium eller indium, med en renhetsgrad (på metallbasen) som är bättre än 99,999 %.
Finnish: Metalliorgaaniset alumiini-, gallium- tai indiumyhdisteet, joiden (perusmetallin) puhtaus (metalleista) on parempi kuin 99,999 %;
Greek: Οργανομεταλλικές ενώσεις αργιλίου, γαλλίου ή ινδίου που έχουν καθαρότητα (με βάση το μέταλλο) καλύτερη από 99,999 %,
Czech: organokovové sloučeniny hliníku, galia nebo india, které mají čistotu (čistotu kovu) lepší než 99,999 %;
Slovak: organokovové zlúčeniny hliníka, gália alebo india s čistotou (kovový základ) vyššou ako 99,999 %;
Polish: materiały metaloorganiczne z glinu, galu lub indu o czystości (na bazie metalu) powyżej 99,999 %;
Hungarian: Alumínium, gallium, vagy indium fémorganikus vegyületei 99,999 %-nál nagyobb tisztasággal (fémbázison);
Slovenian: organsko-kovinske spojine aluminija, galija ali indija, katerih čistota (kovinske osnove) je več kot 99,999 %;
Estonian: alumiiniumi, galliumi või indiumi metallorgaanilised ühendid puhtusega (metalli baasil) üle 99,999 %;
Latvian: organimetāliskie alumīnija, gallija un indija savienojumi ar (metāla bāzes) tīrības pakāpi lielāku par 99,999 %;
Lithuanian: Organiniai metalo junginiai iš aliuminio, galio ar indžio, kurių grynumas (metalo bazė) geresnis kaip 99,999 %;
English: organo-arsenic, organo-antimony and organo-phosphorus compounds having a purity (inorganic element basis) better than 99,999 %.
French: composés organoarséniés, organoantimoniés et organophosphorés ayant une pureté (pureté de l'élément inorganique) supérieure à 99,999 %.
German: Organische Arsen-, Antimon- oder Phosphorverbindungen mit einer Reinheit (bezogen auf das anorganische Element) größer als 99,999 %.
Spanish: Compuestos organoarsénicos, organoantimónicos y organofosfóricos con una pureza (del elemento inorgánico) superior a 99,999 %.
Italian: composti organici di arsenico, antimonio e fosforo, aventi una purezza (purezza dell’elemento inorganico) superiore al 99,999 %.
Dutch: organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %.
Danish: Organiske arsen-, antimon- og phosphorforbindelser, med en renhed (på basis af det uorganiske grundstof), der er bedre end 99,999 %.
Swedish: Organiska blandningar med antimon, arsenik eller fosfor som har en renhet (baserat på det oorganiska elementet) som är bättre än 99,999 %.
Finnish: Arseeniorgaaniset, antimoni-orgaaniset ja fosfori-orgaaniset yhdisteet, joiden puhtaus (epäorgaanisista aineista) on parempi kuin 99,999 %.
Greek: Οργανικές ενώσεις αρσενικού, αντιμονίου και φωσφόρου που έχουν καθαρότητα (με βάση το ανόργανο στοιχείο) καλύτερη από 99,999 %.
Czech: organické sloučeniny arsenu, antimonu a fosforu, které mají čistotu (čistotu anorganické složky) lepší než 99,999 %.
Slovak: organoarzénové, organoantimónové a organofosforové zlúčeniny s čistotou (základ anorganického prvku) vyššou ako 99,999 %.
Polish: związki arsenoorganiczne, antymonoorganiczne i fosforoorganiczne o czystości (na bazie związku nieorganicznego) lepszej niż 99,999 %.
Hungarian: Szerves arzén-, antimon- vagy foszforvegyületek 99,999 %-nál nagyobb tisztasággal (szervetlen elem bázison).
Slovenian: organsko-arzenove, organsko-antimonove in organsko-fosforjeve spojine, katerih čistota (anorganske osnove) je več kot 99,999 %.
Estonian: arseeni, antimoni või fosfori orgaanilised ühendid puhtusega üle 99,999 % (anorgaaniliste elementide baasil).
Latvian: organiski arsēna, antimona un fosfora savienojumi ar (neorganiskā elementa bāzes) tīrības pakāpi lielāku par 99,999 %.
Lithuanian: Organiniai arseno, organiniai stibio ir organiniai fosforo junginiai, kurių grynumas (neorganinio elemento bazė) geresnis kaip 99,999 %.
English: Hydrides of phosphorus, arsenic or antimony, having a purity better than 99,999 %, even diluted in inert gases or hydrogen.
French: Hydrures de phosphore, d'arsenic ou d'antimoine, ayant une pureté supérieure à 99,999 %, même dilués dans des gaz inertes ou dans l'hydrogène.
German: Phosphor-, Arsen- oder Antimonhydride mit einer Reinheit größer als 99,999 %, auch verdünnt in Inertgasen oder Wasserstoff.
Spanish: Hidruros de fósforo, de arsénico o de antimonio con una pureza superior al 99,999 %, incluso diluidos en gases inertes o de hidrógeno.
Italian: Idruri di fosforo, di arsenico o di antimonio, aventi una purezza superiore al 99,999 %, anche se diluiti in gas inerti o idrogeno.
Dutch: Hydriden van fosfor, arseen of antimoon, met een zuiverheid hoger dan 99,999 %, zelfs bij verdunning in edelgassen of waterstof.
Danish: Hydrider af phosphor, arsen eller antimon, med en renhed der er bedre end 99,999 %, selv i fortynding med inaktive luftarter eller hydrogen.
Swedish: Hydrider av fosfor, arsenik eller antimon som har en renhet som är bättre än 99,999 %, även utspädd i ädelgaser eller väte.
Finnish: Fosfori-, arseeni- tai antimonihydridit, joiden puhtaus on parempi kuin 99,999 %, myös jalokaasuilla tai vedyllä laimennettuina.
Greek: Υδρίδια φωσφόρου, αρσενικού ή αντιμονίου που έχουν καθαρότητα καλύτερη από 99,999 %, ακόμη και αν έχουν διαλυθεί σε αδρανή αέρια ή υδρογόνο.
Czech: Hydridy fosforu, arsenu nebo antimonu, které mají čistotu lepší než 99,999 %, případně zředěné v inertních plynech nebo vodíku.
Slovak: Hydridy fosforu, arzénu alebo antimónu s čistotou viac ako 99,999 %, a to aj zriedené v inertných plynoch alebo vo vodíku.
Polish: Wodorki fosforu, arsenu lub antymonu o czystości powyżej 99,999 %, nawet rozpuszczone w gazach obojętnych lub w wodorze.
Hungarian: Foszfor-, arzén- vagy antimon-hidridek, melyek tisztasága még semleges gázokban, vagy hidrogénben oldva is nagyobb mint 99,999 %.
Slovenian: Hidridi fosforja, arzena ali antimona, katerih čistota je več kot 99,999 %, tudi če so razredčeni v inertnih plinih ali vodiku.
Estonian: Fosfori, arseeni või antimoni hüdriidid puhtusega üle 99,999 %, ka inertgaasides või vesinikus lahjendatuna.
Latvian: Fosfora, arsēna vai antimona hidrīdi ar tīrības pakāpi lielāku par 99,999 %, arī tad, ja tie izšķīdināti inertā gāzē vai ūdeņradī.
Lithuanian: Fosforo, arseno ar stibio hidridai, turintys grynumą, geresnį kaip 99,999 %, net ištirpinti inertinėse dujose ar vandenilyje.
English: Note:3C004 does not control hydrides containing 20 % molar or more of inert gases or hydrogen.
French: Note:Le paragraphe 3C004 ne vise pas les hydrures contenant 20 % molaire ou plus de gaz inertes ou d'hydrogène.
German: Anmerkung:Nummer 3C004 erfasst nicht Hydride, die 20 Molprozent oder mehr Inertgase oder Wasserstoff enthalten.
Spanish: Nota:El artículo 3C004 no somete a control los hidruros que contienen el 20 % molar o más de gases inertes o de hidrógeno.
Italian: Nota:3C004 non sottopone ad autorizzazione gli idruri contenenti il 20 % molare o più di gas inerti o di idrogeno.
Dutch: Noot:In 3C004 zijn niet bedoeld hydriden die 20 mol % of meer edelgassen of waterstof bevatten.
Danish: Note:3C004 lægger ikke eksportkontrol på hydrider, der indeholder mindst 20 molprocent inaktive luftarter eller hydrogen.
Swedish: Anm.:Avsnitt 3C004 omfattar inte hydrider som innehåller 20 % molar eller mer av ädelgaser eller väte.
Finnish: Huom.:3C004 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi hydridejä, jotka sisältävät 20 mooliprosenttia tai enemmän jalokaasuja tai vetyä.
Greek: Σημείωση:Στο σημείο 3C004 δεν υπάγονται υδρίδια που περιέχουν γραμμομοριακό ποσοστό 20 % και άνω αδρανή αέρια ή υδρογόνο.
Czech: Poznámka:Položka 3C004 nezahrnuje hydridy, které obsahují nejméně 20 % molárních inertních plynů nebo vodíku.
Slovak: Poznámka:Podľa 3C004 sa neriadia hydridy obsahujúce najmenej 20 % mólových inertných plynov alebo vodíka.
Polish: Uwaga:Pozycja 3C004 nie obejmuje kontrolą wodorków zawierających molowo 20 % lub więcej gazów obojętnych lub wodoru.
Hungarian: Megjegyzés:A 3C004 nem vonja ellenőrzés alá a semleges gázokat vagy hidrogént 20 mólszázaléknál kisebb mennyiségben tartalmazó hidrideket.
Slovenian: Opomba:Predmet nadzora v točki 3C004 niso hidridi, ki vsebujejo 20 molarnih odstotkov ali več inertnih plinov ali vodika.
Estonian: Märkus:Punkt 3C004 ei hõlma hüdriide, mis sisaldavad 20 moolprotsenti või enam inertgaase või vesinikku.
Latvian: Piezīme.Saskaņā ar 3C004 pozīciju kontroli neattiecina uz hidrīdiem, kas satur 20 mol % vai vairāk inerto gāzu vai ūdeņraža.
Lithuanian: Pastaba:3C004 netaikomas hidridams, turintiems ne mažiau kaip 20 % molių inertinių dujų ar vandenilio kiekį.
English: "Substrates" specified in 3C005 with at least one epitaxial layer of silicon carbide, gallium nitride, aluminium nitride or aluminium gallium nitride.
French: "Substrats" visés au paragraphe 3C005 comportant au moins une couche épitaxiale de carbure de silicium, de nitrure de gallium, de nitrure d'aluminium ou de nitrure de gallium d'aluminium.
German: „Substrate“, erfasst von Nummer 3C005, mit mindestens einer Epitaxieschicht aus Siliziumkarbid, Galliumnitrid, Aluminiumnitrid oder Aluminiumgalliumnitrid.
Spanish: "Sustratos" incluidos en el artículo 3C005 con al menos una capa epitaxial de carburo de silicio (SiC), nitruro de galio (GaN), nitruro de aluminio (AlN) o nitruro de galio-aluminio (AlGaN)
Italian: "Substrati" specificati in 3C005 aventi almeno uno strato epitassiale di carburo di silicio, nitruro di gallio, nitruro di alluminio o nitruro di gallio alluminio.
Dutch: De in 3C005 bedoelde „substraten” met ten minste één epitaxiale laag siliciumcarbide, galliumnitride, aluminiumnitride of aluminiumgalliumnitride.
Danish: "Substrater" specificeret i 3C005 med mindst ét epitaksialt lag af siliciumcarbid, galliumnitrid, aluminiumnitrid eller aluminiumgalliumnitrid.
Swedish: ”Substrat” som omfattas av avsnitt 3C005 med minst ett epitaxiellt lager av kiselkarbid, galliumnitrid, aluminiumnitrid eller alluminiumgalliumnitrid.
Finnish: 3C005 kohdassa tarkoitetut "substraatit", joissa on vähintään yksi epitaksinen kerros piikarbidia, galliumnitridiä, aluminiumnitridiä tai aluminiumgalliumnitridiä.
Greek: "Υποστρώματα" που καθορίζονται στο 3C005 με τουλάχιστον ένα επιταξιακό στρώμα καρβιδίου του πυριτίου, νιτριδίου του γαλλίου, νιτριδίου του αργιλίου ή νιτριδίου του αργιλίου-γαλλίου.
Czech: „Podložky“ uvedené v položce 3C005, které mají alespoň jednu epitaxiální vrstvu karbidu křemíku, nitridu gallitého, nitridu hlinitého nebo aluminium gallium nitridu.
Slovak: „Substráty“ uvedené v 3C005 aspoň s jednou epitaxiálnou vrstvou karbidu kremíka, nitridu gália, nitridu hliníka alebo nitridu hliníka-gália.
Polish: „Podłoża” wymienione w pozycji 3C005 z co najmniej jedną warstwą epitaksjalną z węglika krzemu, azotku galu, azotku glinu lub azotku galu i glinu.
Hungarian: A 3C005. pontban meghatározott szubsztrátumok, amelyek legalább egy epitaxiális szilícium-karbid, gallium-nitrid, alimínium-nitrid vagy alumínium-galliumnitrid réteggel rendelkeznek.
Slovenian: „Substrati“ iz točke 3C005 z vsaj eno epitaksialno plast iz silicijevega karbida, galijevega nitrida, aluminijevega nitrida ali aluminijevega galijevega nitrida.
Estonian: Punktis 3C005 nimetatud „põhimikud”, millel on vähemalt üks epitaksiline ränikarbiidi, galliumnitriidi, alumiiniumnitriidi või alumiinium-galliumnitriidi kiht.
Latvian: 3C005 pozīcijā minētie "substrāti" ar vismaz vienu silīcija karbīda, gallija nitrīda, alumīnija nitrīda vai alumīnija gallija nitrīda epitaksiālo slāni.
Lithuanian: 3C005 nurodyti "padėklai", turintys bent vieną silikono karbido, galio nitrido, aliuminio nitrido ar aliuminio galio nitrido epitaksinį sluoksnį.