日期: 2026-05-09
代码: 300054.SZ
事件: 新增概念（新增概念）
2026-05-09新增概念：存储芯片
入选理由：2026年5月7日公告披露，公司自主研发生产的氧化铈CMP抛光液产品，近期成功通过国内龙头存储芯片制造企业的全流程验证，获得客户批量订单，正式进入规模化供应阶段。该产品是3DNAND、DRAM及HBM（高带宽内存）等主流存储器件制造的核心刚需材料，直接应用于浅沟槽隔离（STI）、层间介质（ILD）等关键平坦化工序，是保障多层堆叠结构精度、提升芯片良率与性能的关键耗材。