FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
French: une pression de travail maximale supérieure à 207 MPa;
German: maximaler Arbeitsdruck größer als 207 MPa,
Spanish: Capacidad para desarrollar una presión de trabajo máxima superior a 207 MPa;
Italian: pressione di lavoro massima superiore a 207 MPa;
Portuguese: Pressão máxima de trabalho superior a 207 MPa;
Dutch: een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;
Danish: Maksimalt arbejdstryk på mere end 207 MPa;
Swedish: ett maximalt arbetstryck som överstiger 207 MPa,
Finnish: Maksimityöpaine ylittää 207 MPa;
Greek: Μέγιστη πίεση εργασίας μεγαλύτερη από 207 MPa.
Czech: mají některou z těchto vlastností:
Slovak: maximálny pracovný tlak najmenej ako 207 MPa;
Polish: Maksymalne ciśnienie robocze powyżej 207 MPa;
Hungarian: 207 MPa-t meghaladó maximális üzemi nyomás;
Slovenian: največji delovni tlak nad 207 MPa;
Estonian: maksimaalne töörõhk üle 207 MPa;
Latvian: ar maksimālo darba spiedienu virs 207 MPa;
Lithuanian: Didžiausią darbinį slėgį, viršijantį 207 MPa;
English: A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
French: un environnement thermique contrôlé supérieur à 1773 K (1500 °C); ou
German: geregelte thermische Umgebung größer als 1773 K (1500 °C) oder
Spanish: Ambiente térmico controlado superior a 1773 K (1500 °C); o
Italian: ambiente termicamente controllato a temperature superiori a 1773 K (1500 °C); o
Portuguese: Ambiente térmico controlado superior a 1773 K (1500 °C); ou
Dutch: een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1773 K (1500 oC); of
Danish: Styret termisk miljø på mere end 1773 K (1500 °C); eller
Swedish: en kontrollerad termisk omgivning som överstiger 1773 K (1500 °C), eller
Finnish: Säädettävä lämpötila ylittää 1773 K (1500 °C); astetta; tai
Greek: Περιβάλλον ελεγχόμενης θερμοκρασίας μεγαλύτερης από 1773 Κ (1500 °C)· ή
Czech: maximální pracovní tlak vyšší než než 207 MPa,
Slovak: riadené tepelné prostredie s teplotou viac ako 1773 K (1500 °C); alebo
Polish: Regulacja warunków termicznych powyżej 1773 K (1500 °C); lub
Hungarian: 1773 K (1500 °C) fölötti ellenőrzött hőmérsékleti környezet; vagy
Slovenian: nadzorovano delovno temperaturo nad 1773 K (1500 °C); ali
Estonian: kontrollitava termilise keskkonna temperatuur üle 1773 K (1500 °C) või
Latvian: kontrolējamu termisku vidi, kuras temperatūra pārsniedz 1773 K (1500 °C); vai
Lithuanian: Valdomą šiluminę aplinką, viršijančią 1773 K (1500 °C); arba
English: A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
French: une capacité d'imprégnation aux hydrocarbures et d'élimination des produits gazeux de décomposition résultants.
German: mit einer Einrichtung zum Imprägnieren mit Kohlenwasserstoffen und zur Entfernung entstehender gasförmiger Reaktionsprodukte.
Spanish: Capacidad para efectuar impregnación con hidrocarburos y eliminar las sustancias gaseosas de descomposición resultantes.
Italian: capacità di impregnazione con idrocarburi ed eliminazione dei prodotti di decomposizione gassosa risultanti.
Portuguese: Meios que possibilitem a impregnação com hidrocarbonetos e a remoção dos produtos gasosos resultantes da sua degradação;
Dutch: de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten.
Danish: Indrettet til hydrocarbonimprægnering og fjernelse af de resulterende luftformige nedbrydningsprodukter.
Swedish: en anordning för kolväteimpregnering och för bortforsling av uppkomna restgaser.
Finnish: Joissa on edellytykset hiilivetykyllästykseen ja syntyvien kaasumaisten hajoamistuotteiden poistoon.
Greek: Εγκατάσταση για τον εμποτισμό υδρογονανθράκων και την απομάκρυνση των αερίων προϊόντων αποδόμησης που προκύπτουν.
Czech: řízenou teplotu prostředí vyšší než 1773 K (1500 °C) nebo 3. zařízení pro uhlovodíkovou impregnaci a odstraňování vznikajících plynných produktů rozkladu.
Slovak: zariadenie na impregnáciu uhľovodíkmi a odstraňovanie výsledných plynných splodín rozkladu;
Polish: Łatwość nasycania węglowodorami i usuwania powstających gazowych produktów rozkładu;
Hungarian: A szénhidrogénes impregnálásra és a keletkező gáznemű bomlástermékek eltávolítására szolgáló berendezés;
Slovenian: napravo za hidrokarbonsko impregnacijo in odstranitev odpadnih plinastih produktov.
Estonian: võimalus süsivesinikega impregneerimiseks ja tekkivate gaasiliste lagunemisproduktide eemaldamiseks.
Latvian: ierīci, kas piesūcina ar ogļūdeņražiem un aizvada gāzveida sadalīšanās produktus, kas izdalās šajā procesā.
Lithuanian: Priemones angliavandeniliniam įmirkymui ir susidarančių dujų skilimo produktų pašalinimui.
English: N.B.: For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
French: N.B.: Pour les matrices, moules et outils spécialement conçus, voir 1B003, 9B009 et les listes de matériels de guerre.
German: Anmerkung: Für besonders konstruierte Formen, Gesenke und Werkzeuge siehe Nummer 1B003, 9B009 und Liste für Waffen, Munition und Rüstungsmaterial.
Spanish: N.B.: Para matrices, moldes y herramientas diseñados especialmente véanse los artículos 1B003, 9B009 y la Relación de material de Defensa.
Italian: NB: per stampi, matrici e utensili appositamente progettati, vedere 1B003, 9B009 e elenco dei materiali di armamento.
Portuguese: NOTA: No que se refere aos cunhos, matrizes e ferramentas especialmente concebidos, ver 1B003, 9B009 e a Lista de Material de Guerra.
Dutch: NB: Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereedschappen, zie 1B003, 9B009 en de Lijst militaire goederen.
Danish: NB: For så vidt angår specielt konstruerede matricer, forme og redskaber, se 1B003, 9B009 og kontrolbestemmelserne for produkter til militære formål.
Swedish: Anm.: För speciellt konstruerade kapslar, formar och verktyg, se avsnitten 1B003 och 9B009 samt militära förteckningen.
Finnish: Huom.: Erityisesti suunnitellut suulakkeet, muotit ja laitteet: katso kohdat 1B003, 9B009 ja asetarvikeluettelo.
Greek: Σημ.: Για ειδικά σχεδιασμένες μήτρες, τύπους και εργαλεία βλ. σημεία 1B003, 9B009 και τους Ελέγχους των Στρατιωτικών Προϊόντων.
Czech: POZN.: Pokud jde o speciálně konstruované matrice, formy a nářadí, viz 1B003, 9B009 a Seznam vojenského materiálu.
Slovak: Dôležité upozornenie: Pre zvlášť navrhnuté lisovnice, lejacie formy a lisovacie formy pozri bod 1B003, 1B009 a kontroly vojenských tovarov.
Polish: NB.: W przypadku specjalnie zaprojektowanych matryc, form i oprzyrządowania patrz pozycje 1B003, 9B009 oraz uregulowania dotyczące towarów wojskowych.
Hungarian: NB: A speciális kokillák, öntőszerszámok és szerszámok tekintetében lásd: 1B003, 9B009 és Hadiipari termékellenőrzési jegyzék.
Slovenian: NAPOTILO: Pri posebej izdelanih utopnih orodjih, kalupih in opremi glej točki 1B003, 9B009 in Nadzor vojaškega blaga.
Estonian: Spetsiaalselt konstrueeritud stantside, valuvormide ning tööriistade kohta vaata punkte B003, 9B009 ja sõjaliste kaupade nimekirja.
Latvian: Īpašās presformas, veidņus un piederumus Skat. 1B003, 9B009 pozīcijā, kā arī militāro preču kontroles sarakstos.
Lithuanian: N.B.: Apie specialiai suprojektuotas liejimo formas ir įrankius žr. 1B003, 9B009 ir Karinių prekių kontrolėje.
English: Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor: a. Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Czech: Zařízení speciálně konstruovaná pro depozici, zpracování a regulaci anorganických krycích vrstev, povlaků a povrchových modifikací na neelektronické podkladové substráty pomocí postupů uvedených v tabulce a poznámkách uvedených za položkou 2E003.f. a jejich speciálně konstruované součásti pro automatické zpracování, nastavování polohy, manipulaci a ovládání:
English: N.B.: SEE ALSO 2B105. 1. Process modified for one of the following:
Czech: výrobní zařízení pro chemickou depozici v parní fázi (CVD), které má všechny tyto vlastnosti:
English: Pulsating CVD;
French: dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire;
German: CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck,
Spanish: "CVD" pulsante;
Italian: CVD pulsante;
Portuguese: Deposição em fase vapor, por processo químico, pulsante;
Dutch: pulserende CVD;
Danish: Pulserende CVD;
Swedish: Pulserande CVD.
Finnish: Syke-CVD (pulsating CVD);
Greek: Παλμική εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους,
Czech: POZN.: VIZ TÉŽ 2B105.
Polish: CVD pulsujące;
Hungarian: Pulzáló CVD;
Slovenian: pulzirajoči CVD;
Estonian: CVD-katmine pulseeriva rõhu juures;
Latvian: pulsējošu CVD;
Lithuanian: Pulsuojančiajam cheminiam garų nusodinimui;
English: Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
French: déposition thermique par nucléation contrôlée (CNTD); ou
German: thermische Beschichtung mit geregelter Keimbildung (CNTD = controlled nucleation thermal deposition) oder
Spanish: Deposición nuclearia térmica controlada ("CNTD"); o
Italian: deposizione termica a nucleazione controllata (CNTD) o
Portuguese: Deposição térmica com nucleação controlada (CNTD); ou
Dutch: thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of
Danish: Styret, nuklear termisk udfældning (CNTD); eller
Swedish: Styrd nukleär termisk deponering (CNTD, Controlled nucleation thermal deposition), eller
Finnish: Säädeltävä ydintymis-lämpöhajoaminen (CNTD); tai
Greek: Θερμική εναπόθεση με ελεγχόμενο πυρήνα αντιδράσεως (CΝΤD), ή
Czech: proces modifikovaný pro jeden z těchto postupů: a. pulsační chemická depozice v parní fázi,
Polish: Rozkład termiczny z regulowaną nukleacją (CNTD); lub
Hungarian: Ellenőrzött magformálásos termikus bontás (CNTD); vagy
Slovenian: kontrolirano termično nanašanje delcev (CNTD); ali
Estonian: kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD) või
Latvian: vadāmas nukleācijas termopārklāšanu (CNTD); vai
Lithuanian: Valdomajam susidarančių kristalo užuomazgų šiluminiam (terminiam) nusodinimui (CNTD); arba
English: Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
French: dépôt en phase vapeur par procédé chimique assisté ou amélioré par plasma; et
German: plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten und
Spanish: "CVD" intensificado por plasma o asistido por plasma; y
Italian: CVD intensificata o assistita per mezzo di plasma e
Portuguese: Deposição em fase vapor, por processo químico, activada ou assistida por plasma; e
Dutch: met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en
Danish: Plasmaforstærket eller plasmaassisteret CVD; samt
Swedish: Plasmaförstärkt eller plasmaassisterad CVD, och
Finnish: Plasma-CVD; ja
Greek: Εναπόθεση ατμού με χημική μέθοδο βελτιωμένη με πλάσμα ή υποβοηθούμενη από πλάσμα, και
Czech: řízená nukleační tepelná depozice (CNTD) nebo
Polish: CVD intensyfikowane albo wspomagane plazmowo; oraz
Hungarian: Plazmadúsításos vagy plazmasegítéses CVD; és
Slovenian: za CVD ob vzbujanju ali pomoči plazme; in
Estonian: plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD ja
Latvian: ar plazmu ierosinātu vai papildinātu CVD; un
Lithuanian: Plazma sustiprintam ar plazma skatinamam cheminiam garų nusodinimui; ir
English: Any of the following: a. Incorporating high vacuum (equal to or less than 0.01 Pa) rotating seals; or
Czech: plazmou prováděná nebo podporovaná chemická depozice v parní fázi a
English: Incorporating in situ coating thickness control;
French: dispositif de commande de l'épaisseur du revêtement in situ;
German: mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage;
Spanish: Control del espesor del revestimiento in situ;
Italian: comprendenti un controllo di spessore dello strato in situ;
Portuguese: Controlo in situ da espessura do revestimento;
Dutch: omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;
Danish: Omfattende in situ-styring af belægningstykkelsen;
Swedish: innehåller fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.
Finnish: Sisältävät prosessin aikaisen kerrospaksuuden säädön;
Greek: Φέρει ενσωματωμένο σύστημα ελέγχου του πάχους του επιχρίσματος επιτόπου
Czech: obsahuje řízení tloušťky povlaku in situ;
Slovak: s použitím riadenia hrúbky povlaku in situ;
Polish: Zawierający wbudowane urządzenia do regulowania grubości powłoki;
Hungarian: In situ bevonatvastagság-ellenőrzést alkalmaz;
Slovenian: ima vgrajen nadzor nad debelino prevleke izdekov;
Estonian: protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust reaalajas (in situ);
Latvian: pārklājuma biezuma kontroli uz vietas;
Lithuanian: Naudojama dangos storio kontrolė gamybos metu;
English: Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
French: équipements de production pour l'implantation ionique, ayant des courants du faisceau de 5 mA ou plus;
German: Herstellungsausrüstung für die Ionenimplantation mit Strahlströmen größer/gleich 5 mA;
Spanish: Equipos de "producción" para la implantación iónica que posean corrientes de haz iguales o superiores a 5 mA;
Italian: apparecchiature di produzione con processo di impiantazione ionica con correnti di fascio uguali o superiori a 5 mA;
Portuguese: Equipamentos de produção para implantação iónica, com feixes de intensidade de corrente igual ou superior a 5 mA;
Dutch: Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger;
Danish: Ionimplanteringsproduktionsudstyr med strålestrømme på mindst 5 mA;
Swedish: Produktionsutrustning för jonimplantation som kan leverera 5 mA eller mera i jonstrålen.
Finnish: Ioni-istutustuotantolaitteet, joiden ionisuihkun virta on 5 mA tai enemmän;
Greek: Εξοπλισμός παραγωγής για εμφύτευση ιόντων, με ένταση ρεύματος δέσμης 5 mA ή μεγαλύτερη.
Czech: obsahuje řízení tloušťky povlaku in situ; b. výrobní zařízení pro iontovou implantaci, které pracuje se svazkem proudů 5 mA nebo více;
Polish: Sprzęt produkcyjny do implantacji jonów o natężeniu wiązki 5 mA lub większym;
Hungarian: Ionimplantációs gyártóberendezés, amelynek sugárárama 5 mA, vagy nagyobb;
Slovenian: proizvodna oprema za ionsko nanašanje s tokovnimi sunki 5 mA ali več;
Estonian: ioonlegeerimisseadmed, milles ioonivoo vool on 5 mA või rohkem;
Latvian: jonu implantācijas ražošanas iekārtas, kam staru plūsma ir 5 mA vai vairāk;
Lithuanian: Jonų implantavimo gamybos įranga su 5 mA ar didesne pluošto srove;
English: A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
French: un système de commande à "laser" du niveau du bain liquide, qui règle avec précision la vitesse d'avance du lingot; ou
German: mit eingebautem "Laser"-Regelsystem für den Stand des Flüssigkeitsbads, das die Zufuhrgeschwindigkeit des Schichtwerkstoffs genau regelt oder
Spanish: Sistema de control "láser" del nivel del baño líquido que regule con precisión la velocidad de avance de los lingotes; o
Italian: un sistema di controllo a "laser" del livello del pozzetto liquido per regolare in modo preciso il ritmo di ingresso dei lingotti o
Portuguese: Um sistema de controlo por laser do nível do banho líquido que regule com precisão a velocidade de avanço dos lingotes; ou
Dutch: een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of
Danish: Et "laser"-styresystem til det flydende bads niveau, som nøjagtigt regulerer tilførselshastigheden af barrer; eller
Swedish: Vätskenivåkontroll med hjälp av ett "laser"-assisterat mätsystem som med precision kan styra inmatningen av götet, eller
Finnish: Nestelähteen pinnan "laser"säätöjärjestelmä, joka tarkasti ohjaa tankojen syöttönopeutta; tai
Greek: Σύστημα ελέγχου στάθμης υγρού με "λέιζερ", το οποίο ρυθμίζει με ακρίβεια την ταχύτητα προώσεως των τύπων, ή
Czech: "laserový" systém řídící výšku hladiny v jímce, který přesně reguluje rychlost podávání ingotů nebo
Slovak: systém riadenia hladiny kvapaliny v nádrži "laserom", ktorý presne reguluje rýchlosť posuvu ingotov; alebo
Polish: "Laserowy" system regulacji poziomu cieczy, umożliwiający precyzyjne sterowanie podawaniem materiału wsadowego; lub
Hungarian: "Lézeres" folyadékszint-ellenőrző berendezés, amely pontosan szabályozza a tömbelőtolási sebességet; vagy
Slovenian: sistem z "lasersko" krmiljenim nivojem napajanja ingotov; ali
Estonian: vannis vedelikutaseme laserkontrollisüsteem, mis reguleerib täpselt kangide söötmiskiirust, või
Latvian: šķidruma tvertnes līmeņa "lāzera" kontroles sistēma, ar ko precīzi regulē liešanas ātrumu; vai
Lithuanian: Skysčio lygio vonioje lazerinę kontrolės sistemą, kuri tiksliai reguliuoja luitų padavimo greitį; arba
English: Plasma spraying production equipment having any of the following characteristics:
French: équipements de production pour la pulvérisation de plasma, présentant l'une des caractéristiques suivantes:
German: Herstellungsausrüstung für das Plasmaspritzen mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos de "producción" para la pulverización de plasma que posean cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature di produzione con processo di polverizzazione per mezzo di plasma aventi una delle caratteristiche seguenti:
Portuguese: Equipamentos de produção para pulverização por plasma, com uma das seguintes características:
Dutch: Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van beide volgende kenmerken:
Danish: Plasmasprøjtningsproduktionsudstyr med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Produktionsutrustning för plasmasprutning som har någon av följande egenskaper:
Finnish: Plasmaruiskutustuotantolaitteet, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
Greek: Εξοπλισμός παραγωγής για ψεκασμό πλάσματος, ο οποίος έχει ένα από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Czech: výrobní zařízení pro plazmové stříkání, které má některou z těchto vlastností:
Slovak: Výrobné zariadenie na plazmové rozprašovanie, ktoré má niektorú z týchto vlastností:
Polish: Sprzęt produkcyjny do napylania plazmowego posiadający jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
Hungarian: Plazmaszórásos gyártóberendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:
Slovenian: proizvodna oprema za razprševanje plazme, ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Estonian: plasmapihustusseadmed, millel on järgmised omadused:
Latvian: rūpnieciskās pārklāšanas iekārtas ar plazmas izsmidzināšanu, kam piemīt kāda no šīm īpašībām:
Lithuanian: Plazminio pulverizavimo gamybos įranga, turinti kurią nors iš išvardytų charakteristikų:
English: Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
French: équipements de production pour le dépôt par pulvérisation cathodique pouvant avoir des densités de courant égales ou supérieures à 0,1 mA/mm2 à une vitesse de dépôt égale ou supérieure à 15 μm/heure;
German: Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h;
Spanish: Equipos de "producción" para el depósito por pulverización catódica capaces de producir densidades de corriente iguales o superiores a 0,1 mA/mm2 a una velocidad de depósito igual o superior a 15 micras/h;
Italian: apparecchiature di produzione con processo di deposizione per polverizzazione catodica in grado di sopportare densità di corrente uguali o superiori a 0,1 mA/mm2 con velocità di deposizione uguale o superiore a 15 μm/h;
Portuguese: Equipamentos de produção para deposição por pulverização catódica, com capacidade para densidades de corrente iguais ou superiores a 0,1 mA/mm2, para velocidades de deposição iguais ou superiores a 15 μm/hora;
Dutch: Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;
Danish: Sputter belægningsproduktionsudstyr, der kan operere med strømtætheder på mindst 0,1 mA/mm2 ved en belægningshastighed på mindst 15 μm/h;
Swedish: Produktionsutrustning för sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/h.
Finnish: Sputterointituotantolaitteet, joiden virtatiheys voi olla 0,1 mA/mm2 tai suurempi, kun pinnoitusnopeus on 15 μm tunnissa tai suurempi;
Greek: Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση με καθοδική διασκόρπιση, ικανός να επιτυγχάνει πυκνότητα ρεύματος 0,1 mA/mm2 ή υψηλότερη, με ταχύτητα εναπόθεσης 15 μικρόμετρα/ώρα ή υψηλότερη, στ.
Czech: výrobní zařízení pro depozici naprašováním, které je schopné dosáhnout proudových hustot 0,1 mA/ mm2 nebo vyšších při nanášecích rychlostech 15 μm/h nebo vyšších;
Slovak: Výrobné zariadenie na vylučovanie naprašovaním schopné dosiahnuť prúdovú hustotu najmenej 0,1 mA/mm2 pri rýchlosti vylučovania najmenej 15 μm za hodinu;
Polish: Sprzęt produkcyjny do napylania jonowego zdolny do osiągania prądu o gęstości 0,1 mA/mm2 lub większej przy wydajności napylania 15 μm/h lub wyższej;
Hungarian: Katódporlasztásos gyártóberendezés, amely 15 μm/óra, vagy nagyobb rétegépülési sebességnél képes 0,1 mA/mm2 vagy nagyobb áramsűrűség létesítésére;
Slovenian: proizvodna oprema za nanašanje z brizganjem (sputter), ki je zmožna tokovne gostote 0,1 mA/mm2 ali več pri stopnji nanašanja 15 μm/h ali več;
Estonian: atomisatsioonsadestusseadmed, mis võimaldavad voolutihedust 0,1 mA/mm2 või rohkem sadestuskiirusel 15 μm/h või rohkem;
Latvian: izsmidzināšanas iekārtas ar strāvas blīvumu 0,1 mA/mm2 vai vairāk pie nogulsnēšanas ātruma 15 μm/h vai vairāk;
Lithuanian: Nusodinimo dulkinimo būdu gamybos įranga, kurios srovės tankis 0,1 mA/mm2 ar didesnis, kai nusodinimo sparta 15 μm/val. ar didesnė;