English: Physics-based simulation "software" specially designed for the "development" of lithographic, etching or deposition processes for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor materials.
French: "Logiciel" de simulation basé sur la physique, spécialement conçu pour le "développement" de procédés de lithographie, de gravure et de dépôt pour transformer des figures de masque en figures topographiques spécifiques dans les conducteurs, les diélectriques ou les matériaux semi-conducteurs.
German: 'Physik-basierende' (physics-based) Simulations"software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" von lithografischen, Ätz- oder Abscheidungsprozessen für das Übertragen von Maskenmustern in spezifische topografische Muster von Leiterbahnen, dielektrischen oder Halbleitermaterialien.
Spanish: "Equipo lógico" («software») de simulación 'basado en las leyes de la física' y diseñado especialmente para el "desarrollo" de procesos litográficos, de grabado o depósito destinados a transformar patrones de enmascaramiento en patrones topográficos específicos en los materiales conductores, dieléctricos o semiconductores.
Italian: "Software" di simulazione basato sulla fisica appositamente progettato per lo "sviluppo" di processi di litografia, di attacco o di deposizione per trasformare dei tracciati di maschere in specifici tracciati topografici nei materiali conduttori, dielettrici o semiconduttori.
Dutch: Op fysische elementen gebaseerde simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de "ontwikkeling" van lithografische, ets- of opdampingsprocédés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen.
Danish: Fysikbaseret simultations-"software", der er specielt beregnet til "udvikling" af litografiske, ætsnings- eller udfældningsprocesser til overføring af maskemønstre til specifikke topografiske mønstre i ledere, dielektrika eller halvledere.
Swedish: "Fysikbaserad" simulerings"programvara" speciellt konstruerad för "utveckling" av litografiska, etsnings- eller uppbyggnads (depositions) -processen så att maskvärdena omvandlas till specifika typografiska mönster i de olika ledar , dielektriska eller halvledarlagren.
Finnish: Fysiikkapohjaiset simulaatio-"ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu sellaisten litografia-, syövytys- ja pinnoitusprosessien "kehittämiseen", jotka muuntavat maskin kuviot erityisiksi topografisiksi johtimien, eristeiden ja puolijohdemateriaalien kuvioiksi.
Greek: "Λογισμικό" προσομοίωσης, βασισμένο στη φυσική, ειδικά σχεδιασμένο για την "ανάπτυξη" διεργασιών λιθογραφίας, χάραξης ή εναπόθεσης προκειμένου τα σχήματα μάσκας να μεταφράζονται σε επί μέρους τοπογραφικά σχήματα με αγωγούς, διηλεκτρικά ή υλικά ημιαγωγών.
Czech: SW založený na fyzikální simulaci speciálně navržený pro "vývoj" litografických, leptacích anebo vylužovacích procesů na překládání maskovacích obrazů do speciálních topografických obrazců ve vodičích, dielektrikách nebo polovodičových materiálech.
Slovak: "Softvér" založený na fyzikálnej simulácii osobitne navrhnutý na "vývoj" litografických, leptacích alebo vylučovacích procesov na prekladanie maskovacích obrazcov do osobitných topografických obrazcov vo vodičoch, dielektrikách alebo v polovodičových materiáloch.
Polish: "Oprogramowanie" symulacyjne, bazujące na fizyce, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" litografii, wytrawiania lub procesów osadzania w celu przekształcenia maskujących kształtów w konkretną topografię obszarów przewodzących, dielektrycznych lub półprzewodnikowych.
Hungarian: Olyan, fizikán alapuló szimulációs "szoftver", amelyet kifejezetten olyan litográfiai, maratási vagy leválasztási folyamatok "fejlesztésére" terveztek, amelyek segítségével a maszkmintákat a vezetőkön, a dielektrikumokon vagy a félvezető anyagon megjelenő specifikus topográfiai mintákká fordítják le.
Slovenian: Na fiziki temelječa simulacijska programska oprema, posebej napisana za "razvoj" postopkov litografije, jedkanja in nanašanja pri prevajanju maskirnih vzorcev v specifične topografske vzorce v vodniških, dielektričnih ali polprevodniških materialih.
Estonian: Füüsikalistel alustel põhinev simulatsioonitarkvara, mis on ette nähtud litograafia-, söövitus- või pinnakatmisprotsesside arendamiseks maskide struktuuri üleviimisel spetsiifiliseks juhtide, dielektrikute või pooljuhtide topograafiliseks struktuuriks.
Latvian: Uz fizisku īpašību pamata izveidota imitācijas "programmatūra", kas ir īpaši paredzēta tādu litogrāfisko, kodināšanas un uzklāšanas procesu "izstrādāšanai", ar kuriem pārveido masku trafaretus specifiskās topogrāfiskās struktūrās uz strāvas vadītāja materiāla, dielektriķa vai pusvadītāja materiāla virsmas.
Lithuanian: Fizinio pagrindo modeliavimo "programa", specialiai sukurta litografijos, ėsdinimo ar padengimo procesams "kurti", kaukių paveikslus paverčiant savitais topografiniais paveikslais laidininkuose, dielektrikuose ar puslaidininkiuose.