日期: 2024-03-01
代码: 300786.SZ
事件: 新增概念（新增概念）
2024-03-01新增概念：光刻机(胶)
入选理由：2025年12月16日回复称，臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品。