[ca] Aquest document resumeix el treball d'investigació realitzat per l'obtenció del títol de Doctor en Enginyeria Electrònica a la Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). El treball ha estat elaborat al Centre Nacional de Microelectrònica (CNM), a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB). Les activitats del CNM-IMB estan dividides en 6 àrees d'investigació diferents, cobrint un ampli rang de dispositius microelectrònics: microsistemes i tecnologia de silici, transductors químics, dispositius i sistemes de potència, aplicacions biomèdiques, diseny de circuits electrònics i nanotecnologia. Aquest treball s'ha dut a terme dins d'aquesta última àrea. La major part de la feina s'ha emmarcat en el projecte d'investigació europeu FP6 NOVOPOLY (Novel functional polymer materials for MEMS and NEMS applications) que té com a objectius desenvolupar nous materials per aplicacions en l'àrea de la tecnologia dels micro- i dels nano- sistemes (MEMS i NEMS). Una altra part de la Tesi es va realitzar en el marc del projecte d'investigació europeu FP6 NaPa (Emerging Nanopatterning Methods) que pretén desenvolupar noves tècniques d'estampació nanomètrica com poden ser el NIL, soft lithography, la litografia basada en MEMS, etc. Ambdós projectes han estat fonts de motivacions, capital per recursos y col·laboradors que han contribuït notòriament en la formació d'aquesta Tesi. El primer objectiu d'aquest treball va ser el de establir les bases de la tecnologia de fabricació amb polímers en la Sala Blanca del CNM. El CNM sempre ha treballat amb tecnologia de silici però, donat que el polímers estan demostrant ser una alternativa de baix cost, era interessant (a nivell local) optimitzar aquests processos. Per altra banda, existeix un gran interès en modificar els polímers fotoestructurables existents, com la SU-8, afegint-los diferents funcionalitats i superant així les actuals limitacions d'aquests materials pel que fa a les seves propietats mecàniques, a la seva conductivitat elèctrica, a millorar la seva estabilitat a altes temperatures, etc. Aquests nous polímers poden representar en un futur pròxim les bases de l'avanç de la tecnologia de polímers, tant per aplicacions acadèmiques com industrials. Gràcies a les col·laboracions establertes en els projectes europeus abans mencionats, s'ha pogut presentar en aquesta Tesi el processat d'alguns nous polímers per algunes aplicacions concretes. Per tots aquests motius esmentats, aquesta Tesi és un compendi de diferents dispositius polimèrics, cadascun d'ells fabricat amb processos diferents, perquè o bé els materials o bé les tècniques no eren les mateixes. Per aquesta raó, la Tesi es divideix en 7 Capítols: La introducció pretén repassar l'estat de l'art de les tècniques de fabricació amb polímers. Com aquesta Tesi està enfocada en l'ús de polímers fotoestructurables per a la fabricació de dispositius, el principal procés és la UV lithography tot i que altres mètodes han estat desenvolupats per assolir millor resolució i millors resultats. Les tècniques litogràfiques que es poder utilitzar amb polímers estan breument descrites i també s'introdueixen tres tipus diferents de polímers per donar un coneixement bàsic dels conceptes més fets servir al llarg d'aquesta memòria. El Capítol 2 presenta la fabricació de sondes d'AFM polimèriques que podes ser utilitzades en qualsevol equip d'AFM comercial, demostrant així el seu camp d'aplicació, el seu baix cost de producció i la seva capacitat per a ser comercialitzades. Aquesta és la principal responsabilitat de què el CNM tenia dins del projecte Novopoly. El Capítol 3 és una extensió del capítol anterior però usant un nou material compost per nanopartícules i polímer. El nou material millora algunes de les propietats del polímer original i també s'afegeixen propietats que abans no tenia com pot ser l'actuació magnètica. En el Capítol 4 s'introdueix un nou polímer. En aquest cas, es demostra que el material és capaç de proporcionar actuació optotèrmica degut a que té un coeficient d'expansió tèrmic més elevat que la versió no dopada. A més, donat que el material és negre, l'actuació òptica en el espectre del visible és possible, el que obre noves possibilitats comparat amb el polímer estàndard. Un model teòric i un estudi complert del comportament d'aquesta actuació estan detallats. El Capítol 5 descriu com definir estructures de polímer utilitzant l'ink-jet printing i la soft-lithography. Aquestes dues tècniques han estat emprades per evitar la contaminació creuada entre els dipòsits d'un, prèviament fabricat, xip de microfluídica. Aquest capítol és un clar exemple de la flexibilitat que ofereix la tecnologia de polímer. Les tècniques d'Scanning Probe Lithography (SPL), Litografia per Feix d'Electrons (EBL) i la litografia UV es poden combinar per imprimir en fines capes de polímers tal i com es descriu en el Capítol 6. En aquest capítol s'inclouen els detalls del mecanisme de modificació local del polímers fent servir el Microscopi de Forces Atòmiques (AFM). Finalment, aquesta Tesi acaba amb les conclusions que estan resumides en el Capítol 7. En ell es comenten els principals resultats de cada un dels processos de fabricació desenvolupats en aquesta memòria.

[es] Este documento resume el trabajo de investigación realizado para la obtención del título de Doctora en Ingeniería Electrónica en la Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). El trabajo ha sido elaborado en el Centro Nacional de Microelectrónica (CNM), en el Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB). Las actividades del CNM-IMB están divididas en 6 áreas de investigación diferentes, cubriendo un amplio rango de dispositivos microelectrónicos: microsistemas y tecnología de silicio, transductores químicos, dispositivos y sistemas de potencia, aplicaciones biomédicas, diseño de circuitos electrónicos y nanotecnología. Este trabajo se ha ejecutado dentro de esta última área. La mayor parte del trabajo se ha elaborado en el marco del proyecto de investigación europeo FP6 NOVOPOLY (Novel functional polymer materials for MEMS and NEMS applications) que tiene como objetivos desarrollar nuevos materiales para aplicaciones en el área de la tecnología de los micro- y de los nano- sistemas (MEMS y NEMS). Otra parte de la Tesis se realizó en el marco del proyecto de investigación europeo FP6 NaPa (Emerging Nanopatterning Methods) cuya meta es el desarrollo de nuevas técnicas de estampación nanométrica como puede ser el NIL, soft lithography, la litografía basada en MEMS, etc. Ambos proyectos han sido fuentes de motivaciones, capital para recursos y colaboradores que han contribuido notoriamente en la formación de esta Tesis. El primer objetivo de este trabajo fue el de establecer las bases de la tecnología de fabricación con polímeros en la Sala Blanca del CNM. El CNM siempre ha trabajado con tecnología de silicio pero, dado que los polímeros están demostrando ser una alternativa de bajo coste, era interesante (a nivel local) optimizar estos procesos. Por otra parte, existe un gran interés en modificar los polímeros fotoestructurables existentes, como la SU-8, añadiéndoles diferentes funcionalidades y superar así las actuales limitaciones de estos materiales con respecto a sus propiedades mecánicas, a su conductividad eléctrica, a mejorar su estabilidad en altas temperaturas, etc. Estos nuevos polímeros pueden representar en un futuro próximo las bases del avance de la tecnología de polímeros, tanto para aplicaciones académicas como industriales. Gracias a las colaboraciones establecidas en los proyectos europeos antes mencionados, se ha podido presentar en esta Tesis el procesado de algunos nuevos polímeros para algunas aplicaciones concretas. Por todos los motivos mencionados, esta Tesis es un compendio de diferentes dispositivos poliméricos, cada uno de ellos fabricado con procesos distintos, porque o bien los materiales o bien las técnicas no eran las mismas. Por esta razón, la Tesis se divide en 7 Capítulos: La introducción pretende repasar el estado del arte de las técnicas de fabricación con polímeros. Como esta Tesis está enfocada en el uso de polímeros fotoestructurables para la fabricación de dispositivos, el principal proceso es la UV lithography aunque otros métodos han sido desarrollados para alcanzar mayor resolución y mejores resultados. Las técnicas litográficas que pueden ser usadas con polímeros están brevemente descritas y también se introducen tres tipos diferentes de polímeros para dar un conocimiento básico de los conceptos más usados a lo largo de esta memoria. El Capítulo 2 presenta la fabricación de sondas de AFM poliméricas que pueden ser usadas en cualquier equipo de AFM comercial, demostrando así su campo de aplicación, su bajo coste de producción y su capacidad para ser comercializadas. Esta es la principal responsabilidad que el CNM tenía dentro del proyecto Novopoly. El Capítulo 3 es una extensión del capítulo anterior pero usando un nuevo material compuesto por nanopartículas y polímero. El nuevo material mejora algunas de las propiedades del polímero original y también se añaden propiedades que antes no tenía como puede ser la actuación magnética. En el Capítulo 4 se introduce otro nuevo polímero. En este caso, se demuestra que el material es capaz de proporcionar actuación optotérmica debido a que tiene un mayor coeficiente de expansión térmica que la versión no dopada. Además, dado que el material es negro, la actuación óptica en el visible es posible, lo que abre nuevas posibilidades comparado con el polímero estándar. Un modelo teórico y un estudio completo del comportamiento de esta actuación están detallados. El Capítulo 5 describe cómo definir estructuras de polímero usando el ink-jet printing y la soft-lithography. Estas dos técnicas han sido usadas para evitar la contaminación cruzada entre los depósitos de un previamente fabricado chip de microfluídica. Este capítulo es un claro ejemplo de la flexibilidad que ofrece la tecnología de polímero. Las técnicas de Scanning Probe Lithography (SPL), Litografía por Haz de Electrones (EBL) y la litografía UV se pueden combinar para imprimir en finas capas de polímeros tal y como se describe en el Capítulo 6. En este capítulo se incluyen los detalles del mecanismo de modificación local de polímeros usando en Microscopio de Fuerzas Atómicas (AFM). Finalmente, esta Tesis termina con las conclusiones que están resumidas en el Capítulo 7. En él se comentan los principales resultados de cada uno de los procesos de fabricación desarrollados en esta memoria.