English: Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:
French: équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes:
German: Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos diseñados especialmente para la fabricación de máscaras o el proceso de dispositivos semiconductores utilizando un haz electrónico, un haz iónico o un haz "laser", por enfoque y deflexión, y que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature appositamente progettate per la produzione di maschere o per il trattamento di dispositivi semiconduttori, utilizzanti un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio "laser", aventi una delle caratteristiche seguenti:
Portuguese: Equipamentos especialmente concebidos para a realização de máscaras ou para o tratamento de dispositivos de semicondutores através de feixes de electrões, iões ou laser focados e reflectidos, com uma das seguintes características:
Dutch: apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen en die gebruik maken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of 'laser'-bundels, met één of meer van de volgende kenmerken:
Danish: Udstyr, der er specielt konstrueret til maskefremstilling eller behandling af halvlederindretninger ved brug af en afbøjet fokuseret elektronstråle, ionstråle eller "laser"-stråle, med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker eller halvledarenheter med hjälp av avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller "laser"-strålar med någon av följande egenskaper:
Finnish: Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu maskien valmistukseen tai puolijohdekomponenttien prosessointiin käyttäen poikkeutettua ja fokusoitua elektronisuihkua, ionisuihkua tai "laser"sädettä, ja joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
Greek: Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιασθεί για την παραγωγή μασκών ή για επεξεργασία συσκευών ημιαγωγών με τη χρήση εκτρεπόμενης εστιασμένης δέσμης ηλεκτρονίων, δέσμης ιόντων ή δέσμης "λέιζερ", που έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
Czech: jsou konstruovány jako integrovaný systém ve vakuu pro postupné vícenásobné zpracování destiček; Poznámka: Položka 3B001.e. nezahrnuje automatické robotizované manipulační systémy pro destičky polovodičů, které nejsou konstruovány pro provoz ve vakuovém prostředí. f. litografické zařízení: 1. nastavovací a krokovací nebo krokovací a snímací zařízení na zpracování destiček polovodičů za použití fotooptických nebo rentgenových metod, která mají některou z těchto vlastností:
Slovak: Zariadenia zvlášť navrhnuté na vytváranie masiek alebo spracovanie polovodičovom zariadení s použitím vychýleného zaostreného elektrónového lúča, iónového lúča alebo "laserového" lúča vyznačujúce sa niektorou z týchto charakteristík:
Polish: Sprzęt specjalnie zaprojektowany do wytwarzania masek lub przyrządów półprzewodnikowych za pomocą odchylanej, zogniskowanej wiązki elektronów, jonów lub "laserowej", posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
Hungarian: Kifejezetten maszkkészítésre vagy félvezetőeszköz gyártására tervezett berendezés, amely eltérített fókuszált elektronsugarat, ionsugarat, vagy lézersugarat alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbiak bármelyikével:
Slovenian: oprema, izdelana posebej za obdelavo naprav za izdelavo mask ali naprav za obdelavo polprevodniških naprav, ki uporabljajo elektronski žarek z odklonjenim fokusom, ionski ali "laserski" žarek in ki imajo katerokoli od naslednjih značilnosti:
Estonian: seadmed pooljuhtide maskide valmistamiseks või pooljuhtseadiste töötlemiseks, rakendades hälvitatud-fokuseeritud elektronkimpu, ioonkimpu või laserikiirt, millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: īpašas iekārtas masku izgatavošanai vai pusvadītāju materiālu apstrādei, izmantojot atstarotu fokusētu elektronu staru kūli, jonu staru kūli vai "lāzera" staru kūli, kam ir kāds no šiem raksturlielumiem:
Lithuanian: Įranga, specialiai sukurta kaukėms gaminti ar puslaidininkiniams įtaisams apdoroti, naudojant kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą, jonų pluoštą ar "lazerio" pluoštą, turinti bet kurią iš šių charakteristikų: