そのセルの構造は、紫外線照射により消去するUV-EPROMに似ているが、浮遊ゲートとシリコン基板間のゲート絶縁膜が極めて薄くなっている.
そのセルの構造は、紫外線照射により消去するUV-EPROMに似ているが、