日期: 2025-09-17
代码: 301095.SZ
事件: 新增概念（新增概念）
2025-09-17新增概念：光刻机
入选理由：2025年半年报显示，公司产品DE-LPC 光刻机套刻控制分析系统。主要用途有：Scanner/OVL 分析、建模、正/负反馈、补偿、仿真、以及控制系统统监控光刻机、量测机台、工艺配方的健康度，优化光刻机工艺参数, 包括光源、样本选择、找平等参数数TOGO recipe 验证，最小化套刻误差的同时，提升稳定性和容错能力