[ca] L'objectiu del present treball es desenvolupar la fabricació de condensadors de silici macroporós, produir-los i caracteritzar-los. Per a això, com a un dels elèctrodes s'ha utilitzat silici macroporós. Com a segon elèctrode, es va plantejar en els objectius inicials el contacte mitjançant galvanoplàstia. Aquest és convenient per a obtenir alta conductivitat. A més, respecte a la aplicació industrial d'aquests dispositius, la galvanoplàstia és un procés molt econòmic i senzill d'implementar. S'han implementat diversos prototips de condensadors de silici macroporós de gran capacitat, fins a aconseguir el primer condensador estable i, a més, sense polaritat. El prototip implementa correctament les especificacions originals sense processos de reparació. La capacitat màxima aconseguida és de 10μF, mesurat després d'un envelliment superior a dos mesos. D'altra banda, el condensador estable per fabricació implementa 5,8μF en una àrea de 95mm2 , sense variacions durant el mateix temps d'envelliment. Implementa una capacitat estable també en amplitud i offset de tensió. La resistència sèrie mesurada és inferior a 1Ω i àmpliament millorable mitjançant una simple optimització dels contactes. La resistència paral lel en corrent contínua és superior a 1GΩ. Tot això en un volum útil de 0,03cm3 embegut en un dotzè d'oblia d'una polzada cuadrada, amb una densitat capacitiva volumètrica estable de 182μF/cm3 . La màxima densitat capacitiva aconseguida és 10μF/cm2. La màxima densitat capacitiva viable, amb 4μm de pas, és de 33μF/cm2 corresponent a un òxid de 20nm de gruix. En aquest límit raonable la densitat capacitiva volumètrica arriba a 1000μF/cm3 entre ±20V.

[es] El objetivo del presente trabajo es desarrollar la fabricación de condensadores de silicio macroporoso, producirlos y caracterizarlos. Para ello, como uno de los electrodos se ha utilizado silicio macroporoso. Como segundo electrodo, se planteó en los objetivos iniciales el contacto metálico mediante galvanoplastia. Éste es conveniente para obtener alta conductividad. Además, respecto a la aplicación industrial de estos dispositivos, la galvanoplastia es un proceso muy económico y sencillo de implementar. Se han fabricado varios prototipos de condensadores de silicio macroporoso de alta capacidad, hasta que se logró el primer condensador estable y además sin polaridad. El prototipo implementa correctamente las especificaciones originales sin procesos de reparación. La capacidad máxima lograda es de 10μF, medido tras un envejecimiento superior a dos meses. Por otro lado, el condensador estable por fabricación implementa 5,8μF en un área de 95mm2, sin apreciables variaciones durante el mismo tiempo de envejecimiento. Implementa una capacidad estable en amplitud y en offset de tensión. La resistencia serie medida es inferior a 1Ω y sin embargo sigue siendo ampliamente mejorable mediante una simple optimización de los contactos. La resistencia paralelo en corriente continua es superior a 1GΩ. Todo ello en un volumen útil de 0,03cm3 embebido en un doceavo de oblea de una pulgada cuadrada, con una densidad capacitiva volumétrica estable de 182μF/cm3 . La máxima densidad capacitiva lograda es 10μF/cm2 . La máxima densidad capacitiva viable, con 4μm de paso, es de 33μF/cm2 correspondiente a un óxido de 20nm de espesor. En este límite razonable la densidad capacitiva volumétrica llega a 1000μF/cm3 entre ±20V.