서울중앙지방법원-2014고단5241

범죄사실 전제사실 피고인은 2000. 3.경부터 2007. 10. 5.경까지 한국과학기술원(KIST) F인 (주)G에서 이온빔을 연구하는 연구원으로 선형이온건 개발을 담당하였고, 2006.경부터 러시아 H 교수와 함께 상압 플라즈마(APP) 개발 연구를 하였으며, 2007. 10. 초경부터 2012. 7.경까지 (주)]에 근무하면서 이온빔 표면 처리 및 상압 플라즈마 연구를 하였다. 상압 플라즈마는 기존 진공상태에서 발생되는 플라즈마(원자에서 전자를 분리하여 이온과 전자가 일정 공간 안에서 분리 저장된 가스)를 대기 상태에서 발생시키는 장치로서, 제품 등의 표면 성질을 바꾸어 도색이나 접착 효과를 증대하는 역할을 하는 기술이다. 범죄사실 피고인은 (주)G에 근무하면서 그 재직 중 취득하거나 수집, 보관하였던 자료는 퇴사시 회사에 반환하거나 폐기하여야 할 업무상 임무가 있음에도 불구하고, (주)G의 주요 자산인 상압플라즈마 관련 연구 자료를 가지고 나와 이를 전직한 (주)]에서 활용하여 특허를 출원하기로 마음먹었다. 피고인은 2007. 10.경 서울 중랑구 J 405호에 있는 (주)G 사무실에서 특허 출원을 하기 위하여 H 교수와 함께 연구한 'K' 파일을 개인 USB에 저장하여 가지고 나와 I에서 상압플라즈마 연구에 사용, 2008. 2.경 중국에서 동일한 내용으로 (주)I 명의 특허 출원을 신청하였다. 이로써 피고인은 (주)]에 위 자료의 연구, 개발 등에 대한 액수 미상의 사장교환 가격 상당의 재산상 이익을 취득하게 하고, 피해자 (주)G에게 공급 증가와 경쟁사의 경쟁력 강화로 생길 액수 미상의 이익 감소분 상당의 재산상 손해를 가하였다. 증거의 요지 1. 증인 L의 법정진술 1. K, 서울고등법원 2012노222 판결문, 대법원 2011도13607 판결문, 서울고등법원 2011노603 판결문, 서울중앙지방법원 2010고합408, 1120 판결문, 특허(M) 자료 1. 수사보고(기록사본 보고), N에 대한 각 검찰 진술조서 사본, O에 대한 검찰 피의자신문조서 사본, 변론요지서 사본, 피고인의 상압플라즈마 특허 출원과 관련한 사실확인서 사본, 러시아 H 박사의 상압프라즈마에 대한 사실확인서 및 한글 번역본 사본, 양식사용에 대한 ㈜G 퇴직 직원 5명의 사실확인서, ㈜ 경흥기계 사실확인서, ㈜경흥기계, ㈜누리베큠의 사실확인서 사본, P의 사실확인서 사본, 증인신문조서 사본, 공판조서 사본, 피고인의 진술서 사본, 증인 N의 각 증인신문조서 사본, 기술비교분석 감정서 사본, 대한민국특허청 공개특허공보 사본, 상압플라즈마 관련 사본, 나노분말제조장치 관련 사본, 특허설명서 (상아플라즈마 특허와 관련하여 러시아 원천특허와 주식회사 I의 출원특허의 비교 설명 - 피고인 작성), 러시아 H 박사와 이 주고받은 메일, 피고인의 각 진술서 1. 범죄경력조회 법령의 적용 1. 범죄사실에 대한 해당법조 형법 제356조, 제355조 제2항(벌금형 선택) 1. 노역장유치 형법 제70조 제1항, 제69조 제2항 1. 가납명령 형사소송법 제334조 제1항 피고인과 변호인의 주장에 대한 판단 회사 직원이 경쟁업체 또는 자신의 이익을 위하여 이용할 의사로 무단으로 자료를 반출한 경우에 업무상배임죄가 성립하기 위하여는, 그 자료가 영업비밀에 해당할 필요까지는 없다고 하더라도 적어도 그 자료가 불특정 다수인에게 공개되어 있지 않아 보유자를 통하지 아니하고는 이를 통상 입수할 수 없고, 그 자료의 보유자가 자료의 취득이나 개발을 위해 상당한 시간, 노력 및 비용을 들인 것으로 그 자료의 사용을 통해 경쟁자에 대하여 경쟁상의 이익을 얻을 수 있는 정도의 영업상 주요한 자산에 해당하는 것이어야 한다(대법원 2011. 7. 14, 선고 20103043 판결 등 참조). 위 채택·조사한 증거를 종합하여 인정되는 다음과 같은 여러 사정을 종합하여 보면, 위 공소사실 기재 파일(이하 '이 사건 파일'이라 한다)은 G의 '영업상 주요한 자산'에 해당한다고 봄이 타당하므로, 위 공소사실을 유죄로 인정함에 부족함이 없다. 피고인이 반출할 당시 이 사건 파일은 그 대부분이 완성된 상태였다고 볼 수 있다. 이 사건 파일 내의 도면들 중 피고인이 퇴직한 후 작성하였다고 주장하는 도2a, 2b, 3a, 4a, 4b, 5a, 5b 등은 구체적인 치수 등의 기재가 없는 단순한 개략도에 불과하다. - 이 사건 파일 내에는 장치에 대한 도면 외에도 도7a, 7b, 표 1, 2가 포함되어 있는데(증거기록 제442쪽 - 제443쪽), 이는 G가 보유하고 있는 장치들을 사용하여 도출한 실험결과물로 보인다. 피고인이 퇴직 후 짧은 기간 동안에 아무런 설비도 없이 위 실험결과를 얻을 수 있었다고는 보기 어렵다. - 피고인은 L자 형태의 전극에 여러 가지 모양의 가스가이드를 부착하는 아이디어를 퇴직 후 자신이 고안해 낸 것이라고 주장하지만, G가 보유하고 있는 장치를 촬영한 사진들 중 하나인 도5c에도 이미 가스가이드가 부착된 것으로 보이는 장치가 보인다(증거기록 제 440쪽). 이 사건 파일은 그 자체가 대외적으로 공개된 바 없었다. 상압플라즈마의 원천기술은 러시아의 H 박사 등(이하 "H 박사 등"이라 한다)이 특허를 가지고 있으나, G가 연구하였던 것은 그것을 상용화하기 위한 응용기술에 관한 것이었고(피고인의 법정진술, 증거기록 제851쪽 - 제852쪽), 이 사건 파일 또한 위응용기술에 관한 것이 주된 내용이다. G는 이 사건 파일 작성의 기반이 된 장치들의 제작과 유지 및 이를 이용한 실험 등을 위해 상당한 시간, 노력 및 비용을 들였다. - G는 2006.경 H 박사를 초청하여 수개월간 피고인과 함께 상압플라즈마의 상용화를 연구하게 하였고, H 박사가 귀국한 후에도 피고인으로 하여금 계속해서 위 과제에 대해 연구하게 하였다. 그 과정에서 G는 H 박사의 체류와 관련한 일체의 비용과 시제품 제작비 등 그 연구에 소요되는 모든 비용을 부담하였다. -G의 직원으로서 장기간 위 연구를 수행하였던 피고인은 위 연구결과를 바탕으로 H 박사의 원천특허에 근거한 응용특허를 회사 명의로 출원하기 위해 재직 당시 이 사건 파일을 작성하기 시작하였다. - 이 사건 파일에 포함되어 있는 사진 속의 장치들은 G가 제작하여 보유하고 있던 것들이고, 도면들의 형상이 실제 장치들과 다르다고 피고인이 주장하는 부분, 즉 점화전극과 방전전극이 일체화되어 있는 부분 역시 G의 장치들을 기반으로 한 것이다. G가 이 사건 파일을 통해 실질적인 경쟁상 이익을 얻을 수 있을 정도의 자산에 해당한다고 볼 수 있다. G는 KIST 보유기술의 상용화를 목적으로 설립된 회사로서, KIST로부터 전용 실시권을 부여받은 기술의 응용기술을 개발하여 이를 생산업체에 제공함으로써 그 사용권에 대한 대가를 받아 이익을 창출하는 회사이다. wwww.이 사건 파일에 들어 있는 응용기술은 산업체에 판매할 수 있는 수준의 내구성과 안정성 등을 갖추지 못한 것으로 아직 상용화에는 성공하지 못하였다고 볼 수 있다. 또한 피고인이 중국에 특허출원하였던 것도 신규성과 창조성이 없다는 이유로 특허가 거절되었다. 그러나 아직 상용화에 성공하지는 못하였다 하더라도 위 응용기술 및 그와 관련된 각종 실험 데이터 등은 향후 G 측이 상압플라즈마에 관한 연구를 재개함에 있어 동일한 시행착오를 피하고, 이를 통해 상당한 시간과 비용을 절약할 수 있는 토대가 될 수 있다. 특히, 방전전극의 내구성과 안정성을 확보하고 다양한 형상의 피처리물에 적용할 수 있도록 방전전극의 형상을 와이어(선) 형상에서 판 형상으로 변경하는 것, 곡면 형상의 전극에서 국부적으로 발생한 플라즈마를 전극을 따라 원활히 확산시키고, 플라즈마 발생에 필요한 주입 가스의 양을 줄이면서도 안정적인 플라즈마를 형성할 수 있도록 가스의 방향성을 제어하는 가스가이드를 적용하는 것에 대한 부분은, 아직 상용화에 미흡하기는 하나 G 연구의 독자성을 인정할 수 있다. 양형의 이유 다만, 본건 범행으로 인한 G 측의 실질적인 피해가 크지는 않고, 평소 이 사건 파일에 대한 회사의 관리도 소홀하였던 점, 피고인이 초범인 점 등 제반 정상을 종합적으로 고려하여 주문과 같이 형을 정한다.