日期: 2026-07-02
代码: 600423.SS
事件: 新增概念（新增概念）
2026-07-02新增概念：半导体概念
入选理由：2025年1月6日回复称，目前公司生产的电子级双氧水(G1/G2级30%-32%浓度)，主要用于半导体硅晶片清洗剂，电镀液无机杂质去除，电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理，以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗等方面。