日期: 2026-06-26
代码: 002768.SZ
事件: 新增概念（新增概念）
2026-06-26新增概念：光刻机(胶)
入选理由：2025年年报显示，500 吨/年 PSPI 光刻胶材料项目：公司采用自主研发+国内高校、科研院所联合攻关模式，搭建专属研发平台，聚焦 PSPI 光刻胶领域实现定向突破。自研团队主攻配方优化与量产工艺开发，同时与国内重点高校、科研院所深度协同，共享实验设备与技术成果，攻克光敏单体合成、低温固化改性等核心技术难题。通过创新分子结构设计，已成功解决光敏基团与聚酰酰亚胺主链适配性差引发的灵敏度低、对比度不足等行业共性问题，目前正推进合成与配方工艺的优化迭代。