FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: "Total digital transfer rate" (5) means the number of bits, including line coding, overhead and so forth per unit time passing between corresponding equipment in a digital transmission system. N.B.: See also "digital transfer rate". "Tow" (1) is a bundle of "monofilaments", usually approximately parallel. "Toxins" (1 2) means toxins in the form of deliberately isolated preparations or mixtures, no matter how produced, other than toxins present as contaminants of other materials such as pathological specimens, crops, foodstuffs or seed stocks of "microorganisms". "Transfer laser" (6) means a "laser" in which the lasing species is excited through the transfer of energy by collision of a non-lasing atom or molecule with a lasing atom or molecule species. "Tunable" (6) means the ability of a "laser" to produce a continuous output at all wavelengths over a range of several "laser" transitions. A line selectable "laser" produces discrete wavelengths within one "laser" transition and is not considered "tunable". "Uranium enriched in the isotopes 235 or 233" (0) means uranium containing the isotopes 235 or 233, or both, in an amount such that the abundance ratio of the sum of these isotopes to the isotope 238 is more than the ratio of the isotope 235 to the isotope 238 occurring in nature (isotopic ratio 0,72 per cent). "Use" (GTN NTN All) means operation, installation (including on-site installation), maintenance (checking), repair, overhaul and refurbishing. "User accessible programmability" (6) means the facility allowing a user to insert, modify or replace "programmes" by means other than:
Spanish: "Tiempo de conmutación de frecuencia" (3 5) es el tiempo máximo (es decir, retardo) necesario, cuando se efectúa una conmutación entre dos frecuencias de salida, para que la frecuencia seleccionada alcance:
English: "Variable geometry airfoils" (7) means the use of trailing edge flaps or tabs, or leading edge slats or pivoted nose droop, the position of which can be controlled in flight. "Yarn" (1) is a bundle of twisted 'strands'.
French: N.B.:"Brin": faisceau de "monofilaments" (en général plus de 200) pratiquement parallèles.
Spanish: "Toxinas" (1 2) son toxinas en forma de preparados o mezclas aisladas deliberadamente, independientemente de cómo se hayan obtenido, con excepción de las toxinas presentes como contaminantes en otros materiales, tales como especímenes patológicos, cultivos, alimentos o material de siembra de "microorganismos".
Dutch: "Transfer laser" (6): een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt.
Hungarian: "Szalag" (tape) (1): Összefont vagy egyirányú "monofil szálakból", 'fonalból', "előfonatból", "kócból", "cérnából" stb. készített anyag, amelyet rendszerint előzetesen műgyantával impregnálnak.
English: ABEC Annular Bearing Engineers Committee
Spanish: "Uranio natural" (0) es uranio que contenga las mezclas de isótopo que se dan en la naturaleza.
Polish: Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni
English: attitude and heading reference systems AISI
Spanish: ACRÓNIMOS Y ABREVIATURAS EMPLEADOS EN EL PRESENTE ANEXO
English: American Iron and Steel Institute ALU
Spanish: Los acrónimos o abreviaturas que se empleen como términos definidos aparecen en las "Definiciones de los términos empleados en el presente Anexo"
Polish: jednostka arytmetyczno - logiczna
English: DME
French: CRISLA
Spanish: CRISLA
Italian: onda continua
Dutch: CAD
Hungarian: aritmetikai logikai egység ANSI
English: EB-PVD
French: onde entretenue
Spanish: Guerra química
Italian: solidificazione direzionale
Dutch: CCITT
Hungarian: légiforgalmi irányítás AVLIS
Lithuanian: EB–PVD
English: EBU
French: DSP
Spanish: DME
Italian: deposizione fisica in fase di vapore per mezzo di fascio elettronico
Dutch: CDU
Hungarian: CAD
English: EDM
French: (ECM)
Spanish: EBU
Italian: risonanza elettrociclotrone
Dutch: CRISLA
Hungarian: CDU
English: EIA
French: (EDM)
Spanish: ECR
Italian: memoria di sola lettura cancellabile e programmabile elettricamente
Hungarian: CRISLA
English: ETSI
French: EIA
Spanish: EEPROMS
Italian: compatibilità elettromagnetica
Portuguese: EMCDB
Dutch: directionally solidified
Slovak: FFT
Hungarian: distance measuring equipment távolságmérő berendezés DS directionally solidified irányított megszilárdulás EB-PVD
English: FFT
French: EMC
Spanish: EIA
Italian: Istituto europeo per le norme di telecomunicazione
Portuguese: ETSI
Dutch: European Broadcasting Union ECM
Hungarian: Electro-chemical machining elektrokémiai megmunkálás ECR
English: GLONASS
French: essai non destructif ETSI
Spanish: Compatibilidad electromagnética ETSI
Italian: trasformata rapida di Fourier
Portuguese: FFT
Dutch: electron cyclotron resonance EDM
Hungarian: electrical discharge machines szikraforgácsoló gépek EEPROM
English: MOCVD
French: MTBF
Spanish: MRI
Italian: tempo medio tra due guasti
English: ppm
Spanish: PIN
Italian: modulazione di ampiezza in quadratura
English: PSD
French: SACMA
Spanish: Partes por millón PSD
Italian: radiofrequenza
English: Suppliers of Advanced Composite Materials Association
French: séparation isotope moléculaire par "laser"
Spanish: Asociación de proveedores de materiales compuestos avanzados
Italian: SLAR
Slovak: Združenie dodávateľov zdokonalených kompozitných materiálov
Polish: Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych
Hungarian: Suppliers of Advanced Composite Materials Association Fejlett Kompozit Anyagok Szállítóinak Szövetsége
Slovenian: Suppliers of Advanced Composite Materials Association – Zveza dobaviteljev sodobnih kompozitnih materialov
Estonian: Suppliers of Advanced Composite Materials Association (Edendatud Komposiitmaterjalide Tarnijate Assotsiatsioon)
Latvian: Augsttehnoloģiju kompozītmateriālu ražotāju asociācija
Lithuanian: Patobulintųjų kompozicinių medžiagų asociacijos tiekėjai
English: SLAR
French: SRAM
Spanish: SILMO
Italian: assieme rimpiazzabile in laboratorio
English: SMPTE
French: SRM
Spanish: SILVA
Italian: memoria statica ad accesso casuale
English: SRA
French: SSR
Spanish: SLAR
Italian: metodi raccomandati dalla SACMA
English: SRAM
French: TCSEC
Spanish: SMPTE
Italian: banda laterale unica
English: SSR
French: UER
Spanish: Banda lateral única SSR
Italian: lettura totale del misuratore
English: Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae); 4. Clavibacter michiganensis subsp.
Spanish: Microcyclus ulei (sin.
English: Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum or Corynebacterium Sepedonicum);
Spanish: Dothidella ulei);
English: Ralstonia solanacearum Races 2 and 3 (Pseudomonas solanacearum Races 2 and 3 or Burkholderia solanacearum Races 2 and 3); c. Fungi, whether natural, enhanced or modified, either in the form of "isolated live cultures" or as material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures, as follows:
Spanish: Puccinia graminis (sin.
Slovak: Puccinia graminis (syn.
Hungarian: Puccinia graminis (syn.
English: Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum kahawae); 2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae); 3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);
Spanish: Puccinia graminis f. sp. tritici);
English: Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);
Spanish: Puccinia striiformis (sin.
Estonian: Puccinia graminis (sünonüüm Puccinia graminis f. sp. tritici);
English: Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);
Spanish: Puccinia glumarum);
Estonian: Puccinia striiformis (sünonüüm Puccinia glumarum);
English: Base materials having all of the following characteristics: a. Any of the following compositions: 1. Single or complex oxides of zirconium and complex oxides of silicon or aluminium;
Spanish: Óxidos de circonio simples o complejos y óxidos complejos de silicio o de aluminio;
English: Drift equal to or less (better) than 0.1% per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K; or c. Measuring systems having all of the following: 1. Containing a "laser"; and 2. Maintaining, for at least 12 hours, over a temperature range of ± 1 K around a standard temperature and at a standard pressure, all of the following:
Spanish: Que sean capaces de mantener durante 12 horas como mínimo, a una temperatura normalizada ± 1 K y a una presión normalizada, todas las características siguientes:
English: Strain rate; 3. Temperature;
Spanish: La "unión por difusión" de las "superaleaciones" o las aleaciones de titanio:
English: Temperature; 3. Pressure; c. "Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys: 1. Pressure; 2. Cycle time;
Spanish: Duración del ciclo;
English: 1 CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.N.B. utomation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
French: 1 Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.N.B. r le moulage de plastiques, fabriqués à partir d'alliage contenant moins de 5 % de bérillium.
Spanish: 1 La «CVD» incluye los procesos siguientes: depósito fuera de paquete con flujo de gas dirigido, «CVD» pulsante, deposición nuclearia térmica controlada («CNTD»), intensificado por plasma o asistido por plasma.N.B. ), material dieléctrico o material cerámico se deposita sobre un sustrato calentado.
Italian: 1: la deposizione in fase di vapore di elementi chimici comprende i processi seguenti: deposizione fuori cassetta con flusso di gas diretto, deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi (CVD), deposizione termica per nucleazione controllata (CNTD), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.N.B. della plastica, fabbricati con leghe contenenti meno del 5 % di berillio.
Portuguese: 1 A designação "deposição em fase vapor por processo químico" abrange os seguintes processos: deposição fora de caixa com fluxo de gás dirigido, CVD pulsante, deposição térmica com nucleação controlada (CNTD) e processos de deposição em fase vapor por processo químico activados ou assistidos por plasma.N.B. s para o vazamento ou moldagem de plásticos, fabricados a partir de ligas com menos de 5 % de berílio.
Lithuanian: 1 CVD apima tokius procesus: kryptingą dujų srauto nepaketinį nusodinimą, impulsinį CVD, valdomąjį kristalo užuomazgų šiluminį (terminį) nusodinimą (CNTD), CVD procesus, kuriuos sukelia ar skatina plazma.N.B.  ant įkaitinto padėklo.
English: 2 Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.N.B. -of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
French: 2 Le terme caisse désigne un substrat plongé dans un mélange de poudres.N.B. uivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.
Spanish: 2 Se entiende por paquete un sustrato sumergido en una mezcla de polvos.N.B. jo de gas dirigido, «CVD» pulsante, deposición nuclearia térmica controlada («CNTD»), intensificado por plasma o asistido por plasma.
Italian: 2: il termine cassetta indica un substrato immerso in una miscela di polveri.N.B. nti: deposizione fuori cassetta con flusso di gas diretto, deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi (CVD), deposizione termica per nucleazione controllata (CNTD), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.
Portuguese: 2 O termo "caixa" designa um substrato imerso numa mistura de pós.N.B. s seguintes processos: deposição fora de caixa com fluxo de gás dirigido, CVD pulsante, deposição térmica com nucleação controlada (CNTD) e processos de deposição em fase vapor por processo químico activados ou assistidos por plasma.
Polish: 2: Zanurzanie w proszku polega na zanurzaniu podłoża w mieszaninie sproszkowanych substancji.N.B. proszku, CVD pulsujące, rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem (CNTD), CVD intensyfikowane albo wspomagane za pomocą plazmy.
Lithuanian: 2 Paketas reiškia į miltelių mišinį panardintą padėklą.N.B. į nusodinimą, impulsinį CVD, valdomąjį kristalo užuomazgų šiluminį (terminį) nusodinimą (CNTD), CVD procesus, kuriuos sukelia ar skatina plazma.
English: 3 The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.N.B. r medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
French: 3 Les gaz réactifs utilisés dans le procédé hors caisse sont obtenus à l'aide des mêmes réactions et paramètres élémentaires qu'avec le procédé de cémentation en caisse, à ceci près que le substrat à revêtir n'est pas en contact avec le mélange de poudres.N.B. dé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.
Spanish: 3 El material gaseoso utilizado en el proceso fuera de paquete se produce utilizando las mismas reacciones y parámetros básicos del proceso de cementación en paquetes, excepto que el sustrato que va a revestirse no está en contacto con la mezcla de polvos.N.B.  deposita sobre un sustrato calentado.
Italian: i gas reagenti utilizzati nel processo fuori cassetta sono ottenuti usando le stesse reazioni e parametri elementari del processo di cementazione in cassetta, tranne per il substrato da rivestire che non è in contatto con la miscela di polveri.N.B. lata (CNTD), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.
Portuguese: 3 Os reagentes gasosos utilizados no processo fora de caixa são obtidos recorrendo às mesmas reacções e parâmetros básicos utilizados no processo de cementação em caixa, com a diferença de que o substrato a revestir não está em contacto com a mistura de pós.N.B. ímico activados ou assistidos por plasma.
Lithuanian: 3 Dujiniai reagentai, naudojami ištisiniam (nepaketiniam) padengimui, yra gaunami naudojant tas pačias pagrindines reakcijas ir parametrus, kaip ir per paketinės cementacijos procesą, išskyrus tai, kad dengiamas padėklas nesiliečia su miltelių mišiniu.N.B. dicininių prietaisų arba liejimo formų, skirtų plastiko liejimui ar formavimui, pagamintų iš lydinių, kuriuose yra mažiau kaip 5 % berilio.
English: "Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating; 4. Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger. Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionized plasma. The anode can be either a cone attached to the periphery of the cathode, through an insulator, or the chamber. Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition. N.B. This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates. 5. Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma. The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process. c. Pack Cementation is a surface modification coating or overlay coating process wherein a substrate is immersed in a powder mixture (a pack), that consists of: 1. The metallic powders that are to be deposited (usually aluminium, chromium, silicon or combinations thereof); 2. An activator (normally a halide salt); and 3. An inert powder, most frequently alumina.
Spanish: Un polvo inerte, casi siempre alúmina.
English: 1 Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.N.B. ch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
French: 1 Par basse pression, on entend une pression inférieure à la pression atmosphérique ambiante.N.B. ou torche à plasma) produisant et contrôlant un plasma reçoit des matériaux de revêtement sous forme de poudre ou de fil, les fait fondre et les projette sur un substrat où se forme ainsi un revêtement intégralement adhérent.
Spanish: 1 Se entiende por baja presión la inferior a la presión atmosférica ambiente.N.B. na pistola soplete de pulverización que produce y controla un plasma recibe los materiales de revestimiento en forma de polvo o de alambre, los funde y los proyecta hacia un sustrato en el que se forma así un revestimiento aglutinado integralmente.
Italian: per bassa pressione si intende una pressione inferiore alla pressione atmosferica ambiente.N.B. vaporizzazione) che produce e controlla un plasma, riceve materiali di rivestimento sotto forma di polvere o filo, li fa fondere e li proietta su un substrato sul quale si forma un rivestimento integralmente aderente.
Portuguese: 1 Por baixa pressão, entende-se uma pressão inferior à pressão atmosférica ambiente.N.B. ico pulverizador), que produz e controla um plasma, contém os materiais que irão constituir o revestimento, sob a forma de pó ou de fio, procede à sua fusão e os projecta contra um substrato, onde se forma um revestimento totalmente aderente.
Polish: 1: Niskocisnieniowe oznacza pod ciśnieniem niższym od ciśnienia atmosferycznego otoczenia.N.B. o do wytwarzania i sterowania strumieniem plazmy jest doprowadzany materiał do powlekania w postaci proszku albo pręta. Pistolet topi materiał i wyrzuca go na podłoże, na którym powstaje silnie z nim związana powłoka.
Lithuanian: 1 Žemas slėgis reiškia mažesnį kaip atmosferos slėgį.N.B.  kai plazmą formuojantis ir valdantis prožektorius priima miltelių ar vielos pavidalo dengiančiąsias medžiagas, jas išlydo ir stumia prie padėklo, ant kurio formuojama gerai surišta danga.
English: 2 High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.N.B.  powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
French: 2 Par grande vitesse, on entend une vitesse du gaz à la sortie du chalumeau supérieure à 750 m/s, calculée à 293 K (20 °C) et à une pression de 0,1 MPa.N.B. it des matériaux de revêtement sous forme de poudre ou de fil, les fait fondre et les projette sur un substrat où se forme ainsi un revêtement intégralement adhérent.
Spanish: 2 Se entiende por gran velocidad una velocidad del gas a la salida de la tobera de más de 750 m/s calculada a 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.N.B. a un plasma recibe los materiales de revestimiento en forma de polvo o de alambre, los funde y los proyecta hacia un sustrato en el que se forma así un revestimiento aglutinado integralmente.
Italian: per grande velocità si intende una velocità del gas in uscita dalla torcia superiore a 750 m/s calcolata a 293 K (20 °C) e ad una pressione di 0,1 MPa.N.B. teriali di rivestimento sotto forma di polvere o filo, li fa fondere e li proietta su un substrato sul quale si forma un rivestimento integralmente aderente.
Portuguese: 2 Por alta velocidade, entende-se uma velocidade do gás à saída do canhão superior a 750 m/s, calculada a 293 K (20 °C) para uma pressão de 0,1 MPa.N.B. teriais que irão constituir o revestimento, sob a forma de pó ou de fio, procede à sua fusão e os projecta contra um substrato, onde se forma um revestimento totalmente aderente.
Polish: 2: Wysoka prędkość odnosi się do prędkości gazów na wylocie z dyszy przekraczającej wartość 750 m/s w temperaturze 293 °K (20 °C) i ciśnieniu 0,1 MPa.N.B. adzany materiał do powlekania w postaci proszku albo pręta. Pistolet topi materiał i wyrzuca go na podłoże, na którym powstaje silnie z nim związana powłoka.
Lithuanian: 2 Didelis plazmos greitis reiškia, kad iš prožektoriaus tūtos išeinančių dujų greitis esant 293 K (20 °C) temperatūrai ir 0,1 MPa slėgiui yra didesnis kaip 750 m/s.N.B.  jas išlydo ir stumia prie padėklo, ant kurio formuojama gerai surišta danga.
English: "CTP"
French: "PTP"
Spanish: «CTP»
Italian: "PTC"
Slovak: "CTP")
Slovenian: "STZ"
English: Outline of "CTP" calculation method "CTP" is a measure of computational performance given in Mtops.
Spanish: El "CTP" es una medida de la velocidad de proceso expresada en millones de operaciones teóricas por segundo («Mtops»).
English: Expiry date (if applicable)4. Contact point details5.
Spanish: Fecha de expiración (en su caso)4.Datos del punto de contacto5.
English: End-user (if different from consignee)11. Member State of current or future location of the itemsCode (1)12.
Spanish: Usuario final (en caso de que no sea el destinatario)11.Estado miembro en que se encuentran o se encontrarán los artículosCódigo (1)12.
English: Customs document (Type and number) or extract (No) and date of deduction27. Member state, name and signature, stamp of deduction24.
Spanish: Documento aduanero (tipo y número) o extracto (no) y fecha de deducción27.Estado miembro, nombre, apellidos y firma, sello de la autoridad responsable de la deducción24.
English: N.B.: Category references are given in brackets after the defined term.
Swedish: Definitioner av termer mellan "dubbla citationstecken" är följande:
Polish: N.B.: Nie dotyczy to przypadków decyzji o zmianie trasy podejmowanych na podstawie określonych wcześniej informacji.
Estonian: Viide kategooria kohta on märgitud defineeritava mõiste järele sulgudesse.
English: "Microorganisms" (1 2) means bacteria, viruses, mycoplasms, rickettsiae, chlamydiae or fungi, whether natural, enhanced or modified, either in the form of isolated live cultures or as material including living material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures. "Missiles" (1 3 6 7 9) means complete rocket systems and unmanned air vehicle systems, capable of delivering at least 500 kg payload to a range of at least 300 km.
Estonian: Mikroorganismid (Microorganisms) (1 2) – bakterid, viirused, mükoplasmad, riketsiad, klamüüdiad või seened, nii looduslikult, parandatud või modifitseeritud, kas isoleeritud eluskultuuride või aine kujul, kaasa arvatud elusained, mida on teadlikult nakatatud või saastatud nimetatud kultuuridega.
English: "Monofilament" (1) or filament is the smallest increment of fibre, usually several micrometres in diameter. "Monolithic integrated circuit" (3) means a combination of passive or active 'circuit elements' or both which:
Estonian: Monoliit-integraallülitus (Monolithic integrated circuit) (3) – passiivsete või aktiivsete või mõlemat liiki vooluahela elementide kombinatsioon, mis:
English: "States (not) Party to the Chemical Weapon Convention" (1) are those states for which the Convention on the Prohibition of the Development, Production, Stockpiling and Use of Chemical Weapons has (not) entered into force. (See www.opcw.org)
Slovak: "Štáty, ktoré (nie) sú účastníkmi dohovoru o nešírení chemických zbraní" (1) sú tie štáty, pre ktoré Dohovor o zákaze vývoja, výroby, hromadenia a využívania chemických zbraní (nie) je platný (pozri www.opcw.org).
Estonian: Keemiarelvade konventsiooniga (mitte) ühinenud riigid (States (not) Party to the Chemical Weapon Convention) (1) – riigid, kelle suhtes keemiarelvade väljatöötamise, tootmise, varumise ja kasutamise keelustamise konventsioon on/ei ole jõustunud (vt www.opcw.org).
Latvian: "Valstis, kas (nav) pievienojušās Ķīmisko ieroču konvencijai" (1) ir valstis, kurās (nav) spēkā Konvencija par ķīmisko ieroču izstrādāšanas, ražošanas, glabāšanas un lietošanas aizliegšanu (Skat. www.opcw.org).