FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: A layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
French: une couche de tout matériau autre que le silicium d'épaisseur uniforme avec une précision de ± 2,5 % sur une distance de 75 mm ou plus;
German: einer Schicht aus einem anderen Material als Silizium mit einer gleichmäßigen Schichtdicke mit weniger als ± 2,5 % Abweichung auf einer Strecke von größer/gleich 75 mm,
Spanish: Una capa de cualquier material distinto al silicio con espesor uniforme con una precisión de ± 2,5 % sobre una distancia igual o superior a 75 mm;
Italian: uno strato di qualsiasi materiale diverso dal silicio con unformità di spessore entro ± 2,5 % lungo una distanza di 75 mm o più;
Portuguese: uma camada de qualquer material, com excepção do silício, de espessura uniforme, com uma tolerância inferior a ± 2,5 % numa extensão igual ou superior a 75 mm ou plus;
Dutch: een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer;
Danish: Et lag af andet materiale end silicium med en lagtykkelse, der er ensartet til mindre end ± 2,5 % over en længde på mindst 75 mm
Swedish: Ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ± 2,5 % över en sträcka av minst 75 mm.
Finnish: Vähintään 75 mm:n matkalla kerroksen muuta materiaalia kuin silikonia ja kerrospaksuuden vaihtelu on alle ± 2,5 %;
Greek: στρώμα οποιουδήποτε άλλου υλικού πλην πυριτίου ομοιογενούς πάχους με διαφορά λιγότερη από ± 2,5 % σε απόσταση 75 mm ή παραπάνω.
Czech: schopná produkovat vrstvy s rovnoměrností tloušťky méně než ± 2,5 % v rozsahu vzdálenosti 75 mm nebo více;
Slovak: vrstvu z iného ako silikónového materiálu s homogénnou hrúbkou v rozmedzí menšom ako ± 2,5 % na vzdialenosť najmenej 75 mm alebo viac;
Polish: Powłok z materiałów różnych od krzemu o równomiernej grubości, wykonanych z dokładnością poniżej ± 2,5 % na odcinku o długości 75 mm lub większym;
Hungarian: Minimum 75 mm-es távolságon +2,5 %-nál jobb tűrésű, bármilyen, a szilikontól eltérő anyag rétegvastagság előállítására képes berendezés;
Slovenian: plasti katerega koli materiala razen silicija enakomerne debeline do manj kakor ± 2,5 % na razdalji 75 mm ali več;
Estonian: ühtlast muu materjali kihti, kui räni, 75 mm või pikemal vahemikul, mille ebaühtlus on väiksem kui ± 2,5 %;
Latvian: mazāk nekā ±2,5 % viendabīga biezuma tāda materiāla slāni, kas nav silīcijs, 75 mm vai lielākā attālumā;
Lithuanian: Vienodo storio bet kurios kitos medžiagos, išskyrus silicį, sluoksnį, kai ne mažesnis kaip 75 mm ilgis turi storio nuokrypį, mažesnį kaip ± 2,5 %;
English: Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
French: équipement de croissance épitaxiale à jet moléculaire utilisant des sources gazeuses ou solides;
German: Molekularstrahlepitaxie-Ausrüstung, die Gas- oder Feststoff-Quellen verwendet;
Spanish: Equipos de crecimiento epitaxial de haz molecular que utilicen fuentes sólidas o gaseosas.
Italian: apparecchiature di crescita epitassiale a fascio molecolare che utilizzano sorgenti gassose o solide;
Portuguese: Equipamentos de crescimento epitaxial através de feixe molecular que utilizem fontes de gás ou sólidos.
Dutch: apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen;
Danish: Udstyr til epitaksial vækst med molekylestråle ved brug af gas- eller faststofkilder.
Swedish: Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor.
Finnish: Molekyylisuihku-epitaksikasvatuslaitteet, jotka käyttävät kaasu- tai kiinteitä lähteitä;
Greek: Εξοπλισμός επιταξιακής ανάπτυξης μέσω μοριακής δέσμης ο οποίος χρησιμοποιεί αέριες ή στερεές πηγές.
Czech: zařízení pro epitaxiální růst s molekulárním svazkem při použití plynných nebo pevných zdrojů;
Slovak: zariadenie na epitaxiálny rast pomocou molekulového lúča s použitím plynných alebo tuhých zdrojov.
Polish: Sprzęt wykorzystujący wiązkę molekularną do wytwarzania warstw epitaksjalnych z surowca gazowego lub stałego.
Hungarian: Gáz vagy szilárd forrásokat alkalmazó molekuláris sugár epitaxiális növesztő berendezés;
Slovenian: oprema za epitaksijsko rast z molekularnim snopom, ki uporablja plinske ali trdne vire.
Estonian: molekulaarkimp-epitakskasvatamise seadmed milles kasutatakse gaasilisi või tahkeid allikaid;
Latvian: molekulārā staru kūļa epitaksiālās audzēšanas iekārtas, kurās izmanto gāzveida vai cietos avotus;
Lithuanian: Molekulpluoščio epitaksinio auginimo įranga, turinti dujinius ar kietojo kūno šaltinius;
English: Equipment designed for ion implantation, having any of the following:
French: équipements conçus pour l'implantation ionique et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
German: Ausrüstung, konstruiert für Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos diseñados para la implantación iónica, que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature progettate per l'impiantazione ionica, aventi una delle caratteristiche seguenti:
Portuguese: Equipamentos concebidos para implantação iónica com uma das seguintes características:
Dutch: Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende kenmerken:
Danish: Udstyr konstrueret til ionimplantering med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Utrustning för jonimplantation som har någon av följande egenskaper:
Finnish: Laitteet, jotka on suunniteltu ioni-istutusta varten ja joilla on jokin seuraavista:
Greek: β Εξοπλισμός σχεδιασμένος για εμφύτευση ιόντων και έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Czech: zařízení "řízená uloženým programem" konstruovaná pro iontovou implantaci, která mají některou z dále uvedených charakteristik:
Slovak: Zariadenia navrhnuté na implantáciu iónov vyznačujúce sa niektorou z týchto charakteristík:
Polish: Sprzęt zaprojektowany do implantacji jonów, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
Hungarian: Ionbeültetésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:
Slovenian: oprema, izdelana za implantacijo ionov, ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Estonian: ioonlegeerimisseadmed, millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: iekārtas, kas paredzētas jonu implantācijai un kam ir kāds no šiem raksturlielumiem:
Lithuanian: Jonų implantacijos įranga, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:
English: A beam energy (accelerating voltage) exceeding 1 MeV;
French: énergie de faisceau (tension d'accélération) de plus de 1 MeV;
German: Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) größer als 1 MeV,
Spanish: Una energía del haz (tensión de aceleración) superior a 1 MeV;
Italian: energia del fascio (tensione di accelerazione) superiore a 1 MeV;
Portuguese: Energia do feixe (tensão de aceleração) superior a 1 MeV;
Dutch: een stralingsenergie (versnellingsspanning) van meer dan 1 MeV;
Danish: En stråleenergi (accelerationsspænding) på mere end 1 MeV
Swedish: En strålenergi (accelerationsspänning) som överstiger 1 MeV,
Finnish: Säteen energia (kiihdytysjännite) ylittää 1 MeV;
Greek: Ενέργεια δέσμης (τάση επιτάχυνσης) ανώτερη από 1 MeV,
Czech: energie paprsku (urychlující napětí) větší než 1 MeV;
Slovak: energia lúča (urýchľovacie napätie) vyššia ako 1 MeV;
Polish: Energię wiązki (napięcie przyspieszające) powyżej 1 MeV;
Hungarian: A sugárnyaláb energia (a gyorsítófeszültség) meghaladja az 1 MeV-ot;
Slovenian: energijo žarka (napetost pospeševanja) več kakor 1 MeV;
Estonian: kimbu energia (kiirenduspinge) on üle 1 MeV;
Latvian: staru kūļa enerģija (paātrināšanas spriegums) pārsniedz 1 MeV;
Lithuanian: Pluošto energiją (greitinimo įtampą), viršijančią 1 MeV;
English: Being specially designed and optimised to operate at a beam energy (accelerating voltage) of less than 2 keV;
French: spécialement conçus et optimisés pour fonctionner à une énergie de faisceau (tension d'accélération) de moins de 2 keV;
German: besonders konstruiert und optimiert, um bei einer Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) kleiner als 2 keV zu arbeiten,
Spanish: Diseñados especialmente y optimizados para funcionar a una energía del haz (tensión de aceleración) inferior a 2 keV;
Italian: appositamente progettate ed ottimizzate per funzionare con una energia del fascio (tensione di accelerazione) inferiore a 2 keV;
Portuguese: Especialmente concebidos e optimizados para funcionar com uma energia do feixe (tensão de aceleração) inferior a 2 keV;
Dutch: speciaal ontworpen voor optimale werking met een stralingsenergie (versnellingsspanning) van minder dan 2 keV;
Danish: Specielt konstrueret og optimeret til drift ved en stråleenergi (accelerationsspænding) på mindre end 2 keV
Swedish: är speciellt konstruerad för att optimalt kunna arbeta vid en strålenergi (accelerationsspänning) som är mindre än 2 keV,
Finnish: Ne on erityisesti suunniteltu ja optimoitu toimimaan pienemmällä kuin 2 keV:n säteen energialla (kiihdytysjännitteellä);
Greek: Ειδικό σχεδιασμό και βελτιστοποίηση για να λειτουργεί με ενέργεια δέσμης (τάση επιτάχυνσης) λιγότερη από 2 keV,
Czech: jsou speciálně konstruovaná a optimalizovaná pro provoz při urychlujícím napětí menším než 2 keV;
Slovak: sú zvlášť navrhnuté a optimalizované tak, aby pracovali s energiou lúča (urýchľovacím napätím) menej ako 2 keV;
Polish: Specjalne zaprojektowany i optymalizowany do działania z energią wiązki (napięciem przyspieszającym) mniejszą niż 2 keV;
Hungarian: 2 keV-nál alacsonyabb sugárnyaláb energiára (gyorsítófeszültségre) tervezett és e szinten történő működésre optimalizált berendezés;
Slovenian: izdelana in prirejena je za delovanje pri energiji žarka (napetosti pospeševanja) manj kakor 2 keV;
Estonian: spetsiaalselt ette nähtud ja optimeeritud töötamaks kimbu energial (kiirenduspingel), mis on väiksem kui 2 keV;
Latvian: īpaši paredzētas un optimizētas darbam pie staru kūļa enerģijas (paātrinošā sprieguma), kas mazāka par 2 keV;
Lithuanian: Specialiai sukonstruota ir optimizuota veikti, kai pluošto energija (greitinimo įtampa) yra mažesnė kaip 2 keV;
English: Direct write capability; or
French: capacité d'écriture directe; ou
German: mit Direktschreibbetrieb oder
Spanish: Capacidad de escritura directa; o
Italian: capacità di scrittura diretta o
Portuguese: Capacidade de escrita directa; ou
Dutch: geschikt voor direct schrijven; of
Danish: Direkte skrivekapacitet eller
Swedish: har direkt skrivmöjlighet, eller
Finnish: Mahdollistavat kuvion suoran istutuksen; tai
Greek: Δυνατότητα απ’ ευθείας εγγραφής, ή
Czech: jsou schopná přímého zápisu; nebo
Slovak: schopnosť priameho zápisu; alebo
Polish: Zdolność bezpośredniego zapisu; lub
Hungarian: Közvetlen írási lehetőség; vagy
Slovenian: zmožnost neposrednega zapisa; ali
Estonian: otsekirje võimega; või
Latvian: ir tiešā ieraksta iespējas; vai
Lithuanian: Galinti tiesiogiai įrašyti; arba
English: Anisotropic plasma dry etching equipment, as follows:
French: équipements pour l'élimination par des méthodes sèches anisotropiques par plasma, comme suit:
German: Ausrüstung zum anisotropen Trockenätzen im Plasma wie folgt:
Spanish: Equipos para el grabado, por plasma anisotrópico en seco, según se indica:
Italian: apparecchiature di incisione con metodi a secco anisotropi a plasma, come segue:
Portuguese: Equipamentos de erosão seca através de plasma anisotrópico:
Dutch: Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), als hieronder:
Danish: Anisotropisk plasma-tørætsningsudstyr som følger:
Swedish: Utrustning för torr anisotropisk plasmaetsning där:
Finnish: Seuraavat anisotrooppiset plasmakuivasyövytyslaitteet:
Greek: Εξοπλισμός για ξερή χάραξη μέσω ανισότροπου πλάσματος, ως εξής:
Czech: Zařízení na suché leptání anizotropní plazmou:
Slovak: Zariadenia na suché leptanie anizotropnou plazmou:
Polish: Sprzęt do suchego trawienia za pomocą plazmy anizotropowej, taki jak:
Hungarian: Anizotróp plazma száraz-marató berendezés, ideértve a következőket:
Slovenian: oprema za suho jedkanje z uporabo anizotropske plazme:
Estonian: anisotroopsed plasmakuivsöövitusseadmed:
Latvian: iekārtas sausai izkodināšanai ar anizotropo plazmu, tas ir:
Lithuanian: Anizotropinio plazminio sausojo ėsdinimo įranga, išvardyta toliau:
English: Equipment with cassette-to-cassette operation and load-locks, and having any of the following:
French: équipement à fonctionnement cassette à cassette et à sas, et présentant l'une des deux caractéristiques suivantes:
German: Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen und mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos con funcionamiento cassette-a-cassette y bloqueos de carga, y que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature con funzionamento da cassetta a cassetta e a camera di trasferimento ed aventi una delle caratteristiche seguenti:
Dutch: met een «cassette-to-cassette» en «load-lock»-«wafer»transportsysteem en met een van beide volgende kenmerken:
Danish: Udstyr med kassette-til-kassette-operation og indføringssluser og med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Utrustningen arbetar med kassett-till-kassettmatning och slussöppning, och som har någon av följande egenskaper:
Finnish: Laitteet, joissa on kasetista-kasettiin toiminta ja syöttökammiot ja joissa on jokin seuraavista:
Greek: Εξοπλισμός με λειτουργία από κασέτα προς κασέτα και κλείδωμα φορτίου, και που έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
Czech: zařízení s provozem kazeta – kazeta a uzávěry náplně (load-locks), která mají některou z dále uvedených charakteristik:
Slovak: zariadenia fungujúce systémom z kazety do kazety a s blokovacími zariadeniami, vyznačujúce sa niektorou z týchto charakteristík:
Polish: Sprzęt typu kaseta-kaseta oraz load-lock, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
Hungarian: Kazettáról kazettára történő működéssel és betöltés-zárral rendelkező berendezés, amely rendelkezik a következő jellemzők bármelyikével:
Slovenian: oprema, delujoča na način "od kasete do kasete" in z uravnavanjem obremenitve, in ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Estonian: seadmed kassetist-kassetti tüüpi toimimisviisi ning täitelüüsidega, millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: iekārtas ar kasešu nomaiņu un ielādes slūžām, un kam piemīt kāda no šīm īpašībām:
Lithuanian: Įranga su kasečių perkrovimo įtaisu ir įkrovos fiksatoriais, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:
English: Designed or optimised to produce critical dimensions of 0,3 μm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or
French: conçu ou optimisé pour produire des dimensions critiques de 0,3 μm ou moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %; ou
German: entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder
Spanish: Diseñados u optimizados para producir unas dimensiones críticas iguales o inferiores a 0,3 micras, con una precisión 3 sigma de ± 5 %; o
Italian: progettate o ottimizzate per produrre dimensioni critiche uguali o inferiori a 0,3 μm con una precisione pari a ± 5 % (3 sigma) o
Dutch: ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 0,3 micrometer of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of
Danish: Konstrueret eller optimeret til at nå op på kritiske dimensioner på 0,3 μm eller derunder med en præcision på ± 5 % forhold til 3 sigma eller
Swedish: Den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 0,3 μm eller mindre med ± 5 % 3 sigmaprecision, eller
Finnish: Ne on suunniteltu tai optimoitu tuottamaan minimiviivanleveyden, joka on 0,3 μm tai vähemmän ± 5 % 3 sigman tarkkuudella); tai
Greek: Σχεδιασμένος ή βελτιστοποιημένος για να παράγει κρίσιμες διαστάσεις 0,3 μm ή μικρότερες, με ακρίβεια 3 σ ± 5 % ή
Czech: jsou konstruovaná nebo optimalizovaná pro tvorbu kritických rozměrů 0,3 μm nebo méně s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo
Slovak: navrhnuté alebo optimalizované na tvorbu kritického rozmeru najviac 0,3 μm s presnosťou 3 sigma ± 5 %; alebo
Polish: Zaprojektowany lub optymalizowany do produkcji z wymiarem krytycznym 0,3 μm lub mniejszym, z dokładnością 3 sigma ± 5 %; lub
Hungarian: Úgy tervezték vagy optimalizálták, hogy ± 5 % 3 szigma precizitás mellett állítson elő 0,3 μm vagy kisebb kritikus méreteket; vagy
Slovenian: je izdelana ali prirejena za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma; ali
Estonian: kavandatud või optimeeritud saavutama kriitilist mõõtu 0,3 μm või vähem ± 5 % 3sigmalise täpsusega; või
Latvian: tās ir konstruētas vai optimizētas, lai iegūtu kritiskos izmērus 0,3 μm vai mazākus, ar ±5 % 3 sigma precizitāti; vai
Lithuanian: Sukurta ar optimizuota pasiekti kritinius matmenis, lygius 0,3 μm ar mažesnius, su ± 5 % 3 sigma tikslumu; arba
English: Designed for generating less than 0,04 particles/cm2 with a measurable particle size greater than 0,1 μm in diameter;
French: conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2 avec une dimension de particule mesurable supérieure à 0,1 μm en diamètre;
German: entwickelt, um eine Partikeldichte von weniger als 0,04 Partikel/cm2 mit einem messbaren Partikeldurchmesser größer als 0,1 μm zu verursachen,
Spanish: Diseñados para generar menos de 0,04 partículas/cm2, con un tamaño mensurable de las partículas mayor a 0,1 micra de diámetro;
Italian: progettate per generare meno di 0,04 particelle/cm2 con dimensione delle particelle misurabile avente diametro maggiore di 0,1 μm;
Dutch: ontworpen voor het voortbrengen van minder dan 0,04 deeltjes/cm2 met een meetbare deeltjesgrootte van meer dan 0,1 micrometer in doorsnede;
Danish: Konstrueret til at udvikle færre end 0,04 partikler/cm2 med en målelig partikelstørrelse på mere end 0,1 μm i diameter.
Swedish: den är speciellt konstruerad för att generera mindre än 0,04 partiklar/cm2 med en mätbar partikelstorlek som är större än 0,1 μm i diameter.
Finnish: Ne on suunniteltu kehittämään cm2:ä kohden vähemmän kuin 0,04 partikkelia, joiden mitattavissa oleva koko on halkaisijaltaan suurempi kuin 0,1 μm;
Greek: Σχεδιασμένος για να παράγει λιγότερα από 0,04 σωματίδια/cm2 με μετρήσιμη διάμετρο σωματιδίου άνω του 0,1 μm.
Czech: jsou konstruovaná pro generování méně než 0,04 částic/cm2 s měřitelnou velikostí částic větší než 0,1 μm v průměru;
Slovak: navrhnuté na generovanie menej ako 0,04 častice/cm2 pri merateľnej veľkosti častíc s priemerom viac ako 0,1 μm;
Polish: Zaprojektowany do wytwarzania mniej niż 0,04 cząsteczek/cm2 z mierzalną wielkością cząsteczki większą niż 0,1 μm w średnicy;
Hungarian: Úgy tervezték, hogy 0,1 μm-nél nagyobb átmérőjű mérhető részecskemérettel állítson elő nagyobb 0,04 részecske/cm2-nél alacsonyabb értéket;
Slovenian: je izdelana za generiranje manj kakor 0,04 delcev/cm2 z izmerljivo velikostjo delcev, večjih od 0,1 μm v premeru;
Estonian: kavandatud tekitama vähem kui 0,04 osakest/cm2, mille mõõdetav osakese diameeter on suurem kui 0,1 μm;
Latvian: paredzētas mazāk nekā 0,04 tādu daļiņu ģenerēšanai uz cm2, kuru izmērs pārsniedz 0,1 μm diametrā;
Lithuanian: Sukurta generuoti mažiau nei 0,04 dalelių/cm2, kai išmatuojamų dalelių matmenys per skersmenį didesni nei 0,1 μm;
English: Equipment specially designed for equipment specified in 3B001.e. and having any of the following:
French: équipements spécialement conçus pour les équipements visés à l'alinéa 3B001.e. et présentant l'une des deux caractéristiques suivantes:
German: Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unternummer 3B001e erfasste Ausrüstung und mit einer der folgenden Eigenschaften:
Spanish: Equipos diseñados especialmente para equipos incluidos en el subartículo 3B001.e. y que tengan cualquiera de las características siguientes:
Italian: apparecchiature appositamente progettate per le apparecchiature specificate in 3B001.e ed aventi una delle caratteristiche seguenti:
Dutch: speciaal ontworpen voor apparatuur bedoeld in 3B001.e en met een van beide volgende kenmerken:
Danish: Udstyr specielt konstrueret til udstyr, der er pålagt eksportkontrol if. 3B001.e, og med en eller flere af følgende egenskaber:
Swedish: Utrustningen är speciellt konstruerad för utrustning enligt avsnitt 3B001.e, och har någon av följande egenskaper:
Finnish: Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu 3B001.e kohdan mukaan valvonnanalaisia laitteita varten ja joissa on jokin seuraavista:
Greek: Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιασθεί για εξοπλισμό που καθορίζεται στο σημείο 3Β001.ε. και έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
Czech: zařízení speciálně konstruovaná pro zařízení uvedená v položce 3B001.e., která mají některou z dále uvedených charakteristik:
Slovak: zariadenia zvlášť navrhnuté pre zariadenia uvedené v bode 3B001.e. a vyznačujúce sa niektorou z týchto charakteristík:
Polish: Sprzęt specjalnie zaprojektowany lub sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B001.e., posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
Hungarian: Kifejezetten a 3B001.e. által ellenőrzés alá vont berendezéshez tervezett berendezés, amely rendelkezik a következő jellemzők bármelyikével:
Slovenian: oprema, izdelana posebej za opremo iz točke 3B001.e, ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Estonian: seadmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud punktis 3B001.e nimetatud seadmetele ja millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: ierīces, kas paredzētas 3B001.e. pozīcijā minētajām iekārtām un kam piemīt kāda no šīm īpašībām:
Lithuanian: Įranga, specialiai sukurta įrangai, nurodytai 3B001.e. ir turinti bet kurią iš šių charakteristikų:
English: Designed or optimised to produce critical dimensions of 0,3 μm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or
French: conçu ou optimisé pour produire des dimensions critiques de 0,3 μm ou moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %; ou
German: entwickelt oder optimiert um einen CD-Wert (critical dimensions) von kleiner oder gleich 0,3 μm mit einer 3-Sigma-Abweichung von ± 5 % zu erreichen oder
Spanish: Diseñados u optimizados para producir unas dimensiones críticas iguales o inferiores a 0,3 micras, con una precisión 3 sigma de ± 5 %; o
Italian: progettate o ottimizzate per produrre dimensioni critiche uguali o inferiori a 0,3 μm con una precisione pari a ± 5 % (3 sigma) o
Dutch: ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 0,3 micrometer of minder met een precisie van ± 5 % 3 sigma; of
Danish: Konstrueret eller optimeret til at nå op på kritiske dimensioner på 0,3 μm eller derunder med en præcision på ± 5 % i forhold til 3 sigma eller
Swedish: den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 0,3 μm eller mindre med ± 5 % 3 sigmaprecision, eller
Finnish: Ne on suunniteltu tai optimoitu tuottamaan kriittiset mitat, jotka ovat 0,3 μm tai vähemmän ± 5 % 3 sigman tarkkuudella); tai
Greek: Σχεδιασμένος ή βελτιστοποιημένος για να παράγει κρίσιμες διαστάσεις 0,3 μm ή μικρότερες, με ακρίβεια 3 σ ± 5 % ή
Czech: jsou konstruovaná nebo optimalizovaná pro tvorbu kritických rozměrů 0,3 μm nebo méně s přesností ± 5 % 3 sigma; nebo
Slovak: navrhnuté alebo optimalizované na tvorbu kritického rozmeru najviac 0,3 μm s presnosťou 3 sigma ± 5 %; alebo
Polish: Zaprojektowany lub optymalizowany do produkcji z wymiarem krytycznym 0,3 μm lub mniejszym, z dokładnością 3 sigma ± 5 %; lub
Hungarian: Úgy tervezték vagy optimalizálták, hogy ± 5 % 3 szigma precizitás mellett állítson elő 0,3 μm vagy kisebb kritikus méreteket; vagy
Slovenian: je izdelana ali prirejena za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma; ali
Estonian: kavandatud või optimeeritud saavutama kriitilist mõõtu 0,3 μm või vähem ± 5 % 3sigmalise täpsusega; või
Latvian: kuras paredzētas vai optimizētas kritisko izmēru iegūšanai, kas ir 0,3 μm vai mazāki ar ±5 % 3 sigma precizitāti; vai
Lithuanian: Sukurta ar optimizuota pasiekti kritinius matmenis, lygius 0,3 μm ar mažesnius, su ± 5 % 3 sigma tikslumu; arba