FrancophonIA/DGT-Translation_Memory huggingface dataset:
English: "Stored programme controlled" equipment designed for ion implantation, having any of the following:
French: équipements "à commande par programme enregistré" conçus pour l'implantation ionique et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
Slovak: zariadenia "riadené programom uloženým v pamäti", navrhnuté na implantáciu iónov, vyznačujúce sa niektorou z týchto charakteristík:
Polish: urządzenia "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" przeznaczone do implantacji jonów, posiadające jakąkolwiek z następujących właściwości:
Hungarian: Ionbeültetésre tervezett "tároltprogram-vezérlésű" berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:
Slovenian: oprema, "krmiljena s shranjenim programom", izdelana za implantacijo ionov, ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Estonian: Programmeeritavad ioonlegeerimisseadmed, millel on mis tahes järgmine omadus:
Latvian: "ierakstītas programmas vadītas" iekārtas, kas paredzētas jonu implantācijai un kurām ir kāds no šiem raksturlielumiem:
Lithuanian: "Programos valdoma" jonų implantacijos įranga, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:
Maltese: Tagħmir "ikkontrollat bi programm maħżun" iddisinnjat għat-tidħil tal-jone, li għandhom xi wieħed minn dawn li ġejjin:
English: "Stored programme controlled" anisotropic plasma dry etching equipment, as follows:
French: équipements "à commande par programme enregistré" pour l'élimination par des méthodes sèches anisotropiques par plasma, comme suit:
Slovak: zariadenia "riadené programom uloženým v pamäti" na suché leptanie anizotropnou plazmou:
Polish: następujące urządzenia "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" do suchego trawienia za pomocą plazmy anizotropowej:
Hungarian: "Tárolt programmal vezérelt" anizotróp plazma-szárazmarató berendezés, ideértve a következőket:
Slovenian: oprema, "krmiljena s shranjenim programom" za suho jedkanje z uporabo anizotropske plazme:
Estonian: Programmeeritavad anisotroopsed plasmakuivsöövitusseadmed:
Latvian: "ierakstītas programmas vadītas" iekārtas sausai izkodināšanai ar anizotropo plazmu:
Lithuanian: "Programos valdoma" anizotropinio plazminio sausojo ėsdinimo įranga, išvardyta toliau:
Maltese: Tagħmir ta' inċiżjoni fin-niexef bil-plażma anisotropika "ikkontrollat bi programm maħżun" kif ġej:
English: Designed or optimised to produce critical dimensions of 0,3 µm or less with ± 5 % 3 sigma precision;
French: conçu ou optimisé pour produire des dimensions critiques de 0,3 mm ou moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %;
Polish: skonstruowane lub zoptymalizowane pod kątem wytworzenia wymiarów krytycznych rzędu 0,3 μm, z dokładnością ± 5 % 3 sigma;
Hungarian: Úgy tervezték vagy optimalizálták, hogy ± 5 % 3 szigma precizitás mellett állítson elő 0,3 μm vagy kisebb kritikus méreteket.
Slovenian: je izdelana ali prirejena za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma;
Estonian: Kavandatud või optimeeritud saavutama kriitilist mõõtu 0,3 m või vähem 5 % 3sigmalise täpsusega;
Latvian: kuras paredzētas vai optimizētas kritisko izmēru iegūšanai, kas ir 0,3 m vai mazāki ar ±5 % 3 sigma precizitāti;
Lithuanian: Sukurta ar optimizuota pasiekti kritinius matmenis, lygius 0,3 μm ar mažesnius, su ± 5 % 3 sigma tikslumu;
Maltese: Iddisinnjati jew magħmula biex isir l-aħjar użu biex jipproduċu dimensjonijiet kritiċi ta' 0,3 μm jew anqas minn ± 5 % 3 ta' preċiżjoni sigma;
English: Designed for generating less than 0,04 particles/cm2 with a measurable particle size greater than 0,1 µm in diameter;
French: conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2 avec une dimension de particule mesurable supérieure à 0,1 mm en diamètre;
Slovak: navrhnuté na generovanie menej ako 0,04 častice/cm2 pri merateľnej veľkosti častíc s priemerom viac ako 0,1 μm;
Polish: skonstruowane do wytworzenia poniżej 0,04 cząstek/cm2, przy mierzalnej średnicy cząstek wynoszącej powyżej 0,1 μm;
Hungarian: Úgy tervezték, hogy 0,1 μm-nél nagyobb átmérőjű mérhető részecskemérettel állítson elő nagyobb 0,04 részecske/cm2-nél alacsonyabb értéket.
Slovenian: je izdelana za generiranje manj kakor 0,04 delcev/cm2 z izmerljivo velikostjo delcev, večjih od 0,1 μm v premeru;
Estonian: Kavandatud tekitama vähem kui 0,04 osakest/cm2, mille mõõdetav osakese diameeter on suurem kui 0,1 m;
Latvian: paredzētas mazāk nekā 0,04 tādu daļiņu ģenerēšanai uz cm, kuru izmērs pārsniedz 0,1 m diametrā;
Lithuanian: Sukurta generuoti mažiau kaip 0,04 dalelių/cm2, kai išmatuojamų dalelių matmenys per skersmenį didesni kaip 0,1 μm;
Maltese: Iddisinnjati biex jiġġeneraw anqas minn 0,04 partikoli/ċm2 b'partikola li tista' titqies ta' daqs akbar minn 0,1 μm f'dijametru;
English: "Stored programme controlled" plasma enhanced CVD equipment, as follows:
French: équipements de dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma "à commande par programme enregistré", comme suit:
Slovak: zariadenia "riadené programom uloženým v pamäti" na chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD), zosilnené plazmou:
Polish: następujące urządzenia "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" do intensyfikowanego za pomocą plazmy CVD:
Hungarian: "Tárolt programmal vezérelt" plazmaszórásos gőzfázisú kémiai leválasztó (CVD) berendezés, az alábbiak szerint:
Slovenian: oprema, "krmiljena s shranjenim programom", za nanašanje CVD z uporabo plazme:
Estonian: Programmeeritavad plasmaaktiveeritud keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) seadmed:
Latvian: "ierakstītas programmas vadītas" iekārtas ar plazmu aktivētamCVDprocesam:
Lithuanian: "Programos valdoma" plazma aktyvinamo cheminio garinio nusodinimo (CVD) įranga, išvardyta toliau:
Maltese: Tagħmir CVD "ikkontrollat bi programm maħżun" bi plażma mkabbar, kif ġej:
English: Designed according to the manufacturer's specifications or optimised to produce critical dimensions of 0,3 µm or less with ± 5 % 3 sigma precision;
French: conçu selon les spécifications du fabricant ou optimisé pour produire des dimensions critiques de 0,3 mm ou moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %;
Polish: skonstruowane zgodnie ze specyfikacją producenta lub zoptymalizowane pod kątem wytworzenia wymiarów krytycznych rzędu 0,3 μm, z dokładnością ± 5 % 3 sigma;
Hungarian: Úgy tervezték vagy optimalizálták, hogy ± 5 % 3 szigma precizitás mellett állítson elő 0,3 μm vagy kisebb kritikus méreteket.
Slovenian: je izdelana v skladu s specifikacijami proizvajalca ali prirejena za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma;
Estonian: Kavandatud vastavalt valmistaja kirjeldusele või optimeeritud saavutama kriitilist mõõtu 0,3 m või vähem 5 % 3sigmalise täpsusega;
Latvian: saskaņā ar ražotāja specifikācijām paredzētas vai optimizētas kritisko izmēru iegūšanai, kas ir 0,3 m vai mazāki ar ±5 % 3 sigma precizitāti;
Lithuanian: Sukurta pagal gamintojo charakteristikas ir optimizuota pasiekti kritinius matmenis, lygius 0,3 μm ar mažesnius, su ± 5 % 3 sigma tikslumu;
Maltese: Iddisinnjati skond l-ispeċifikazzjonijiet tal-fabbrikant jew magħmula biex isir l-aħjar użu biex jipproduċu dimensjonijiet kritiċi ta' 0,3 μm jew anqas b'± 5 % 3 ta' preċiżjoni sigma;
English: "Stored programme controlled" automatic loading multi-chamber central wafer handling systems, having all of the following:
French: systèmes centraux de manipulation des plaquettes, "à commande par programme enregistré", pour le chargement automatique à chambres multiples, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
Slovak: viackomorové systémy "riadené programom uloženým v pamäti" na manipuláciu s hlavnými plátkami čipov s automatickým nakladaním, vyznačujúce sa všetkými týmito charakteristikami:
Polish: urządzenia "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" do centralnego sterowania automatycznymi zespołami do obsługi wielokomorowych urządzeń do wytwarzania płytek elektronicznych, posiadające wszystkie następujące właściwości:
Hungarian: "Tárolt programvezérlésű" automata töltésű többkamrás központi szeletkezelő rendszerek, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
Slovenian: večkomorni centralni sistemi, "krmiljeni s shranjenim programom", z avtomatskim polnjenjem, za obdelavo rezin, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Estonian: Programmeeritavad automaatse laadimisega mitmekambrilised kesksed toorikkiipide käsitsemise süsteemid, millel on järgmised omadused:
Latvian: "ierakstītas programmas vadītas" automātiskās ielādēšanas daudzkameru sistēmas manipulācijām ar pusvadītāju sagatavēm un:
Lithuanian: "Programos valdomos" automatiškai pakraunamos daugiakamerės plokštelių perkėlimo sistemos, turinčios visas toliau išvardytas charakteristikas:
Maltese: Sistemi ta' l-immaniġġjar tal-wajfers b'ħafna kmamar bi tqegħid awtomatiku "ikkontrollat bi programm maħżun", li għandhom dawn kollha li ġejjin:
English: "Stored programme controlled" lithography equipment, as follows:
French: équipements de lithographie "à commande par programme enregistré", comme suit:
Slovak: litografické zariadenia "riadené programom uloženým v pamäti":
Polish: następujące urządzenia litograficzne "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci":
Hungarian: "Tárolt programvezérlésű" litográfiai berendezés, az alábbiak szerint:
Slovenian: litografska oprema, "krmiljena s shranjenim programom":
Estonian: Järgmised programmeeritavad litograafiaseadmed:
Latvian: "ierakstītas programmas vadītas" litogrāfijas iekārtas:
Lithuanian: "Programos valdoma" litografijos įranga, išvardyta toliau:
Maltese: Tagħmir ta' litografija "ikkontrollat bi programm maħżun", kif ġej:
English: A light source wavelength shorter than 350 nm;
French: longueur d'onde de la source lumineuse inférieure à 350 nm;
Polish: źródło światła o długości fali poniżej 350 nm;
Hungarian: A fényforrás hullámhosszúsága rövidebb, mint 350 nm.
Slovenian: vir svetlobe valovne dolžine manj kakor 350 nm;
Estonian: Valgusallika lainepikkus on lühem kui 350 nm;
Latvian: gaismas avota viļņu garums mazāks par 350 nm;
Lithuanian: Šviesos šaltinio bangos ilgį, mažesnį kaip 350 nm;
Maltese: Mikromewġa ta' sors ta' dawl aqsar minn 350 nm;
English: Capable of producing a pattern with a 'minimum resolvable feature' size of 0,35 µm or less;
French: capables de produire des figures dont la dimension de l''élément résoluble minimal' est égale ou inférieure à 0,35 µm;
Slovak: je schopné vytvoriť obrazec s veľkosťou "minimálneho rozlíšiteľného znaku" 0,35 mm alebo menej; Technická poznámka:
Polish: zdolne do wytwarzania wzorów o "minimalnej rozdzielczości wymiarowej" 0,35 μm lub mniejszej;
Hungarian: Képes 0,5 μm, vagy annál kisebb minimális felbontási méretű (MRF) minta létrehozására.
Slovenian: zmožnost proizvajanja oblike z "minimalno razločljivo potezo" 0,35 mikrometra ali manj; Tehnična opomba:
Estonian: On võimelised tekitama mustrit, milles vähima lahutatava elemendi mõõt on 0,35 m või vähem;
Latvian: spēj formēt trafaretattēlu ar "minimālo atšķiramās detaļas izmēru" 0,35 m vai mazāku;
Lithuanian: Galinti sukurti paveikslus, kurių mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo lygus arba mažesnis kaip 0,35 μm;
Maltese: Kapaċi li jipproduċi disinn b'daqs ta' "karatteristika minima li tista' tinħall" ta' 0,35 μm jew anqas;
English: A spot size smaller than 0,2 µm;
French: ayant une dimension du spot inférieure à 0,2 µm;
Slovak: veľkosť bodu menej ako 0,2 mm;
Polish: aperturę plamki poniżej 0,2 μm;
Hungarian: A sugárpont mérete kisebb, mint 0,2 μm.
Slovenian: točko, manjšo od 0,2 μm;
Estonian: Laotuspunkti suurus väiksem kui 0,2 m;
Latvian: gaismas punkta izmērs mazāks par 0,2 µm;
Lithuanian: Dėmės matmenis, mažesnius kaip 0,2 μm;
Maltese: Daqs ta' marka żgħira iżgħar minn 0,2 μm;
English: Being capable of producing a pattern with a feature size of less than 1 µm;
French: capables de produire des figures d'une dimension inférieure à 1 µm;
Polish: zdolność wytwarzania obrazów o wielkości charakterystycznej poniżej 1 μm;
Hungarian: Képes olyan mintát előállítani, amelynek fő mérete 1 μm-nél kisebb.
Slovenian: zmožnost izdelave vzorca s potezami, manjšimi od 1 μm;
Estonian: On võimelised tekitama mustreid, milles vähima lahutatava elemendi mõõt on väiksem kui 1 m;
Latvian: spēj formēt trafaretattēlu ar "minimālo atšķiramās detaļas izmēru" 1 µm vai mazāku;
Lithuanian: Galinti sukurti paveikslus, kurių topologinių elementų matmenys mažesni kaip 1 μm;
Maltese: Li kapaċi jipproduċi disinn ta' daqs ta' karatteristika ta' anqas minn 1 μm;
English: An overlay accuracy of better than ± 0,20 µm (3 sigma);
French: précision de chevauchement meilleure que ± 0,20 µm (3 sigma);
Slovak: presnosť prekryvu lepšia ako ± 0, 20 mm (3 sigma);
Polish: dokładność nakładania lepszą niż ± 0,20 μm (3 sigma);
Hungarian: Az elhelyezési pontosság jobb, mint ± 0,20 μm (3 szigma).
Slovenian: površinsko natančnost boljšo od ± 0,20 μm (3 sigme);
Estonian: Paigutustäpsus parem kui 0,20 m (3 sigmat);
Latvian: pārklājuma precizitāte augstāka par ±2,20 m (3);
Lithuanian: Bendrasis tikslumas geresnis kaip ± 0,20 μm (3 sigma).
Maltese: Akkuratezza ta' fuq xi ħaġa oħra aħjar minn ± 0,20 μm (3 sigma);
English: Masks and reticles designed for integrated circuits specified in 3A001;
French: masques ou réticules conçus pour circuits intégrés visés au paragraphe 3A001;
Slovak: masky a kontrolné šablóny znakov navrhnuté pre integrované obvody uvedené v 3A001;
Polish: maski i siatki optyczne do układów scalonych określone w pozycji 3A001;
Hungarian: A 3A001 pontban meghatározott, integrált áramkörökhöz tervezett maszkok és hajszálvonalas lemezek.
Slovenian: maske in mrežice, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001;
Estonian: Maskid ja niitvõrgustikud, mis on ette nähtud punktis 3A001 nimetatud integraallülitustele;
Latvian: maskas un rastri, kas paredzēti 3A001 pozīcijā norādītajām integrālajām shēmām;
Lithuanian: Kaukės ir tarpiniai fotošablonai, skirti integriniams grandynams, nurodytiems 3A001;
Maltese: Maskri u retikoli iddisinnjati għal ċirkuwiti integrati indikati fi 3A001;
English: Multi-layer masks with a phase shift layer.
French: masques multicouches comportant une couche à décalage de phase.
Slovak: viacvrstvové masky s vrstvou fázového posuvu.
Polish: maski wielowarstwowe z warstwą z przesunięciem fazowym.
Hungarian: Többrétegű maszkok fáziseltolásos rétegekkel.
Slovenian: večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi.
Estonian: Mitmekihilised maskid faasinihke kihiga.
Latvian: daudzslāņu maskas ar fāžu nobīdes slāni.
Lithuanian: Daugiasluoksnės kaukės su fazės poslinkio sluoksniu.
Maltese: Maskri b'kisjiet mibnija minn numru ta' saffi b'saff ta' ċaqliq ta' fażi.
English: For testing S-parameters of transistor devices at frequencies exceeding 31 GHz;
French: pour le test des paramètres S de transistors à une fréquence supérieure à 31 GHz;
Slovak: na skúšanie S-parametrov tranzistorových zariadení pri frekvenciách nad 31 GHz;
Polish: do testowania parametrów S urządzeń tranzystorowych przy częstotliwościach powyżej 31 GHz;
Hungarian: Tranzisztor eszközök S-paraméterének tesztelésére szolgáló eszközök 31 GHz-et meghaladó frekvencián.
Slovenian: za testiranje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31 GHz;
Estonian: Transistoride S parameetrite testimiseks sagedustel üle 31 GHz;
Latvian: tranzistorierīču S-parametru pārbaudei pie frekvencēm, kas pārsniedz 31 GHz;
Lithuanian: Tranzistorinių įtaisų S parametrams tikrinti dažniuose, viršijančiuose 31 GHz;
Maltese: Għall-ittestjar ta' parametri-S ta' strumenti transistors bi frekwenza li teċċedi 31 GHz;
English: For testing integrated circuits capable of performing functional (truth table) testing at a 'pattern rate' of more than 333 MHz;
French: pour le test de circuits intégrés capables d'exécuter des essais de base (table de vérité) à une 'cadence de signal' supérieure à 333 MHz;
Slovak: na skúšanie integrovaných obvodov schopných vykonávať funkčné skúšanie (pravdivostná tabuľka) pri "veľkosti obrazca" viac ako 333 MHz;
Polish: do testowania układów scalonych i ich zespołów zdolne do testowania funkcjonalnego (tabela logiczna) z "szybkością wzorca" powyżej 333 MHz;
Hungarian: Funkcionális (igazságtábla) tesztelés végrehajtására képes integrált áramköröknek a 333 MHz-nél nagyobb "mintasebesség" mellett történő tesztelésére szolgáló eszközök.
Slovenian: za testiranje integriranih vezij z zmožnostjo izvajanja funkcionalnih preizkusov pri "hitrosti vzorčenja" več kakor 333 MHz;
Estonian: Integraallülituste testimiseks, mis on võimelised sooritama funktsionaalset testimist tõeväärtustabelitega, näidiste esitamise kiirusega üle 333 MHz;
Latvian: integrālo shēmu pārbaudēm, kuras spēj veikt funkcionālo pārbaudi (nominālu atbilstības tabulas formēšanu) pie "ciparu frekvences", kas pārsniedz 333 MHz;
Lithuanian: Skirti tikrinti integrinius grandynus, galinčius atlikti funkcinį (teisingumo lentelės) tikrinimą, esant "paveikslo formavimo spartai" didesnei kaip 333 MHz;
Maltese: Għall-ittestjar ta' ċirkuwiti integrati li kapaċi jeżekwixxu ittestjar funzjonali (tabella tal-verità) b'"rata ta' disinn" ta' aktar minn 333 MHz;
English: For testing microwave integrated circuits specified in 3A001.b.2.
French: pour le test de circuits intégrés hyperfréquences visés à l'alinéa 3A001.b.2.
Slovak: na testovanie mikrovlnových integrovaných obvodov uvedených v 3A001.b.2.
Polish: do testowania mikrofalowych układów scalonych określonych w pozycji 3A001.b.2.
Hungarian: A 3A001.b.2. részben meghatározott mikrohullámú integrált áramkörök tesztelésére szolgáló eszközök.
Slovenian: za testiranje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001.b.2.
Estonian: Punktis 3A001.b.2 nimetatud mikrolaine integraallülituste testimiseks.
Latvian: 3A001.b.2. pozīcijā norādīto mikroviļņu integrālo shēmu pārbaudēm.
Lithuanian: Mikrobanginiams integriniams grandynams, nurodytiems 3A001.b.2, tikrinti.
Maltese: Għall-ittestjar ta' ċirkuwiti integrati ta' mikromewġa indikati fi 3A001.b.2.
English: Silicon;
French: de silicium;
Slovak: kremík;
Polish: krzem;
Hungarian: Szilícium.
Slovenian: silicija;
Estonian: Räni;
Latvian: silīcija;
Lithuanian: Silicio;
Maltese: Silikon;
English: Germanium;
French: de germanium;
Slovak: germánium;
Polish: german;
Hungarian: Germánium.
Slovenian: germanija;
Estonian: Germaanium;
Latvian: germānija;
Lithuanian: Germanio;
Maltese: Ġermanjum;
English: Silicon carbide;
French: de carbure de silicium;
Polish: węglik krzemu;
Hungarian: Szilícium-karbid.
Slovenian: silicijevega karbida;
Estonian: Ränikarbiid;
Latvian: silīcija karbīda;
Lithuanian: Silicio karbido;
Maltese: Silikon karbur;
English: III/V compounds of gallium or indium.
French: de composés III/V de gallium ou d'indium.
Slovak: III/V (trojmocné/päťmocné) zlúčeniny gália alebo india.
Polish: związki III/V galu lub indu.
Hungarian: III/V gallium- vagy indiumvegyületek.
Slovenian: III/V spojin galija ali indija.
Estonian: Galliumi või indiumi III/V ühendid.
Latvian: III/V gallija vai indija savienojumiem.
Lithuanian: Galio ar indžio (III/V) junginių.
Maltese: III/V Komposti ta' gallju jew indju.
English: Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
French: résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 350 nm;
Slovak: pozitívne odolné materiály navrhnuté pre polovodičovú litografiu, zvlášť upravené (optimalizované) na používanie pri vlnových dĺžkach menej ako 350 nm;
Polish: materiały fotorezystywne pozytywowe do litografii półprzewodnikowej o wrażliwości widmowej specjalnie wyregulowanej (zoptymalizowanej) pod kątem stosowania w zakresie poniżej 350 nm;
Hungarian: Pozitív védőréteganyagok, amelyeket kifejezetten 350 nm alatti hullámhosszúságú félvezető litográfiához igazítottak (optimalizáltak).
Slovenian: pozitivni uporniki za polprevodniško litografijo, ki so posebej prirejeni za uporabo na valovnih dolžinah pod 350 nm;
Estonian: Positiivsed resistid, mis on ette nähtud pooljuhtide litograafiaks ning spetsiaalselt kohandatud (optimeeritud) kasutamiseks lainepikkustel alla 350 nm;
Latvian: pozitīvi aizsargpārklājumi pusvadītāju litogrāfijai, speciāli pielāgoti (optimizēti) lietošanai pie viļņu garumiem, kas mazāki par 350 nm;
Lithuanian: Pozityviniai rezistai, skirti puslaidininkinių įtaisų litografijai, specialiai pritaikyti (optimizuoti) naudoti esant bangų ilgiams, mažesniems kaip 350 nm;
Maltese: Reżistenti iddisinnjati għal litografija ta' semikunduttur aġġustati b'mod speċjali (biex isir l-aħjar użu) għal użu f'distanzi bejn korrispondenti f'mewġa taħt 350 nm;
English: All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 µcoulomb/mm2 ou meilleure;
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s elektrónovými lúčmi alebo iónovými lúčmi, s citlivosťou najmenej 0,01 mcoloumb/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku w przypadku stosowania wiązki elektronowej albo jonowej, o czułości 0,01 μkulomba/mm2 lub lepszej;
Hungarian: 0,01 μcoulomb/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi olyan védőréteganyag, amelyeket elektronsugárral vagy ionsugárral történő alkalmazásra terveztek.
Slovenian: vsi uporniki za uporabo z elektronskimi ali ionskimi žarki, z občutljivostjo 0,01 mikrokolumba/mm2 ali boljšo;
Estonian: Kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks elektron- või ioonkimpudega, tundlikkusega 0,01 C/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietošanai elektronstaru kūļa vai jonu staru kūļa starojuma tehnoloģijām, jutība ir 0,01 coulomb/mm vai augstāka;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti elektronpluoštėje arba jonpluoštėje litografijoje, kurių jautris yra lygus arba didesnis kaip 0,01 μC/mm2;
Maltese: Ir-reżistenti kollha iddisinnjati għal użu ma' diji ta' l-ettron jew diji tal-jone, b'sensittività ta' 0,01 μcoulomb/mm2 jew aħjar;
English: All resists designed for use with X-rays, with a sensitivity of 2,5 mJ/mm2 or better;
French: toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure;
Slovak: všetky odolné materiály navrhnuté na používanie s röntgenovými lúčmi, s citlivosťou najmenej 2,5 mJ/mm2;
Polish: wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku w przypadku stosowania promieni rentgenowskich, posiadające czułość 2,5 mJ/mm2 lub lepszą;
Hungarian: 2,5 mJ/mm2 vagy annál jobb érzékenységgel rendelkező valamennyi röntgensugárral történő használatra tervezett védőréteg.
Slovenian: vsi uporabniki za uporabo z rentgenskimi žarki, z občutljivostjo 2,5 mJ/mm2 ali boljšo;
Estonian: Kõik resistid, mis on ette nähtud kasutamiseks röntgenikiirtega, tundlikkusega 2,5 mJ/mm2 või parem;
Latvian: visi aizsargpārklājumi, kas paredzēti lietošanai rentgenstaru tehnoloģijām, jutība ir 2,5 mJ/mm vai augstāka;
Lithuanian: Visi rezistai, skirti naudoti rentgeno litografijoje, kurių jautris yra lygus arba didesnis kaip 2,5 mJ/mm2;
Maltese: Ir-reżistenti kollha iddisinnjati għal użu ma' raġġi-X, with X-rays, b'sensittività ta' 2,5 mJ/mm2 jew aħjar;