FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: lithography equipment, as follows:
French: équipements de lithographie, comme suit:
German: Lithografieanlagen wie folgt:
Spanish: Equipos de litografía, según se indica:
Italian: apparecchiature di litografia, come segue:
Portuguese: Equipamentos litográficos:
Dutch: Lithografische apparatuur, als hieronder:
Danish: Følgende litografisk udstyr:
Swedish: Litografisk utrustning med egenskaper enligt följande:
Finnish: Seuraavat litografialaitteet:
Greek: Εξοπλισμός λιθογραφίας, ως εξής:
Czech: litografické zařízení:
Slovak: litografické zariadenia:
Polish: sprzęt litograficzny, taki jak:
Hungarian: Litográfiai berendezés, az alábbiak szerint:
Slovenian: litografska oprema:
Estonian: järgmised litograafiaseadmed:
Latvian: litogrāfijas iekārtas:
Lithuanian: Litografijos įranga, išvardyta toliau:
English: a light source wavelength shorter than 245 nm; or
French: longueur d'onde de la source lumineuse inférieure à 245 nm; ou
German: Wellenlänge der Lichtquelle kleiner als 245 nm oder
Spanish: Longitud de onda de la fuente luminosa inferior a 245 nm; o
Italian: lunghezza d’onda della sorgente luminosa inferiore a 245 nm o
Portuguese: Comprimento de onda da fonte de luz inferior a 245 nm; ou
Dutch: golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm; of
Danish: Lyskildebølgelængde kortere end 245 nm; eller
Swedish: Ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm, eller
Finnish: Valolähteen aallonpituus lyhyempi kuin 245 nm; tai
Greek: Μήκος κύματος φωτεινής πηγής βραχύτερο από 245 nm, ή
Czech: vlnová délka světelného zdroje kratší než 245 nm nebo
Slovak: zdroj svetla s vlnovou dĺžkou menej ako 245 nm alebo
Polish: źródło światła o długości fali krótszej niż 245 nm; lub
Hungarian: A fényforrás hullámhosszúsága rövidebb, mint 245 nm; vagy
Slovenian: valovna dolžina svetlobnega vira manjša kot 245 nm; ali
Estonian: valgusallika lainepikkus on lühem kui 25 nm või
Latvian: gaismas avota viļņu garums mazāks par 245 nm; vai
Lithuanian: Šviesos šaltinio bangos ilgį, mažesnį kaip 245 nm; arba
English: capable of producing a pattern with a ’minimum resolvable feature’ size of 180 nm or less;
French: capables de produire des figures dont la dimension de l'"élément résoluble minimal" est égale ou inférieure à 180 nm;
German: geeignet, ’kleinste auflösbare Strukturbreiten’ von kleiner/gleich 180 nm zu erzeugen,
Spanish: Capacidad de producir un patrón cuya ’característica resoluble mínima’ tenga un tamaño igual o inferior a 180 nm;
Italian: in grado di produrre un tracciato in cui la ’dimensione dell’elemento di risoluzione minimo’ (ERM) è uguale o inferiore a 180 nm;
Portuguese: Capazes de produzir um padrão com dimensão do ’traço mínimo resolúvel’ igual ou inferior a 180 nm;
Dutch: in staat om patronen te produceren met een MRF (’minimum resolvable feature size’) van 180 nm of minder;
Danish: I stand til at frembringe et mønster med en ’mindste detaljeopløsning’ på 180 nm eller derunder.
Swedish: kan producera ett mönster med en "minsta upplösning för systemdimensionen" på 180 nm eller mindre.
Finnish: Ne pystyvät tuottamaan kuvion, jonka ’pienin erottuva kuvion’ koko on 180 nm tai vähemmän;
Greek: Ικανότητα να συνθέτει σχήματα με ελάχιστο διαχωρίσιμο μέγεθος γνωρίσματος 180 nm ή μικρότερο.
Czech: schopnost exponovat obrazce s velikostí ’nejmenšího rozlišitelného prvku’ 180 nm nebo menší;
Slovak: je schopné vytvoriť obrazec s veľkosťou ‚minimálneho rozlíšiteľného znaku’ 180 nm alebo menej;
Polish: zdolne do wytwarzania wzorów o "minimalnej rozdzielczości wymiarowej" 180 nm lub mniejszej;
Hungarian: Képes 180 nm, vagy annál kisebb minimális felbontási méretű (MRF) minta létrehozására.
Slovenian: zmožnost proizvajanja oblike z ’minimalno razločljivo potezo’ 180 nm ali manj;
Estonian: on võimelised tekitama mustrit, milles vähimalahutatavaelemendi mõõt on 180 nm või vähem;
Latvian: spēj formēt trafaretattēlu ar ’mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ 180 nm vai mazāku;
Lithuanian: Galinti sukurti paveikslus, kurių mažiausias ’išskiriamo topologinio elemento’ matmuo lygus arba mažesnis kaip 180 nm;
English: The ’minimum resolvable feature’ size is calculated by the following formula:
French: La dimension de l'"élément résoluble minimal" est calculée à l'aide de la formule suivante:
German: Die ’kleinste auflösbare Strukturbreite’ KAS wird berechnet nach der Formel:
Spanish: El tamaño de la ’característica resoluble mínima’ se calcula mediante la siguiente fórmula:
Italian: la ’dimensione dell’elemento di risoluzione minimo’ è calcolata con la formula seguente:
Portuguese: A dimensão do ’traço mínimo resolúvel’ é calculada pela seguinte fórmula:
Dutch: De ’minimum resolvable feature’ size wordt berekend volgens de volgende formule:
Danish: ’Mindste detaljeopløsning’ beregnes efter følgende formel:
Swedish: Den "minsta upplösningen för systemdimensionen" beräknas med följande formel:
Finnish: ’Pienimmän erottuvan kuvion’ koko lasketaan seuraavalla kaavalla:
Greek: Το "ελάχιστο διαχωρίσιμο μέγεθος γνωρίσματος" υπολογίζεται με τον εξής τύπο:
Czech: Velikost ’nejmenšího rozlišitelného prvku’ se vypočítá podle vzorce:
Slovak: Veľkosť ‚minimálneho rozlíšiteľného znaku’ sa vypočíta podľa tohto vzorca:
Polish: Rozmiar "minimalnej rozdzielczości wymiarowej" obliczany jest według poniższego wzoru:
Hungarian: A minimális felbontási méret (MRF) kiszámítása a következők szerint történik:
Slovenian: ’Minimalna razločljiva poteza’ se izračuna po naslednjem obrazcu:
Estonian: Vähimalahutatavaelemendi mõõt arvutatakse järgmise valemi põhjal:
Latvian: ’mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ aprēķina ar šādu formulu:
Lithuanian: Mažiausias "išskiriamo topologinio elemento" matmuo yra apskaičiuojamas pagal formulę:
English: MRF = an exposure light source wavelength in nm
French: MRF = longueur d'onde de la source lumineuse d'exposition en nm
German: KAS = Wellenlänge der Belichtungsquelle in nm
Spanish: CRM = longitud de onda de la fuente de luz para la exposición en nm
Italian: ERM = lunghezza d’onda della sorgente luminosa di esposizione in nm
Portuguese: TMR = comprimento de onda da fonte de luz de exposição em μm
Dutch: MRF =golflengte van de lichtbron in nm
Danish: MRF = lyskildens bølgelængde i nm
Swedish: MRF = ljuskällansvåglängdi μm
Finnish: MRF = aallonpituus nanometreinä
Greek: MRF = μήκος κύματος της φωτεινής πηγής έκθεσης σε nm
Czech: MRF = vlnová délka světelného zdroje v nm
Slovak: MRF = vlnová dĺžka expozičného svetelného zdroja v mm
Polish: MRF = długość fali źródła światła napromieniowującego wnm
Hungarian: MRF =a megvilágító fényforrás hullámhossza nanométerben meghatározva
Slovenian: MRF = valovna dolžina svetlobnega vira v nm
Estonian: MRF = Valgusallika lainepikkus, nm
Latvian: MRF = ekspozīcijas gaismas avota viļu garums nm
Lithuanian: MRF = eksponuojamos šviesos săltinio bangos ilgis, in nm
English: × K factor
French: × facteur K
Spanish: × factor K
Italian: × fattore K
Portuguese: × factor K
Danish: × K-faktor
Swedish: × Skalfaktorn K
Finnish: × K kerroin
Greek: × συντελεστής Κ
Czech: × K faktor
Slovak: × faktor K
Polish: × współczynnik K
Hungarian: × K faktor
Slovenian: × faktor K
Estonian: × K tegur
Latvian: × K koeficients
Lithuanian: × K faktorius
English: numerical aperture
French: ouverture numérique
German: numerische Apertur
Spanish: apertura numérica
Italian: apertura numerica
Portuguese: abertura numérica
Dutch: numerieke apertuur
Danish: blændetal
Swedish: numeriskabländarvärdet
Finnish: numeerinen aukko
Greek: αριθμητικό διάφραγμα
Czech: číselná apertura
Slovak: číselná apertúra
Polish: apertura liczbowa
Hungarian: numerikus apertúra
Slovenian: numerična odprtina
Estonian: numbriline apertuur
Latvian: ciparu apertūra
Lithuanian: skaitmeninė apertūra
English: where the K factor = 0,45
French: où le facteur K = 0,45.
German: wobei K = 0,45
Spanish: siendo el factor K = 0,45
Italian: dove il fattore K = 0,45.
Portuguese: em que o factor K = 0,45
Dutch: waarbij de K factor = 0,45
Danish: hvor K-faktor = 0,45.
Swedish: där K är en skalfaktor = 0,45
Finnish: jossa: K kerroin = 0,45
Greek: όπου ο συντελεστής K = 0,45
Czech: kde K faktor = 0,45
Slovak: kde faktor K = 0,45,
Polish: gdzie: współczynnik K = 0,45
Hungarian: ahol "K" faktor = 0,45
Slovenian: pri čemer je faktor K = 0,45
Estonian: kus K tegur = 0,45
Latvian: kur K koeficients = 0,45
Lithuanian: kur K faktorius = 0,45
English: MRF = minimum resolvable feature size
French: MRF = dimension de l'élément résoluble minimal.
German: KAS = ’kleinste auflösbare Strukturbreite’,
Spanish: y CRM = al tamaño de la ’característica resoluble mínima’.
Italian: ERM = dimensione dell’elemento di risoluzione minimo.
Portuguese: TMR = dimensão do traço mínimo resolúvel.
Dutch: MRF = minimum resolvable feature size;
Danish: MRF = mindste detaljeopløsning.
Swedish: MRF är minsta upplösningen för systemdimensionen
Finnish: MRF on pienin erottuva kuvion koko.
Greek: MRF = ελάχιστο διαχωρίσιμο μέγεθος γνωρίσματος
Czech: MRF = velikost nejmenšího rozlišitelného prvku.
Slovak: MRF = veľkosť minimálneho rozlíšiteľného znaku.
Polish: MRF = minimalna rozdzielczość wymiarowa.
Hungarian: "MRF" = minimális felbontási méret
Slovenian: MRF = minimalna razločljiva poteza
Estonian: MRF = vähima lahutatava elemendi mõõt
Latvian: MRF = mazākais atšķiramu detaļu lielums
Lithuanian: MRF = mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo
English: imprint lithography equipment capable of producing features of 180 nm or less;
French: équipements de lithographie par impression capables de produire des éléments égaux ou inférieurs à 180 nm;
German: Anlagen für die Imprintlithografie, geeignet für die Herstellung von Strukturen kleiner/gleich 180 nm,
Spanish: Equipos de impresión litográfica que puedan producir características de 180 nm de base o menos:
Italian: apparecchiature di impressione litografica in grado di produrre elementi uguali o inferiori a 180 nm;
Portuguese: Equipamentos de impressão litográfica capazes de produzir traços de 180 nm ou menos;
Dutch: Apparatuur voor imprintlithografie die structuren van 180 nm of minder kan produceren;
Danish: Litografisk udstyr til prægning, der kan frembringe detaljer på 180 nm eller mindre
Swedish: Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 180 nm eller mindre.
Finnish: Kohokuviointilaitteet, joilla pystytään tuottamaan kuvioita, joiden koko on 180 nm tai vähemmän;
Greek: Εξοπλισμός εντυπωτικής λιθογραφίας ικανός να παράγει λεπτομέρειες διαστάσεων 180 nm και κάτω.
Czech: Vybavení pro tiskovou litografii schopné vyrábět struktury o velikosti 180 nm nebo menší;
Slovak: tlačiarenské litografické zariadenia schopné vytvoriť detaily veľkosti 180 nm alebo menej;
Polish: urządzenia do litografii nanodrukowej zdolne do drukowania elementów o wielkości 180 nm lub mniejszych;
Hungarian: 180 nm vagy annál kisebb felbontási méretű minta létrehozására képes imprinting litográfiai berendezés;
Slovenian: Tiskarska litografska oprema, s katero se lahko tiska podobe z največ 180 nm;
Estonian: Jäljendi litograafiaseadmed, mis on võimelised tekitama kujutisi mõõtmetega 180 nm või vähem;
Latvian: litogrāfijas iespiediekārtas, ar ko var iespiest 180 nm vai mazākus elementus;
Lithuanian: Litografinės spaudos įranga, kuria galima sukurti 180nm ar mažesnes savybes;
English: Note:3B001.f.2. includes:
French: Note:L'alinéa 3B001.f.2. vise:
German: Anmerkung:Unternummer 3B001f2 schließt ein:
Spanish: Nota:3B001.f.2. incluye:
Italian: Nota:3B001.f.2. comprende:
Portuguese: Nota:3B001.f.2. abrange:
Dutch: Noot:3B001.f.2 omvat:
Danish: Note:3B001.f.2. omfatter
Swedish: Anm.:Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:
Finnish: Huom.:3B001.f.2 kohtaan sisältyvät:
Greek: Σημείωση:Στο σημείο 3Β001.στ.2. περιλαμβάνονται τα εργαλεία:
Czech: Pozn.:Položka 3B001.f.2 zahrnuje:
Slovak: Poznámka:3B001.f.2. zahŕňa:
Polish: Uwaga:Pozycja 3B001.f.2. obejmuje:
Hungarian: Megjegyzés:a 3B001.f.2. pont magában foglalja az alábbiakat:
Slovenian: Opomba:Točka 3B001.f.2 zajema:
Estonian: Märkus:Punkt 3B001.f.2 hõlmab:
Latvian: Piezīme.Pozīcija 3B001.f.2. attiecas uz šādām iekārtām:
Lithuanian: Pastaba:3B001.f.2. apima:
English: micro contact printing tools
French: les outils d'impression par microcontact,
German: Anlagen für den Mikrokontaktdruck (micro contact printig tools),
Spanish: Instrumentos de impresión por microcontacto,
Italian: dispositivi di stampa a microcontatto,
Portuguese: Instrumentação de impressão por micro-contacto
Dutch: apparatuur voor microcontactdruk
Danish: Mikrokontakt-trykkeredskaber
Swedish: Verktyg för mikrokontakttryck.
Finnish: Pehmytkuviointivälineet
Greek: τυπογραφίας μικροεπαφής,
Czech: Mikrokontaktní tiskové nástroje
Slovak: mikrokontaktné tlačiarenské nástroje,
Polish: narzędzia do mikrodruku kontaktowego,
Hungarian: mikrokontaktus-nyomtatók,
Slovenian: mikrokontaktno tiskarsko orodje
Estonian: mikrokontakttrükiseadmed;
Latvian: kontakta mikrodrukas ierīcēm,
Lithuanian: Mikrokontaktinius spaudos įtaisus
English: hot embossing tools
French: les outils de gaufrage à chaud,
German: Anlagen für den Druck mit heißen Stempeln (hot embossing tools),
Spanish: Instrumentos de troquelado en caliente,
Italian: dispositivi di termoimpressione,
Portuguese: Instrumentação de embossagem a quente
Dutch: apparatuur voor warm pregen (hot embossing)
Danish: Varmeprægningsredskaber
Swedish: Verktyg för värmeprägling.
Finnish: Kuumapakotusvälineet
Greek: θερμοεντύπωσης,
Czech: Nástroje pro ražení za tepla
Slovak: nástroje na horúcu razbu,
Polish: narzędzia do wytłaczania na gorąco,
Hungarian: forró dombornyomásra szolgáló eszközök,
Slovenian: vroča reliefna orodja
Estonian: kuumreljeeftrükiseadmed (Hot embossing tools);
Latvian: karstspieduma ierīcēm,
Lithuanian: Karštos reljefinės spaudos įrankius
English: nano-imprint lithography tools
French: les outils de lithographie par nanoimpression,
German: Anlagen für die Nano-Imprint-Lithografie,
Spanish: Instrumentos de nanoimpresión litográfica,
Italian: dispositivi litografici per nanostampa,
Portuguese: Instrumentação de nano-impressão litográfica
Dutch: apparatuur voor nano-imprintlithografie
Danish: Litografiske redskaber til nanoprægning
Swedish: Verktyg för nanopräglingslitografi.
Finnish: Nanomuokkauskuviointivälineet
Greek: νανοεντυπωτικής λιθογραφίας,
Czech: Nástroje pro nanotiskovou litografii
Slovak: litografické nástroje na tlač v nanorozmeroch,
Polish: narzędzia do litografii nanodrukowej,
Hungarian: nano-imprinting litográfiai eszközök,
Slovenian: nanotiskarska litografska orodja
Estonian: nanojäljendi litograafiaseadmed (Nano-imprint lithography tools);
Latvian: nanodrukas litografijas ierīcēm,
Lithuanian: Nanoįspaudimo litografijos įrankius
English: step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
French: les outils de lithographie par impression "step and flash".
German: Anlagen für S-FIL (step and flash imprint lithography).
Spanish: Instrumentos de impresión litográfica «S-FIL» («step and flash»).
Italian: dispositivi di impressione litografica Step and Flash (S-FIL).
Portuguese: Instrumentação de impressão litográfica step and flash (S-FIL)
Dutch: apparatuur voor S-FIL (Step and flash imprint lithography);
Danish: Litografiske (S-FIL) redskaber til step-and-flash-prægning
Swedish: S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).
Finnish: Step and flash -kuviointi (S-FIL) -välineet
Greek: εντυπωτικής λιθογραφίας με βήμα και λάμψη (step-and-flash)
Czech: Nástroje pro tiskovou litografii technikou’Step and flash’ (S-FIL) bavení pro tiskovou litografii schopné vyrábět struktury o velikosti 180 nm nebo menší;
Slovak: tlačiarenské litografické nástroje "step and flash" (SFIL).
Polish: narzędzia do litografii "step-and-flash" (S-FIL).
Hungarian: Step and Flesh imprinting litográfiai (S-FIL) eszközök.
Slovenian: ’step and flash’ tiskarska litografska orodja (S-FIL)
Estonian: step and flash imprint litograafiaseadmed (Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools);
Latvian: Step and flash drukas (S-FIL) litogrāfijas ierīcēm.
Lithuanian: S-FIL (angl. "step and flash") litografijos įrankius
English: a spot size smaller than 0,2 μm;
French: ayant une dimension du spot inférieure à 0,2 μm;
German: Auflösungsvermögen kleiner als 0,2 μm,
Spanish: Tamaño del haz en el impacto inferior a 0,2 micras;
Italian: dimensione del punto del fascio inferiore a 0,2 μm;
Portuguese: Dimensão de ponto inferior a 0,2 μm;
Dutch: met een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 micrometer;
Danish: Pletstørrelse mindre end 0,2 μm;
Swedish: En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm,
Finnish: Suihkun tai säteen pisteen koko on pienempi kuin 0,2 μm;
Greek: Εστιακό μέγεθος μικρότερο από 0,2 μm,
Czech: stopu paprsku menší než 0,2 μm,
Slovak: veľkosť bodu menej ako 0,2 μm;
Polish: aperturę plamki poniżej 0,2 μm;
Hungarian: A sugárpont mérete kisebb mint 0,2 μm;
Slovenian: točko, manjšo od 0,2 μm;
Estonian: laotuspunkti suurus väiksem kui 0,2 μm;
Latvian: a. punkta izmērs ir mazāks par 0,2 mikroniem;
Lithuanian: Dėmės matmenis, mažesnius kaip 0,2 μm;
English: being capable of producing a pattern with a feature size of less than 1 μm; or
French: capables de produire des figures d'une dimension inférieure à 1 μm; ou
German: Fähigkeit, Strukturen mit Abmessungen kleiner als 1 μm zu erzeugen, oder
Spanish: Capacidad de producir modelos de dimensión inferior a 1 micra; o
Italian: in grado di produrre un tracciato con dimensione del tratto inferiore a 1 μm o
Portuguese: Capacidade para produzir um padrão com uma dimensão de traço inferior a 1 μm; ou
Dutch: geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 micrometer; of
Danish: I stand til at frembringe et mønster med enkeltheder, der er mindre end 1 μm; eller
Swedish: den kan producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än 1 μm, eller
Finnish: Kykenevät tuottamaan kuvioita, joiden viivaleveys on vähemmän kuin 1 μm; tai
Greek: Είναι ικανός να παράγει σχήμα με χαρακτηριστικό μέγεθος κάτω από 1 μm, ή
Czech: jsou schopná vytvořit obrazec o velikosti prvku menší než 1 μm nebo
Slovak: schopnosť vytvoriť obrazec s veľkosťou znaku menej ako 1 μm alebo
Polish: zdolność wytwarzania obrazów o wielkości charakterystycznej poniżej 1 μm; lub
Hungarian: Képes olyan mintát előállítani, amelynek fő mérete 1 μm-nél kisebb; vagy
Slovenian: zmožnost izdelave vzorca s potezami, manjšimi od 1 μm; ali
Estonian: on võimelised tekitama mustreid, milles vähima lahutatava elemendi mõõt on väiksem kui 1 μm, või
Latvian: spēj formēt trafaretattēlu ar "mazāko atšķiramu detaļu lielumu" 1 mikroni vai mazāku par 1 mikronu; vai
Lithuanian: Galinti sukurti paveikslus, kurių topologinių elementų matmenys mažesni kaip 1 μm; arba
English: an overlay accuracy of better than ±0,20 μm (3 sigma);
French: précision de chevauchement meilleure que ±0,20 μm (3 sigma);
German: Justiergenauigkeit (overlay accuracy) besser als ±0,20 μm (3 Sigma);
Spanish: Exactitud de recubrimiento mejor que ±0,20 micra (3 sigma);
Italian: precisione di sovrapposizione migliore di ±0,20 μm (3 sigma);
Portuguese: Precisão no revestimento melhor que ±0,20 μm (3 sigma);
Dutch: overlay-nauwkeurigheid beter dan ±0,20 micrometer (3 sigma);
Danish: Overlægningsnøjagtighed bedre end ±0,20 μm (3 sigma);
Swedish: har en passningsnoggrannhet som är bättre än ±0,20 μm (3 sigma).
Finnish: Kohdistustarkkuus on parempi kuin ±0,20 μm (3 sigmaa).
Greek: Ακρίβεια επικάλυψης καλύτερη από ±0,20 μm (3 sigma).
Czech: přesnost překrytí je lepší než ±0,20 μm (3 sigma);
Slovak: presnosť prekryvu lepšia ako ±0,20 μm (3 sigma);
Polish: nokładność nakładania warstw lepszą niż ±0,20 μm (3 sigma);
Hungarian: Az elhelyezési pontosság jobb mint ±0,20 μm (3 szigma);
Slovenian: površinsko natančnost boljšo od ±0,20 μm (3 sigme);
Estonian: paigutustäpsus parem kui ±0,20 μm (3 sigmat);
Latvian: pārklājuma precizitāte ir labāka par ±0,20 mikroniem (3 sigma);
Lithuanian: Bendrasis tikslumas geresnis kaip ±0,20 μm (3 sigma).
English: masks and reticles designed for integrated circuits specified in 3A001;
French: masques ou réticules conçus pour circuits intégrés visés au paragraphe 3A001;
German: Masken oder Reticles, entwickelt für von Nummer 3A001 erfasste integrierte Schaltungen;
Spanish: Máscaras y retículas diseñadas para circuitos integrados incluidos en el artículo 3A001;
Italian: maschere e reticoli progettati per i circuiti integrati specificati in 3A001;
Portuguese: Máscaras e retículas concebidas para circuitos integrados referidos em 3A001;
Dutch: maskers of fijne optische netwerken («reticles») voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001;
Danish: Masker og okularmikrometre beregnet for integrerede kredsløb, der er specificeret i 3A001;
Swedish: Masker eller mastermasker som är avsedda för tillverkning av integrerade kretsar enligt avsnitt 3A001.
Finnish: Maskit tai retikkelit, jotka on suunniteltu 3A001 kohdassa määriteltyjä integroituja piirejä varten;
Greek: Μάσκες ή reticles που έχουν σχεδιαστεί για ολοκληρωμένα κυκλώματα που καθορίζονται στο σημείο 3Α001.
Czech: masky a optické mřížky konstruované pro integrované obvody uvedené v položce 3A001;
Slovak: masky a kontrolné šablóny znakov navrhnuté pre integrované obvody uvedené v 3A001;
Polish: maski i siatki optyczne zaprojektowane do układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001;
Hungarian: A 3A001 pontban meghatározott integrált áramkörökhöz tervezett maszkok és hajszálvonalas lemezek;
Slovenian: maske in mrežice, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001;
Estonian: maskid ja niitvõrgustikud, mis on ette nähtud punktis 3A001 nimetatud integraallülitustele;
Latvian: maskas un rastri, kas konstruēti 3A001 pozīcijā minētajām integrālajām shēmām;
Lithuanian: Kaukės ir tarpiniai fotošablonai, skirti integriniams grandynams, nurodytiems 3A001;
English: multi-layer masks with a phase shift layer.
French: masques multicouches comportant une couche à décalage de phase.
German: Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden Schicht;
Spanish: Máscaras multicapas con una capa de cambio de fase.
Italian: maschere multistrato con uno strato a spostamento di fase;
Portuguese: Máscaras multicamadas com uma camada de deslocamento de fase.
Dutch: maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag.
Danish: Flerlagsmasker med et faseforskydningslag.
Swedish: Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager.
Finnish: Monikerrosmaskit, joissa on vaihesiirtokerros.
Greek: Μάσκες με πολλαπλά στρώματα που περιλαμβάνουν στρώμα ολίσθησης φάσης.
Czech: vícevrstvé masky s vrstvou fázového posunu.
Slovak: viacvrstvové masky s vrstvou fázového posuvu;
Polish: maski wielowarstwowe z warstwą z przesunięciem fazowym;
Hungarian: Többrétegű maszkok fáziseltolásos rétegekkel.
Slovenian: večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi.
Estonian: mitmekihilised maskid faasinihke kihiga.
Latvian: daudzslāņu maskas ar fāžu nobīdes slāni;
Lithuanian: Daugiasluoksnės kaukės su fazės poslinkio sluoksniu.