日期: 2026-07-28
代码: 688549.SS
事件: 新增概念（新增概念）
2026-07-28新增概念：光刻胶
入选理由：2025年年报显示，报告期内公司完成了BDEAS、TDMAT等产品产业化装置建设；
先后立项并开展硅系蚀刻液与蚀刻后清洗液、金属蚀刻液、Cu/Co互连蚀刻后清洗液、SMT新品、超高纯羟胺和光刻胶用有机溶剂等一系列配方型化学品的新产品的开发，并实现了多款产品的产
业化。