日期: 2026-07-29
代码: 301209.SZ
事件: 新增概念（新增概念）
2026-07-29新增概念：光刻机
入选理由：2025年年报显示，目前米莱芯程全资子公司芯颐和科技的光学产品分为高中低端三类产品：1）高端光学系统（物镜及照明系统）应用于前道 KrF 和 iline 光刻机，最高可实现110nm分辨率；2）中端光学系统（物镜及照明系统）应用于封装投影光刻机及封装直写光刻机，超大视场(120mm x 120mm）适应于先进封装发展需求；3）低端光学系统（物镜及照明系统）应用于光伏投影光刻机，分辨率 5μm，可支持每小时 8000 片曝光产能，已实现小批量出货。