FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: The term exploding foil detonator may refer to either an EB or a slapper-type detonator. Also, the word initiator is sometimes used in place of the word detonator. 3A233 Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 atomic mass units or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
Czech: POZN.: VIZ TÉŽ SEZNAM VOJENSKÉHO MATERIÁLU.
English: Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
French: spectromètres de masse au plasma associés par couplage inductifs;
German: induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometer (ICP/MS);
Spanish: Espectrómetros de masas de plasma acoplados inductivamente ("ICP"/"MS");
Italian: spettrometri di massa a plasma ad accoppiamento induttivo (ICP/MS);
Portuguese: Espectrómetros de massa de plasma com acoplamento por indução (ICP/MS);
Dutch: inductief gekoppelde plasmamassaspectrometers (ICP/MS);
Danish: Induktivt koblede plasmamassespektrometre (ICP/MS);
Swedish: Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS).
Finnish: Induktiivisesti kytketyt plasmamassaspektrometrit (ICP/MS = Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometers);
Greek: Επαγωγικά συζευγμένοι φασματογράφοι μάζας πλάσματος (ICP/ΜS).
Czech: elektricky řízené rozněcovače: 1. odpalovací můstek (EB), 2. odpalovací můstkový drát (EBW), 3. nárazové rozbušky, 4. odpalovací fóliové rozbušky (EFI);
Slovak: hmotnostné spektrometre s indukčne viazanou plazmou (ICP/MS);
Polish: Plazmowe spektrometry masowe ze sprzężeniem indukcyjnym (ICP/MS);
Hungarian: Induktív csatolású plazma-tömegspektrométerek (ICP/MS);
Slovenian: masni spektrometri z induktivno sklopljeno plazmo (ICP/MS);
Estonian: induktiivselt sidestatud plasma massispektromeetrid (ICP/MS);
Latvian: induktīvi saistītas plazmas masas spektrometri (ICP/MS);
Lithuanian: Induktyviuoju būdu išlaikomos plazmos masių spektrometrai (ICP/MS);
English: Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
French: spectromètres de masse à décharge luminescente;
German: Glühentladungs-Massenspektrometer (GDMS);
Spanish: Espectrómetros de masas de descarga luminosa ("GDMS");
Italian: spettrometri di massa con scarica a bagliore (GDMS);
Portuguese: Espectrómetros de massa de descarga luminescente (GDMS);
Dutch: massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS);
Danish: Glimudladningsmassespektrometre (GDMS);
Swedish: Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS).
Finnish: Hehkupurkausmassaspektrometrit (GDMS = Glow Discharge Mass Spectrometers);
Greek: Φασματογράφοι μάζας εκκένωσης με διαύγεια (GDMS).
Czech: zařízení využívající jednoduché nebo násobné rozbušky, konstruované pro téměř současné odpálení výbušného povrchu většího než 5000 mm2 jedním signálem k odpálení s rozšířením přes celý povrch za méně než 2,5 μs. Poznámka: Položka 3A232 nezahrnuje rozbušky využívající pouze primární výbušniny, jako je azid olovnatý. Technická poznámka: Rozbušky zahrnuté do položky 3A232 používají drobné elektrické vodiče (můstky, můstkové dráty nebo fólie), které se, pokud jimi projde rychlý elektrický impuls o vysokém proudu, explozivně odpařují. V nenárazových typech nastartuje výbušný vodič chemickou detonaci dotykem s vysoce výbušnou látkou jako je PETN (pentaerytritol-tetranitrát). V nárazových rozbuškách přirazí výbušné odpařování elektrického vodiče nárazník přes mezeru a dopad nárazu nastartuje chemickou detonaci. Nárazník je v některých typech spouštěn magnetickou silou. Výraz výbušná fólie může označovat jak odpalovací můstek (EB), tak i nárazovou rozbušku. Místo výrazu rozbuška se někdy používá výraz iniciátor. 3A233 Hmotnostní spektrometry, jiné než uvedené v položce 0B002.g., které jsou schopné měřit ionty o 230 nebo více atomových hmotnostních jednotkách a které mají rozlišovací schopnost lepší než 2 částice z 230, a iontové zdroje pro tyto spektrometry: a. plazmové hmotnostní spektrometry s induktivní vazbou (ICP/MS),
Slovak: hmotnostné spektrometre s tlejivkovým výbojom (GDMS);
Polish: Jarzeniowe spektrometry masowe (GDMS);
Hungarian: Parázsfénykisüléses tömegspektrométerek (GDMS);
Slovenian: masni spektrometri s tlilno razelektritvijo (GDMS);
Estonian: huumlahendus-massispektromeetrid (GDMS);
Latvian: aukstās jonizācijas mirdzizlādes masas spektrometri (GDMS);
Lithuanian: Rusenančiojo išlydžio masių spektrometrai (GDMS);
English: Thermal ionization mass spectrometers (TIMS);
French: spectromètres de masse à ionisation thermique;
German: Thermoionisations-Massenspektrometer (TIMS);
Spanish: Espectrómetros de masas de ionización térmica ("TIMS");
Italian: spettrometri di massa a ionizzazione termica (TIMS);
Portuguese: Espectrómetros de massa de ionização térmica (TIMS);
Dutch: massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS);
Danish: Termisk ioniseringsmassespektrometre (TIMS);
Swedish: Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS).
Finnish: Termistä ionisaatiota käyttävät massaspektrometrit (TIMS = Thermal Ionization Mass Spectrometers);
Greek: Φασματογράφοι μάζας με θερμικό ιονισμό (TIMS).
Czech: hmotnostní spektrometry s doutnavým výbojem (GDMS),
Slovak: hmotnostné spektrometre s tepelnou ionizáciou (TIMS);
Polish: Termojonizacyjne spektrometry masowe (TIMS);
Hungarian: Hőionizációs tömegspektrométerek (TIMS);
Slovenian: masni spektrometri s termično ionizacijo (TIMS);
Estonian: termilise ionisatsiooni massispektromeetrid (TIMS);
Latvian: termiskās jonizācijas masas spektrometri (TIMS):
Lithuanian: Šiluminio jonizavimo masių spektrometrai (TIMS);
English: Electron bombardment mass spectrometers which have a source chamber constructed from, lined with or plated with materials resistant to UF6;
French: spectromètres de masse à bombardement d'électrons ayant une chambre source construite en matériaux résistant à l'UF6 ou pourvue d'une doublure ou d'un placage de tels matériaux;
German: Elektronenstoß-Massenspektrometer mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert;
Spanish: Espectrómetros de masas de bombardeo electrónico que tengan una cámara fuente construida, revestida o chapada con materiales resistentes al UF6;
Italian: spettrometri di massa a bombardamento di elettroni aventi una camera sorgente costruita, placcata o rivestita con materiali resistenti all'UF6;
Portuguese: Espectrómetros de massa de bombardeamento de electrões que tenham uma câmara-fonte construída, forrada ou revestida com materiais resistentes ao UF6;
Dutch: massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting, met een bronkamer vervaardigd van of bedekt met een materiaal dat bestand is tegen UF6;
Danish: Elektronbombardementmassespektrometre, som har et kildekammer, der er konstrueret af, foret med eller belagt med UF6-bestandige materialer;
Swedish: Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning ("electron bombardment") och med en jonisationskammare tillverkad av, fodrad eller klädd med material som är resistenta mot UF6 (uranhexafluorid).
Finnish: Elektronipommitusmassaspektrometrit, joiden lähdekammio on tehty, vuorattu tai päällystetty UF6-kestävillä materiaaleilla;
Greek: Φασματογράφοι μάζας με βομβαρδισμό ηλεκτρονίων που έχουν θάλαμο πηγής κατασκευασμένο από, με επίστρωση, ή κάλυψη από, υλικά που αντέχουν στο UF6.
Czech: hmotnostní spektrometry s tepelnou ionizací (TIMS),
Slovak: hmotnostné spektrometre s elektrónovým bombardovaním, ktoré majú komoru žiariča skonštruovanú z materiálov odolných voči UF6, nimi vystlatú alebo oplátovanú;
Polish: Spektrometry masowe z zespołami do bombardowania elektronami, posiadające komorę ze źródłem elektronów wykonaną z materiałów odpornych na UF6, wykładaną lub powlekaną takimi materiałami;
Hungarian: Elektronbombázásos tömegspektrométerek, amelyek forráskamrája UF6-nak (urán-hexafluoridnak) ellenálló anyagból készült, vagy azzal vonták be;
Slovenian: masni spektrometri za obstreljevanje z elektroni, ki imajo komoro z viri, izdelano iz materialov, odpornih proti UF6, ali pa je komora s takšnimi materiali prevlečena ali prekrita;
Estonian: elektronpommitusega massispektromeetrid, mille allikakonteiner on valmistatud, vooderdatud või kaetud UF6 kindlate materjalidega;
Latvian: elektronu bombardēšanas masas spektrometri, kuru elektronu avota kamera ir izgatavota no materiāliem, kas izturīgi pret UF6 koroziju, ir ar tiem oderēta vai pārklāta;
Lithuanian: Elektronpluoščiai masių spektrometrai, kurių šaltinio kamera iš vidaus apkalta arba padengta medžiagomis, atspariomis UF6;
English: Molecular beam mass spectrometers having either of the following characteristics:
French: spectromètres de masse à faisceau moléculaire comme suit:
German: Molekularstrahl-Massenspektrometer mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Espectrómetros de masas de haz molecular que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: spettrometri di massa a fascio molecolare aventi una delle caratteristiche seguenti:
Portuguese: Espectrómetros de massa de feixe molecular, com uma das seguintes características:
Dutch: massaspectrometers werkend met een molecuulbundel, met één van de volgende kenmerken:
Danish: Molekylestrålemassespektrometre med en af følgende egenskaber:
Swedish: Masspektrometer av molekylstråletyp, antingen
Finnish: Molekyylisuihkumassaspektrometrit, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
Greek: Φασματογράφοι μάζας δέσμης μορίων, με ένα από τα εξής χαρακτηριστικά:
Czech: hmotnostní spektrometry s elektronovým ostřelováním, které mají komoru zdroje vyrobenou z materiálů odolných vůči UF6 nebo takovým materiálem pokrytou nebo vyloženou,
Slovak: hmotnostné spektrometre s molekulovým lúčom vyznačujúce sa niektorou z týchto vlastností:
Polish: Następujące spektrometry masowe z wiązką molekularną:
Hungarian: Molekulasugár-tömegspektrométerek, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők valamelyikével:
Slovenian: masni spektrometri z molekularnim snopom, ki imajo eno od naslednjih značilnosti:
Estonian: molekulaarkimbu massispektromeetrid, millel on üks järgmistest omadustest:
Latvian: molekulārā staru kūļa masas spektrometri, kam ir kāds no šiem raksturlielumiem:
Lithuanian: Molekulpluoščiai masių spektrometrai, turintys bet kurią iš šių charakteristikų:
English: A source chamber constructed from, lined with or plated with stainless steel or molybdenum and equipped with a cold trap capable of cooling to 193 K (– 80 °C) or less; or 2. A source chamber constructed from, lined with or plated with materials resistant to UF6;
Czech: hmotnostní spektrometry s molekulovým paprskem, které mají některou z těchto charakteristik:
English: Mass spectrometers equipped with a microfluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides. 3B Test, Inspection and Production Equipment 3B001
Czech: komoru zdroje vyrobenou z korozivzdorné oceli nebo molybdenu a které mají vymrazovací kapsu schopnou chlazení na 193 K (–80 °C) nebo méně nebo
English: Equipment for the manufacturing of semiconductor devices or materials, as follows, and specially designed components and accessories therefor: a. Equipment designed for epitaxial growth, as follows: 1. Equipment capable of producing a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more; 2. Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004; 3. Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
Czech: komoru zdroje vyrobenou z materiálů odolných vůči UF6 nebo takovým materiálem pokrytou nebo vyloženoù,
English: Equipment designed for ion implantation, having any of the following:
French: équipements conçus pour l'implantation ionique et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
German: Ausrüstung, konstruiert für Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos diseñados para la implantación iónica, que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature progettate per l'impiantazione ionica, aventi una delle caratteristiche seguenti:
Portuguese: Equipamentos concebidos para implantação iónica com uma das seguintes características:
Dutch: Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:
Danish: Udstyr konstrueret til ionimplantering med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Utrustning för jonimplantation som har någon av följande egenskaper:
Finnish: Laitteet, jotka on suunniteltu ioni-istutusta varten ja joilla on jokin seuraavista:
Greek: Εξοπλισμός σχεδιασμένος για εμφύτευση ιόντων και έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Czech: hmotnostní spektrometry vybavené mikrofluorizačním iontovým zdrojem, konstruované pro aktinidy nebo fluoridy aktinidů. 3B Zkušební, kontrolní a výrobní zařízení 3B001 Zařízení pro výrobu polovodičových součástek nebo materiálů a jejich speciálně konstruované součásti a příslušenství: a. zařízení pro epitaxiální růst:
Slovak: Zariadenia navrhnuté na implantáciu iónov vyznačujúce sa niektorou z týchto vlastností:
Polish: Sprzęt zaprojektowany do implantacji jonów, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
Hungarian: Ionbeültetésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:
Slovenian: oprema, izdelana za ionsko implantacijo, ki ima katerokoli od naslednjih značilnosti:
Estonian: ioonlegeerimisseadmed, millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: iekārtas, kas paredzētas jonu implantācijai un kam ir kāds no šiem raksturlielumiem:
Lithuanian: Jonų implantacijos įranga, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:
English: A beam energy (accelerating voltage) exceeding 1 MeV;
French: énergie de faisceau (tension d'accélération) de plus de 1 MeV;
German: Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) größer als 1 MeV,
Spanish: Una energía del haz (tensión de aceleración) superior a 1 MeV;
Italian: energia del fascio (tensione di accelerazione) superiore a 1 MeV;
Portuguese: Energia do feixe (tensão de aceleração) superior a 1 MeV;
Dutch: een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1 MeV;
Danish: En stråleenergi (accelerationsspænding) på mere end 1 MeV;
Swedish: En strålenergi (accelerationsspänning) som överstiger 1 MeV,
Finnish: Säteen energia (kiihdytysjännite) ylittää 1 MeV;
Greek: Ενέργεια δέσμης (τάση επιτάχυνσης) ανώτερη από 1 MeV,
Czech: schopná produkovat vrstvy s rovnoměrností tloušťky méně než ±2,5 % v rozsahu vzdálenosti 75 mm nebo více z jiného materiálu než je silikon;
Slovak: energia lúča (urýchľovacie napätie) vyššia ako 1 MeV;
Polish: Energię wiązki (napięcie przyspieszające) powyżej 1 MeV;
Hungarian: A sugárnyaláb energia (a gyorsítófeszültség) meghaladja az 1 MeV-ot;
Slovenian: energijo žarka (pospeševalna napetost) več kot 1 MeV;
Estonian: kimbu energia (kiirenduspinge) on üle 1 MeV;
Latvian: staru kūļa enerģija (paātrināšanas spriegums) pārsniedz 1 MeV;
Lithuanian: Pluošto energiją (greitinimo įtampą), viršijančią 1 MeV;
English: Being specially designed and optimised to operate at a beam energy (accelerating voltage) of less than 2 keV;
French: spécialement conçus et optimisés pour fonctionner à une énergie de faisceau (tension d'accélération) de moins de 2 keV;
German: besonders konstruiert und optimiert, um bei einer Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) kleiner als 2 keV zu arbeiten,
Spanish: Diseñados especialmente y optimizados para funcionar a una energía del haz (tensión de aceleración) inferior a 2 keV;
Italian: appositamente progettate ed ottimizzate per funzionare con una energia del fascio (tensione di accelerazione) inferiore a 2 keV;
Portuguese: Especialmente concebidos e optimizados para funcionar com uma energia do feixe (tensão de aceleração) inferior a 2 keV;
Dutch: speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie (versnellingsspanning) van minder dan 2 keV;
Danish: Specielt konstrueret og optimeret til drift ved en stråleenergi (accelerationsspænding) på mindre end 2 keV;
Swedish: är speciellt konstruerad för att optimalt kunna arbeta vid en strålenergi (accelerationsspänning) som är mindre än 2 keV,
Finnish: Ne on erityisesti suunniteltu ja optimoitu toimimaan pienemmällä kuin 2 keV:n säteen energialla (kiihdytysjännitteellä);
Greek: Ειδικό σχεδιασμό και βελτιστοποίηση για να λειτουργεί με ενέργεια δέσμης (τάση επιτάχυνσης) λιγότερη από 2 keV,
Czech: reaktory pro chemickou depozici v parní fázi za použití organokovových sloučenin (MOCVD), speciálně konstruované pro růst krystalů složených polovodičů chemickou reakcí mezi materiály uvedenými v položce 3C003 nebo 3C004; 3. zařízení pro epitaxiální růst s molekulárním svazkem při použití plynných nebo pevných zdrojů;
Slovak: sú zvlášť navrhnuté a optimalizované tak, aby pracovali s energiou lúča (urýchľovacím napätím) menej ako 2 keV;
Polish: Specjalne zaprojektowany i optymalizowany do działania z energią wiązki (napięciem przyspieszającym) mniejszą niż 2 keV;
Hungarian: 2 keV-nál alacsonyabb sugárnyaláb energiára (gyorsítófeszültségre) tervezett és e szinten történő működésre optimalizált berendezés;
Slovenian: posebej izdelana in optimizirana za delovanje pri energiji žarka (pospeševalni napetosti) manj kot 2 keV;
Estonian: spetsiaalselt ette nähtud ja optimeeritud töötamaks kimbu energial (kiirenduspingel), mis on väiksem kui 2 keV;
Latvian: īpaši paredzētas un optimizētas darbam, ja staru kūļa enerģija (paātrinātājspriegums) ir mazāka par 2 keV;
Lithuanian: Specialiai sukonstruota ir optimizuota veikti, kai pluošto energija (greitinimo įtampa) yra mažesnė kaip 2 keV;
English: Direct write capability; or
French: capacité d'écriture directe; ou
German: mit Direktschreibbetrieb oder
Spanish: Capacidad de escritura directa; o
Italian: capacità di scrittura diretta o
Portuguese: Capacidade de escrita directa; ou
Dutch: geschikt voor direct schrijven; of
Danish: Direkte skrivekapacitet; eller
Swedish: har direkt skrivmöjlighet, eller
Finnish: Mahdollistavat kuvion suoran istutuksen; tai
Greek: Δυνατότητα απ’ ευθείας εγγραφής, ή
Czech: zařízení konstruovaná pro iontovou implantaci, která mají některou z těchto vlastností:
Slovak: schopnosť priameho zápisu; alebo
Polish: Zdolność bezpośredniego zapisu; lub
Hungarian: Közvetlen írási lehetőség; vagy
Slovenian: zmožnost neposrednega zapisa; ali
Estonian: otsekirje võimega või
Latvian: ir tiešā ieraksta iespējas; vai
Lithuanian: Galinti tiesiogiai įrašyti; arba
English: Anisotropic plasma dry etching equipment, as follows: 1. Equipment with cassette-to-cassette operation and load-locks, and having any of the following: a. Designed or optimised to produce critical dimensions of 180 nm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or b. Designed for generating less than 0,04 particles/cm2 with a measurable particle size greater than 0,1 μm in diameter;
Czech: energie paprsku 65 keV nebo více a paprskový proud 45 mA nebo více pro implantování kyslíku s vysokou energií do zahřáté "podložky" z polovodičového materiálu;
English: Equipment specially designed for equipment specified in 3B001.e. and having any of the following: a. Designed or optimised to produce critical dimensions of 180 nm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or
Czech: Zařízení na suché leptání anizotropní plazmou:
English: Designed for generating less than 0,04 particles/cm2 with a measurable particle size greater than 0,12 μm in diameter;
French: conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2 avec une dimension de particule mesurable supérieure à 0,1 μm en diamètre;
German: entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen;
Spanish: Diseñados para generar menos de 0,04 partículas/cm2, con un tamaño mensurable de las partículas mayor a 0,1 micra de diámetro;
Italian: progettate per generare meno di 0,04 particelle/cm2 con dimensione delle particelle misurabile avente diametro maggiore di 0,1 μm;
Portuguese: Concebidos para gerar menos de 0,04 partícula/cm2 com um diâmetro mensurável das partículas superior a 0,1 nm;
Dutch: ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede;
Danish: Konstrueret itl at udvikle færre end 0,04 partikler/cm2 med en målelig partikelstørrelse på mere end 0,1 μm i diameter;
Swedish: den är speciellt konstruerad för att generera mindre än 0,04 partiklar/cm2 med en mätbar partikelstorlek som är större än 0,1 μm i diameter.
Finnish: Ne on suunniteltu kehittämään cm2:ä kohden vähemmän kuin 0,04 partikkelia, joiden mitattavissa oleva koko on halkaisijaltaan suurempi kuin 0,1 μm;
Greek: Σχεδιασμένος για να παράγει λιγότερα από 0,04 σωματίδια/cm2 με μετρήσιμη διάμετρο σωματιδίου άνω του 0,1 μm.
Czech: zařízení s provozem kazeta–kazeta a uzávěry náplně (load-locks), která mají některou těchto vlastností:
Slovak: navrhnuté na generovanie menej ako 0,04 častice/cm2 pri merateľnej veľkosti častíc s priemerom viac ako 0,1 μm;
Polish: Zaprojektowany do wytwarzania mniej niż 0,04 cząsteczek/cm2 z mierzalną wielkością cząsteczki większą niż 0,1 μm w średnicy.
Hungarian: Úgy tervezték, hogy 0,1 μm-nél nagyobb átmérőjű mérhető részecskemérettel állítson elő nagyobb 0,04 részecske/cm2-nél alacsonyabb értéket;
Slovenian: je izdelana za generiranje manj kot 0,04 delcev/cm2 z izmerljivo velikostjo delcev, večjih od 0,12 μm v premeru;
Estonian: kavandatud tekitama vähem kui 0,04 osakest/cm2, mille mõõdetav osakese diameeter on suurem kui 0,1 μm;
Latvian: paredzētas mazāk nekā 0,04 tādu daļiņu ģenerēšanai uz cm2, kuru izmērs pārsniedz 0,1 μm diametrā;
Lithuanian: Sukurta generuoti mažiau nei 0,04 dalelių/cm2, kai išmatuojamų dalelių matmenys per skersmenį didesni nei 0,1 μm;
English: Plasma enhanced CVD equipment, as follows:
French: équipements de dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma, comme suit:
German: Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt:
Spanish: Equipos de "CVD" intensificado por plasma, según se indica:
Italian: apparecchiature per la deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) potenziato a plasma, come segue:
Portuguese: Equipamentos CVD enriquecidos com plasma:
Dutch: Apparatuur voor het met plasma versterkt chemisch neerslaan uit de dampfase (PECVD), als hieronder:
Danish: Plasmaforstærket CVD-udstyr som følger:
Swedish: Utrustning för plasmaförstärkt CVD enligt följande:
Finnish: Seuraavat plasma-CVD -laitteet:
Greek: Εξοπλισμός για χημική εναπόθεση με εξάτμιση (CVD) και με την ενίσχυση πλάσματος, ως εξής:
Czech: jsou konstruovaná nebo optimalizovaná pro tvorbu kritických rozměrů 180 nm nebo méně s přesností ±5 % 3 sigma nebo
Slovak: Zariadenia na chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD) zosilnené plazmou:
Polish: Sprzęt do intensyfikowanego za pomocą plazmy osadzania z par lotnych (CVD), taki jak:
Hungarian: Plazmaszórásos gőzfázisú kémiai leválasztó (CVD) berendezés, az alábbiak szerint:
Slovenian: oprema za nanašanje CVD z uporabo plazme:
Estonian: plasmaaktiveeritud keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) seadmed:
Latvian: iekārtas ar plazmu aktivētam CVD procesam, tas ir:
Lithuanian: Plazma aktyvinamo cheminio garinio nusodinimo (CVD) įranga, išvardyta toliau:
English: Equipment specially designed for equipment controlled by 3B001.e. and designed according to the manufacturer's specifications or optimised for use in the production of semiconductor devices with critical dimensions of 180 nm or less; e. Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems, having all of the following: 1. Interfaces for wafer input and output, to which more than two pieces of semiconductor processing equipment are to be connected; and 2. Designed to form an integrated system in a vacuum environment for sequential multiple wafer processing; Note: 3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems not designed to operate in a vacuum environment. f. Lithography equipment, as follows: 1. Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods, having any of the following:
Czech: zařízení speciálně konstruovaná pro zařízení uvedená v položce 3B001.e., která mají některou z těchto vlastností: