FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: i. Imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3A001.
French: i. gabarits de lithographie par impression conçus pour les circuits intégrés visés au paragraphe 3A001.
German: Matrizen (templates) für die Imprintlithografie, entwickelt für von Nummer 3A001 erfasste integrierte Schaltungen.
Spanish: i. Plantillas para impresión litográfica diseñadas para circuitos integrados especificados en 3A001.
Italian: i. sagome di impressione litografica progettate per i circuiti integrati specificati in 3A001.
Portuguese: i. Placas de impressão litográfica concebidas para circuitos integrados referidos em 3A001.
Dutch: i. imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3A001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.
Danish: i. Litografiskabeloner til prægning beregnet til integrerede kredsløb som omhandlet i 3A001.
Swedish: Schabloner för litografisk prägling som är utformade för integrerade kretsar som omfattas av avsnitt 3A001.
Finnish: i. Kohokuviointimallineet, jotka on suunniteltu 3A001 kohdassa määriteltyjä integroituja piirejä varten.
Greek: Μακέτες εντυπωτικής λιθογραφίας σχεδιασμένες για τα ηλεκτρονικά κυκλώματα που προσδιορίζονται στο 3Α001.
Czech: i. šablony pro tiskovou litografii určené pro integrované obvody stanovené v položce 3A001.
Slovak: tlačiarenské litografické šablóny určené pre integrované obvody uvedené v 3A001.
Polish: szablony do litografii nanodrukowej układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.
Hungarian: i. A 3A001 pontban meghatározott integrált áramkörökhöz tervezett imprinting litográfiai sablonok.
Slovenian: i. Tiskarske litografske šablone, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001;
Estonian: i. jäljendi litograafiašabloonid, mis on ette nähtud punktis 3A001 nimetatud integraallülitustele.
Latvian: i. drukas litografijas veidnes, kas paredzētas pozīcijā 3A001 minētajām integrālajām shēmām.
Lithuanian: i. Litografinės spaudos šablonai, skirti integriniams grandynams, nurodytiems 3A001.
English: for testing S-parameters of transistor devices at frequencies exceeding 31,8 GHz;
French: pour le test des paramètres S de transistors à une fréquence supérieure à 31,8 GHz;
German: zum Prüfen der S-Parameter von Transistoren bei Frequenzen größer als 31,8 GHz;
Spanish: Para ensayo de parámetros S de dispositivos de transistores a frecuencias superiores a 31,8 GHz;
Italian: per il collaudo dei parametri S dei dispositivi a transistor a frequenze superiori a 31,8 GHz;
Portuguese: Para ensaio dos parâmetros S de dispositivos com transístores a frequências superiores a 31,8 GHz;
Dutch: voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;
Danish: Til afprøvning af transistorindretningers S-parametre ved frekvenser over 31,8 GHz;
Swedish: Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
Finnish: Laitteet transistorien S-parametrien testaukseen yli 31,8 GHz:n alueella;
Greek: Για να δοκιμάζονται οι παράμετροι S συσκευών τρανζίστορ σε συχνότητες πάνω από 31,8 GHz,
Czech: pro zkoušení S-parametrů tranzistorových součástek při frekvencích větších než 31,8 GHz,
Slovak: na skúšanie parametrov S-parametrov tranzistorových zariadení pri frekvenciách nad 31,8 GHz;
Polish: do testowania S — parametrów urządzeń tranzystorowych przy częstotliwościach powyżej 31,8 GHz;
Hungarian: Tranzisztor eszközök S-paraméterének tesztelésére szolgáló eszközök 31,8 GHz-et meghaladó frekvencián;
Slovenian: za preizkušanje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31,8 GHz;
Estonian: transistoride S parameetrite testimiseks sagedustel üle 31,8 GHz;
Latvian: tranzistoru S-parametru pārbaudei pie frekvencēm, kas pārsniedz 31,8 GHz;
Lithuanian: Skirta tranzistorinių įtaisų S parametrams tikrinti dažniuose, viršijančiuose 31,8 GHz;
English: for testing microwave integrated circuits specified in 3A001.b.2.
French: pour le test de circuits intégrés hyperfréquences visés à l'alinéa 3A001.b.2.
German: zum Prüfen von integrierten Mikrowellenschaltungen, die von Unternummer 3A001b2 erfasst werden.
Spanish: Para el ensayo de los circuitos integrados de microondas incluidos en el subartículo 3A001.b.2.
Italian: per il collaudo di circuiti integrati a microonde specificati in 3A001.b.2.
Portuguese: Para ensaio dos circuitos integrados de micro-ondas referidos em 3A001.b.2.
Dutch: voor het testen van in 3A001.b.2 vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven;
Danish: Til prøvning af integrerede mikrobølgekredsløb, der er specificeret i 3A001.b.2.
Swedish: Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som omfattas av avsnitt 3A001.b.2.
Finnish: Laitteet 3A001.b.2 kohdassa määriteltyjen integroitujen mikroaaltopiirien testaukseen.
Greek: Για την δοκιμή ολοκληρωμένων κυκλωμάτων μικροκυμάτων προσδιοριζόμενων στο 3Α001.β.2.
Czech: pro zkoušení mikrovlnných integrovaných obvodů uvedených v položce 3A001.b.2.
Slovak: na testovanie mikrovlnových integrovaných obvodov uvedených v 3A001.b.2.
Polish: do testowania mikrofalowych układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.b.2.
Hungarian: A 3A001.b.2. részben meghatározott mikrohullámú integrált áramkörök tesztelésére szolgáló eszközök.
Slovenian: za preizkušanje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001.b.2.
Estonian: punktis 3A001.b.2 nimetatud mikrolaine integraallülituste testimiseks.
Latvian: 3A001.b.2. pozīcijā minēto mikroviļņu integrālo shēmu pārbaudēm.
Lithuanian: Skirta mikrobanginiams integriniams grandynams, nurodytiems 3A001.b.2., tikrinti.
English: Hetero-epitaxial materials consisting of a "substrate" having stacked epitaxially grown multiple layers of any of the following:
French: Matériaux hétéro-épitaxiés consistant en un "substrat" comportant des couches multiples empilées obtenues par croissance épitaxiale:
German: Hetero-epitaxiale Werkstoffe aus einem "Substrat", das mehrere Epitaxieschichten aus einem der folgenden Materialien enthält:
Spanish: Materiales hetero epitaxiales consistentes en un "sustrato" con capas múltiples apiladas obtenidas por crecimiento epitaxial de cualquiera de los siguientes productos:
Italian: Materiali etero-epitassiali consistenti di un "substrato" con strati multipli sovrapposti ottenuti per crescita epitassiale di uno degli elementi seguenti;
Portuguese: Materiais hétero-epitaxiais constituídos por um "substrato" com múltiplas camadas sobrepostas obtidas por crescimento epitaxial de:
Dutch: Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een "substraat" met verscheidene gestapelde epitaxiaal gegroeide lagen van:
Danish: Hetero-epitaksiale materialer, der består af et "substrat" med flere, stablede epitaksisk dyrkede lag af:
Swedish: Hetero-epitaxiella material som består av ett "substrat" med ovanpå varandra liggande epitaxiellt tillvuxna multipelskikt av något av följande, nämligen
Finnish: Hetero-epitaksimateriaalit, jotka koostuvat "substraatista", jonka päälle on epitaksisesti kasvatettu useita kerroksia seuraavia aineita:
Greek: Ετερο-επιταξιακά υλικά, που αποτελούνται από "υπόστρωμα" πάνω στο οποίο έχουν αποτεθεί επιταξιακά ανεπτυγμένα πολλαπλά στρώματα οποιουδήποτε από τα ακόλουθα υλικά:
Czech: Heteroepitaxní materiály sestávající z "podložky" složené z více na sobě uspořádaných epitaxně narostlých vrstev z:
Slovak: Heteroepitaxiálne materiály pozostávajúce zo "substrátu", na ktorom sa nachádzajú epitaxiálne narastené viacnásobné vrstvy niektorého z týchto materiálov:
Polish: Materiały heteroepitaksjalne składające się z "podłoża" i wielu nałożonych epitaksjalnie warstw z jednego z niżej wymienionych materiałów:
Hungarian: Több réteget tartalmazó hetero-epitaxiális anyagok, amelyeket a következő rétegek bármelyikéből epitaxiálisan növesztett "szubsztrátumokból" állnak:
Slovenian: Heteroepitaksialni materiali, sestavljeni iz "podlage" z naloženimi plastmi, pridobljeni z epitaksialno rastjo, iz naslednjih materialov:
Estonian: Hetero-epitaksiaalsed materjalid, mis koosnevad järgmiste materjalide epitakskasvatamisel saadud põhimikest:
Latvian: Hetero-epitaksiāli materiāli, ko veido "substrāts" ar sapakotiem daudzslāņu materiāliem, kas izaudzēti ar epitaksijas paņēmienu no kāda še turpmāk minētā:
Lithuanian: Įvairiatarpės (draustinės juostos) epitaksinės medžiagos, sudarančios "padėklą", paeiliui epitaksiškai užaugintą daugiasluoksnę dangą iš:
English: silicon;
French: silicium;
German: Silizium;
Spanish: Silicio;
Italian: silicio,
Portuguese: Silício;
Dutch: silicium;
Danish: Silicium;
Swedish: kisel,
Finnish: Pii;
Greek: Πυρίτιο,
Czech: křemíku,
Slovak: kremík;
Polish: krzemu;
Hungarian: Szilícium;
Slovenian: silicija;
Estonian: räni;
Latvian: silīcija;
Lithuanian: Silicio;
English: germanium;
German: Germanium;
Spanish: Germanio;
Italian: germanio,
Portuguese: Germânio;
Swedish: germanium,
Greek: Γερμάνιο, ή
Czech: germania,
Slovak: germánium;
Polish: germanu;
Hungarian: Germánium;
Slovenian: germanija;
Estonian: germaanium;
Latvian: ģermānija;
Lithuanian: Germanio;
English: silicon carbide; or
French: carbure de silicium; ou
German: Siliziumkarbid oder
Spanish: Carburo de silicio; o
Italian: carburo di silicio, o
Portuguese: Carboneto de silício; ou
Dutch: siliciumcarbide; of
Danish: Siliciumcarbid; eller
Swedish: kiselkarbid, eller
Finnish: Piikarbidi; tai
Greek: Καρβίδιο του πυριτίου, ή
Czech: karbidu křemíku nebo
Slovak: karbid kremíka alebo
Polish: węglika krzemu; lub
Hungarian: Szilícium-karbid; vagy
Slovenian: silicijevega karbida; ali
Estonian: ränikarbiid või
Latvian: silīcija karbīda; vai
Lithuanian: Silicio karbido; arba
English: III/V compounds of gallium or indium.
French: de composés III/V de gallium ou d'indium.
German: III/V-Verbindungen von Gallium oder Indium.
Spanish: Compuestos III/V de galio o indio.
Italian: composti III/V di gallio o di indio.
Portuguese: Compostos III/V de gálio ou índio.
Dutch: III/V gallium- of indiumverbindingen.
Danish: III/V-forbindelser af gallium eller indium.
Swedish: III/V-blandningar av gallium eller indium.
Finnish: Galliumin tai indiumin III/V-yhdisteet.
Greek: Σύνθετες ενώσεις γαλλίου ή ινδίου με στοιχεία του πίνακα III/V.
Czech: sloučenin galia nebo india typu III/V.
Slovak: III/V (trojmocné/päťmocné) zlúčeniny gália alebo india.
Polish: związków III/V galu lub indu.
Hungarian: III/V gallium- vagy indiumvegyületek;
Slovenian: III/V spojin galija ali indija.
Estonian: galliumi või indiumi III/V ühendid.
Latvian: III/V gallija vai indija savienojumiem.
Lithuanian: Galio ar indžio (III/V) junginių.
English: Resist materials, as follows, and "substrates" coated with controlled resists:
French: Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus de résine photosensible sous contrôle:
German: Fotoresists wie folgt und "Substrate", die mit erfassten Fotoresists beschichtet sind:
Spanish: Materiales de protección («resists»), según se indica, y "sustratos" revestidos con materiales de protección sometidos a control:
Italian: Resine fotosensibili (resist) come segue, e "substrati" rivestiti di resine fotosensibili sottoposte ad autorizzazione:
Portuguese: Resinas fotossensíveis e "substratos" revestidos de resinas fotossensíveis submetidas a controlo:
Dutch: «Resists» (gevoelige lagen), als hieronder, en "substraten" bekleed met aan vergunningsplicht onderworpen «resists»:
Danish: Følgende resistmaterialer samt "substrater" belagt med resists, der er pålagt eksportkontrol:
Swedish: Resistmaterial enligt följande, och "substrat" belagda med kontrollerade resistmaterial:
Finnish: Seuraavat estopinnoitemateriaalit ja valvonnanalaisilla estopinnoitemateriaaleilla pinnoitetut "substraatit":
Greek: Φωτοανθεκτικά υλικά, ως εξής, καθώς και "υποστρώματα" που έχουν επίστρωση ελεγμένων φωτοανθεκτικών ουσιών:
Czech: Rezistní materiály (rezisty) a "podložky" potažené kontrolovanými rezisty:
Slovak: Odolné materiály a "substráty" potiahnuté riadenými odolnými materiálmi:
Polish: Materiały fotorezystywne, "podłoża" powlekane, objętymi kontrolą, materiałami ochronnymi, z tego:
Hungarian: Védőréteg anyagok és ellenőrzött védőanyagokkal bevont "szubsztrátumok":
Slovenian: Uporovni materiali in "podlage", prevlečene s krmiljenimi uporovnimi pastami:
Estonian: Resistmaterjalid ja põhimikud, mis on kaetud kontrolli alla kuuluvate resistmaterjalidega:
Latvian: Aizsargpārklājumu materiāli un "substrāti", kas pārklāti ar vadāmu īpašību aizsargpārklājumiem:
Lithuanian: Rezistų medžiagos, išvardytos toliau, ir kontroliuojamais rezistais padengti "padėklai":
English: positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
French: résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 245 nm;
German: Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 245 nm;
Spanish: Materiales de protección positivos para litografía en semiconductores ajustados especialmente (optimizados) para su utilización a longitudes de onda inferiores a 245 nm;
Italian: resine fotosensibili (resist) positive progettate per litografia di semiconduttori appositamente adattate (ottimizzate) per l’impiego con lunghezze d’onda inferiori a 245 nm;
Portuguese: Resinas fotossensíveis positivas concebidas para litografia de semicondutores especialmente ajustadas para utilização em comprimentos de onda inferiores a 245 nm;
Dutch: positieve «resists» ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm;
Danish: Positive resists til halvlederlitografi, som er specielt justeret (optimeret) til brug under 245 nm;
Swedish: Positiva resistmaterial som är utformade för halvledarlitografioch speciellt justerade (optimerade) för våglängder under 245 nm.
Finnish: Positiiviestopinnoitteet, joiden spektrivaste on erityisesti sovitettu (optimoitu) alle 245 nm:n aallonpituuksille;
Greek: Θετικά φωτοανθεκτικά υλικά για λιθογραφικές εργασίες με ημιαγωγούς, ειδικώς ρυθμισμένα (αριστοποιημένα) για χρήση σε μήκη κύματος κάτω από 245 nm,
Czech: pozitivní rezisty konstruované pro polovodičovou litografii speciálně upravené (optimalizované) pro použití při vlnových délkách pod 245 nm,
Slovak: pozitívne odolné materiály navrhnuté pre polovodičovú litografiu osobitne upravené (optimalizované) na používanie pri vlnových dĺžkach menej ako 245 nm;
Polish: materiały fotorezystywne pozytywowe zaprojektowane do litografii półprzewodnikowej, specjalnie wyregulowanej (zoptymalizowanej) do stosowania w zakresie długości fali poniżej 245 nm;
Hungarian: Pozitív védőréteg anyagok, amelyeket kifejezetten 245 nm alatti hullámhosszúságú félvezető litográfiához igazítottak (optimalizáltak);
Slovenian: pozitivne uporovne paste za polprevodniško litografijo, posebej prirejene (optimizirane) za uporabo pri valovnih dolžinah pod 245 nm;
Estonian: positiivsed resistid, mis on ette nähtud pooljuhtide litograafiaks ning spetsiaalselt kohandatud (optimeeritud) kasutamiseks lainepikkustel alla 245 nm;
Latvian: pozitīvi aizsargpārklājumi pusvadītāju litogrāfijai, speciāli pielāgoti (optimizēti) lietošanai viļņu garumos, kas mazāki par 245 nm;
Lithuanian: Pozityviniai rezistai, skirti puslaidininkinių įtaisų litografijai, specialiai pritaikyti (optimizuoti) naudoti esant bangų ilgiams, mažesniems kaip 245 nm;
English: all resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 μcoulomb/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 μcoulomb/mm2 ou meilleure;
German: alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 μC/mm2;
Spanish: Todos los materiales de protección destinados a su utilización con haces de electrones o haces iónicos, y que posean una sensibilidad de 0,01 µculombios/mm2 o mejor;
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) progettate per essere utilizzate sotto l’effetto di fasci elettronici o ionici, aventi sensibilità di 0,01 microcoulomb/mm2 o migliore;
Portuguese: Todas as resinas concebidas para utilização com feixes de electrões ou iões, com uma sensibilidade igual ou superior a 0,01 μcoulomb/mm2;
Dutch: alle «resists» ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter;
Danish: Alle resists, til brug med elektronstråler eller ionstråler, med en følsomhed på 0,01 mikrocoulomb/mm2 eller bedre;
Swedish: Alla resistmaterial, som är avsedda att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre.
Finnish: Kaikki estopinnoitteet, jotka on tarkoitettu käytettäväksi elektroni- tai ionisuihkun kanssa ja joiden herkkyys on 0,01 mikrocoulombia/mm2 tai parempi;
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά για χρήση με δέσμες ηλεκτρονίων ή ιόντων που έχουν ευαισθησία 0,01 μcoulomb/mm2 ή καλύτερη,
Czech: veškeré rezisty konstruované pro použití s elektronovými nebo iontovými paprsky o citlivosti 0,01 μcoulomb/mm2 nebo lepší,
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s elektrónovými lúčmi alebo iónovými lúčmi, s citlivosťou najmenej 0,01 μcoulomb/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne, zaprojektowane do użytku z wiązkami elektronowymi lub jonowymi, o czułości 0,01 μC/mm2 lub lepszej;
Hungarian: 0,01 μcoulomb/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi olyan védőréteg anyag, amelyeket elektronsugárral vagy ionsugárral történő alkalmazásra terveztek;
Slovenian: vse uporovne paste za uporabo z elektronskimi ali ionskimi žarki, z občutljivostjo 0,01 (mikrokulomba) μcoulomb/mm2 ali boljšo;
Estonian: kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks elektron- või ioonkimpudega, tundlikkusega 0,01 μC/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam elektronu staru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām ar jutību 0,01 mikrokuloni/mm2 vai lielāku;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti elektronpluoštėje arba jonpluoštėje litografijoje, kurių jautris yra ne mažesnis kaip 0,01 μC/mm2;
English: all resists designed for use with X-rays, with a sensitivity of 2,5 mJ/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure;
German: alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Röntgenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 2,5 mJ/mm2;
Spanish: Todos los materiales de protección destinados a su utilización con rayos X y que posean una sensibilidad de 2,5 mJ/mm2 o mejor;
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) progettate per essere utilizzate sotto l’effetto di raggi X, aventi sensibilità di 2,5 mJ/mm2 o migliore;
Portuguese: Todas as resinas fotossensíveis para utilização com raios X com uma sensibilidade igual ou melhor que 2,5 mJ/mm2;
Dutch: alle «resists» ontworpen voor gebruik met röntgenstralen met een gevoeligheid van 2,5 mJ/mm2 of beter;
Danish: Alle resists, til brug med røntgenstråler, med en følsomhed på 2,5 mJ/mm2 eller bedre;
Swedish: Alla resistmaterial som är avsedda att användas tillsammans med röntgenstrålar och som har en känslighet som är 2,5 mJ/mm2eller bättre.
Finnish: Kaikki röntgenestopinnoitteet, joiden herkkyys on 2,5 mJ/mm2 tai parempi;
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά για χρήση με ακτίνες Χ, με ευαισθησία 2,5 mJ/mm2 ή καλύτερη,
Czech: veškeré rezisty konstruované pro použití s rentgenovými paprsky o citlivosti 2,5 mJ/mm2 nebo lepší,
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s röntgenovými lúčmi s citlivosťou najmenej 2,5 mJ/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku promieni rentgenowskimi, posiadające czułość 2,5 mJ/mm2 lub lepszą;
Hungarian: 2,5 mJ/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi röntgensugárral történő használatra tervezett védőréteg;
Slovenian: vse uporovne paste za uporabo z rentgenskimi žarki, z občutljivostjo 2,5 mJ/mm2 ali boljšo;
Estonian: kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks röntgenikiirtega, tundlikkusega 2,5 mJ/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietojumam rentgenstaru tehnoloģijās, ar jutību 2,5 mJ/mm2 vai lielāku;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti rentgeno litografijoje, kurių jautris yra ne mažesnis kaip 2,5 mJ/mm2;
English: all resists optimised for surface imaging technologies, including ’silylated’ resists.
French: toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des technologies de formation d'images de surface, notamment résines photosensibles à "silylation".
German: alle Fotoresists, optimiert für Oberflächen-Belichtungstechnologien einschließlich ’silylierter’ Fotoresists (silylated resists).
Spanish: Todos los materiales de protección optimizados para tecnologías de formación de imágenes de superficie, incluidos los materiales de protección ’sililados’.
Italian: tutte le resine fotosensibili (resist) ottimizzate per tecnologie di formazione di immagini di superficie, comprese le resine fotosensibili a ’sililazione’.
Portuguese: Todas as resinas fotossensíveis optimizadas para as tecnologias de imagem em superfície, incluindo resinas fotossensíveis "sililadas".
Dutch: alle «resists» die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak, met inbegrip van ’gesilyleerde’ resists.
Danish: Alle resists, der er optimeret til overfladebilleddannelsesteknologi, inklusive ’silylerede’ resists.
Swedish: Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker inklusive "silylated" resistmaterial.
Finnish: Kaikki pintakuvausteknologiaa varten optimoidut estopinnoitteet, ’piitetyt’ resistit mukaan lukien.
Greek: Πάσης φύσεως φωτοανθεκτικά υλικά αριστοποιημένα για τεχνολογίες απεικόνισης επιφανειών, συμπεριλαμβανομένων των πυριτικοποιημένων φωτοανθεκτικών υλικών.
Czech: veškeré rezisty optimalizované pro technologie zobrazování povrchu, včetně ’silylátovaných’ rezistů.
Slovak: všetky odolné materiály optimalizované pre technológie povrchového zobrazovania vrátane ‚silylovaných’ odolných materiálov.
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne zoptymalizowane do technologii tworzenia obrazów powierzchniowych, włącznie z fotorezystami "siliatowanymi".
Hungarian: A felületi képalkotási technológiákhoz optimalizált összes védőréteg, beleértve a "szililezett" védőanyagokat is;
Slovenian: vse uporovne paste, optimizirane za tehniko površinske preslikave, skupaj s "siliciranimi" uporovnimi pastami.
Estonian: kõik resistid, mis on optimeeritud pinnakujundamise tehnoloogiate jaoks, sealhulgas ka silüleeritud resistid.
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas optimizēti attēlu formēšanas tehnoloģijām, arī "sililēti" pārklājumi.
Lithuanian: Visi rezistai, optimizuoti vaizdų sudarymo paviršiuose technologijai, įskaitant ’sililinius’ rezistus.
English: Organo-inorganic compounds, as follows:
French: Composés organo-inorganiques, comme suit:
German: Organisch-anorganische Verbindungen wie folgt:
Spanish: Compuestos organo-inorgánicos, según se indica:
Italian: Composti organici-inorganici come segue:
Portuguese: Compostos organo-inorgânicos:
Dutch: Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder:
Danish: Følgende organiske-uorganiske forbindelser:
Swedish: Organiska-oorganiska blandningar enligt följande:
Finnish: Seuraavat orgaanis-epäorgaaniset yhdisteet:
Greek: Ενώσεις οργανικού με ανόργανο στοιχείο ως εξής:
Czech: Organoanorganické sloučeniny:
Slovak: Organicko-anorganické zlúčeniny:
Polish: Związki organiczno-nieorganiczne, takie jak:
Hungarian: Szerves-szervetlen vegyületek, az alábbiak szerint:
Slovenian: Organsko-anorganske spojine:
Estonian: Orgaanilis-anorgaanilised ühendid:
Latvian: Organiski-neorganiskie savienojumi:
Lithuanian: Organiniai – neorganiniai junginiai, išvardyti toliau: