[ca] Aquest document resumeix el treball d'investigació realitzat per l'obtenció del títol de Doctor en Enginyeria Electrònica a la Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). El treball ha estat elaborat al Centre Nacional de Microelectrònica (CNM), a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB). Les activitats del CNM-IMB estan dividides en 6 àrees d'investigació diferents, cobrint un ampli rang de dispositius microelectrònics: microsistemes i tecnologia de silici, transductors químics, dispositius i sistemes de potència, aplicacions biomèdiques, diseny de circuits electrònics i nanotecnologia. Aquest treball s'ha dut a terme dins d'aquesta última àrea. La major part de la feina s'ha emmarcat en el projecte d'investigació europeu FP6 NOVOPOLY (Novel functional polymer materials for MEMS and NEMS applications) que té com a objectius desenvolupar nous materials per aplicacions en l'àrea de la tecnologia dels micro- i dels nano- sistemes (MEMS i NEMS). Una altra part de la Tesi es va realitzar en el marc del projecte d'investigació europeu FP6 NaPa (Emerging Nanopatterning Methods) que pretén desenvolupar noves tècniques d'estampació nanomètrica com poden ser el NIL, soft lithography, la litografia basada en MEMS, etc. Ambdós projectes han estat fonts de motivacions, capital per recursos y col·laboradors que han contribuït notòriament en la formació d'aquesta Tesi. El primer objectiu d'aquest treball va ser el de establir les bases de la tecnologia de fabricació amb polímers en la Sala Blanca del CNM. El CNM sempre ha treballat amb tecnologia de silici però, donat que el polímers estan demostrant ser una alternativa de baix cost, era interessant (a nivell local) optimitzar aquests processos. Per altra banda, existeix un gran interès en modificar els polímers fotoestructurables existents, com la SU-8, afegint-los diferents funcionalitats i superant així les actuals limitacions d'aquests materials pel que fa a les seves propietats mecàniques, a la seva conductivitat elèctrica, a millorar la seva estabilitat a altes temperatures, etc. Aquests nous polímers poden representar en un futur pròxim les bases de l'avanç de la tecnologia de polímers, tant per aplicacions acadèmiques com industrials. Gràcies a les col·laboracions establertes en els projectes europeus abans mencionats, s'ha pogut presentar en aquesta Tesi el processat d'alguns nous polímers per algunes aplicacions concretes. Per tots aquests motius esmentats, aquesta Tesi és un compendi de diferents dispositius polimèrics, cadascun d'ells fabricat amb processos diferents, perquè o bé els materials o bé les tècniques no eren les mateixes. Per aquesta raó, la Tesi es divideix en 7 Capítols: La introducció pretén repassar l'estat de l'art de les tècniques de fabricació amb polímers. Com aquesta Tesi està enfocada en l'ús de polímers fotoestructurables per a la fabricació de dispositius, el principal procés és la UV lithography tot i que altres mètodes han estat desenvolupats per assolir millor resolució i millors resultats. Les tècniques litogràfiques que es poder utilitzar amb polímers estan breument descrites i també s'introdueixen tres tipus diferents de polímers per donar un coneixement bàsic dels conceptes més fets servir al llarg d'aquesta memòria. El Capítol 2 presenta la fabricació de sondes d'AFM polimèriques que podes ser utilitzades en qualsevol equip d'AFM comercial, demostrant així el seu camp d'aplicació, el seu baix cost de producció i la seva capacitat per a ser comercialitzades. Aquesta és la principal responsabilitat de què el CNM tenia dins del projecte Novopoly. El Capítol 3 és una extensió del capítol anterior però usant un nou material compost per nanopartícules i polímer. El nou material millora algunes de les propietats del polímer original i també s'afegeixen propietats que abans no tenia com pot ser l'actuació magnètica. En el Capítol 4 s'introdueix un nou polímer. En aquest cas, es demostra que el material és capaç de proporcionar actuació optotèrmica degut a que té un coeficient d'expansió tèrmic més elevat que la versió no dopada. A més, donat que el material és negre, l'actuació òptica en el espectre del visible és possible, el que obre noves possibilitats comparat amb el polímer estàndard. Un model teòric i un estudi complert del comportament d'aquesta actuació estan detallats. El Capítol 5 descriu com definir estructures de polímer utilitzant l'ink-jet printing i la soft-lithography. Aquestes dues tècniques han estat emprades per evitar la contaminació creuada entre els dipòsits d'un, prèviament fabricat, xip de microfluídica. Aquest capítol és un clar exemple de la flexibilitat que ofereix la tecnologia de polímer. Les tècniques d'Scanning Probe Lithography (SPL), Litografia per Feix d'Electrons (EBL) i la litografia UV es poden combinar per imprimir en fines capes de polímers tal i com es descriu en el Capítol 6. En aquest capítol s'inclouen els detalls del mecanisme de modificació local del polímers fent servir el Microscopi de Forces Atòmiques (AFM). Finalment, aquesta Tesi acaba amb les conclusions que estan resumides en el Capítol 7. En ell es comenten els principals resultats de cada un dels processos de fabricació desenvolupats en aquesta memòria.

[en] This document summarizes the research work performed in order to obtain the Ph.D. degree in Electronic Engineering at the Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). The work has been done at the National Centre for Microelectronics (Centro Nacional de Microelectrónica CNM), at the Institute of Microelectronics in Barcelona (IMB). CNM-IMB activities are divided into 6 different research areas covering a wide range of microelectronic devices: microsystems and silicon technology, chemical transducers, power devices and systems, biomedical applications, electronic circuits design and nanotechnology. The present work has been performed in the latter area. Most of the work has been performed in the frame of the FP6 European research project NOVOPOLY (Novel functional polymer materials for MEMS and NEMS applications) which aims to develop new functional materials for applications in the area of micro- and nano- systems technology (MEMS and NEMS). Also, a part of the thesis was performed within the frame of the FP6 European research project NaPa (Emerging Nanopatterning Methods) which aims the development of novel nanopatterning techniques as can be NIL, soft lithography, MEMS-based lithography, etc. Both projects have been source of funding, motivations and collaborators that have contributed notoriously to the development of this Thesis. The first objective of the project was to establish the basis for polymer fabrication technology in the CNM Clean Room. CNM has always been working on silicon technology but, provided that polymer technology is showing itself as a low-cost alternative, it was interesting (at a local level) to optimize these processes. On the other hand, there is a large interest in adding functionality to existing photostructurable polymers, like SU-8, and overcome the current limitations of these systems with respect to mechanical, electrical conductivity and high temperature stability properties. These novel polymers can represent in the near future a cornerstone in the development of polymer technology, with both academic and industrial applications. Taking profit of some collaborations established in the projects mentioned above, the processing of some novel polymers is also presented in this Thesis for a few targeted applications. Therefore, the Thesis is a compendium of different polymeric devices, each of them fabricated with a different process, because either the materials or the techniques were different; and the memory is divided in seven different chapters: The introduction, aims to review the state of the art of polymer fabrication techniques. As this Thesis is focused in the use of photostructurable polymers for the fabrication of devices, the main process is the UV lithography although others methods have been developed in order to achieve higher resolution and better performance. Lithographic techniques usable for polymers are briefly described and the three kinds of polymers used are introduced in order to give the basic knowledge and main concepts used through all the work. Chapter 2 presents the fabrication of usable polymeric AFM probes, demonstrating their field of application and low cost production and its feasibility to commercialization. This is the main activity that CNM had in Novopoly project. Chapter 3 is an extension of the previous chapter but using a new composite material. The new material overcomes some of the drawbacks properties of the original epoxy based resist and also adds functional properties as it can be magnetic actuation. In Chapter 4 another new composite is shown. In this case, optothermal actuation is demonstrated because this material has a higher thermal expansion coefficient than the undoped version. In addition, given the fact that the material is black, which means that optical actuation in the visible is possible, opening new possibilities compared with the standard polymer. A theoretical model and a fully study of the actuation behaviour is reported. Chapter 5 describes polymer structures definition by ink-jet printing and soft-lithography. These two techniques were used to avoid the cross contamination between dispensing holes of a previously fabricated microfluidic chip. This chapter is itself an example of how flexible polymer technology is. Scanning Probe Lithography (SPL), Electron-Beam Lithography (EBL) and UV lithography techniques have been combined to pattern thin layers of polymers as it is depicted in Chapter 6. This chapter includes details mechanism and operation of the local modification of polymers using an Atomic Force Microscope (AFM). Finally, this Thesis ends with the conclusions that are summarized in Chapter 7. The main results of each fabrication process developed are commented.