English: "Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
French: équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt par pulvérisation cathodique pouvant avoir des densités de courant égales ou supérieures à 0,1 mA/mm2 à une vitesse de dépôt égale ou supérieure à 15 μm/heure;
German: "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h;
Spanish: Equipos de "producción""controlados por programa almacenado" para el depósito por pulverización catódica capaces de producir densidades de corriente iguales o superiores a 0,1 mA/mm2 a una velocidad de depósito igual o superior a 15 micras/h;
Italian: apparecchiature di produzione con processo di deposizione per polverizzazione catodica con "controllo a programma registrato" in grado di sopportare densità di corrente uguali o superiori a 0,1 mA/mm2 con velocità di deposizione uguale o superiore a 15 μm/h;
Portuguese: Equipamentos de produção com "controlo por programa residente" para deposição por pulverização catódica, com capacidade para densidades de corrente iguais ou superiores a 0,1 mA/mm2, para velocidades de deposição iguais ou superiores a 15 μm/hora;
Dutch: "met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;
Danish: "Programstyret" sputter-belægningsproduktionsudstyr, der kan operere med strømtætheder på mindst 0,1 mA/mm2 ved en belægningshastighed på mindst 15 μm/h.
Swedish: Produktionsutrustning för "datorstyrd" sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/tim.
Finnish: "Ohjelmallisesti ohjatut" sputterointituotantolaitteet, joiden virtatiheys voi olla 0,1 mA/mm2 tai suurempi, kun pinnoitusnopeus on 15 μm tunnissa tai suurempi;
Greek: Εξοπλισμός παραγωγής με "έλεγχο μέσω αποθηκευμένου προγράμματος" για εναπόθεση με καθοδική διασκόρπιση, ικανός να επιτυγχάνει πυκνότητα ρεύματος 0,1 mA/mm2 ή υψηλότερη, με ταχύτητα εναπόθεσης 15 μικρόμετρα/ώρα ή υψηλότερη, στ.
Czech: výrobní zařízení "řízené uloženým programem" pro depozici naprašováním, které je schopné dosáhnout proudových hustot 0,1 mA/mm2 nebo vyšších při nanášecích rychlostech 15 μm/h nebo vyšších;
Slovak: Výrobné zariadenie na vylučovanie naprašovaním "riadené programom uloženým v pamäti"schopné dosiahnuť prúdovú hustotu najmenej 0,1 mA/mm2 pri rýchlosti vylučovania najmenej 15 mm za hodinu;
Polish: Sprzęt produkcyjny do napylania jonowego ze "sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" zdolny do osiągania prądu o gęstości 0,1 mA/mm2 lub większej przy wydajności napylania 15 μm/h lub wyższej;
Hungarian: "Tárolt programvezérlésű" katódporlasztásos gyártóberendezés, amely 15 μm/óra, vagy nagyobb rétegépülési sebességnél képes 0,1 mA/mm2 vagy nagyobb áramsűrűség létesítésére;
Slovenian: "kontrolirana oprema" za nanašanje z brizganjem, ki je zmožna tokovne gostote 0,1 mA/mm2 ali več pri stopnji nanašanja 15 μm/h ali več;
Estonian: programmeeritavad atomisatsioonsadestusseadmed, mis võimaldavad voolutihedust 0,1 mA/mm2 või rohkem sadestuskiirusel 15 μm/h või rohkem;
Latvian: "Ierakstītas programmas vadītas" izsmidzināšanas iekārtas ar strāvas blīvumu 0,1 mA/mm2 vai vairāk pie nogulsnēšanas ātruma 15 μm/h vai vairāk;
Lithuanian: "Programinio valdymo" nusodinimo dulkinimo būdu gamybos įranga, kurios srovės tankis 0,1 mA/mm2 ar didesnis, kai nusodinimo sparta 15 μm/val. ar didesnė;