English: So, usually what will happen is in these experiments, we start the process we allow some amount of sputtering to go on with this mask blocking the path and so, at that point any impurity that is getting released from that sample will not reach the substrate.
Kannada: ಆದ್ದರಿಂದ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಏನಾಗಬಹುದು ಎಂಬುದು ಈ ಪ್ರಯೋಗಗಳಲ್ಲಿ, ನಾವು ಈ ಮಾಸ್ಕ (mask) ವನ್ನು ಮಾರ್ಗವನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸುವುದರೊಂದಿಗೆ ಮುಂದುವರಿಯಲು ನಾವು ಅನುಮತಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತೇವೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ, ಆ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಆ ಮಾದರಿಯಿಂದ ಬಿಡುಗಡೆಯಾಗುವ ಯಾವುದೇ ಅಶುದ್ಧತೆಯು ಸಬ್ಸ್ಟ್ರೇಟ್ (substrate) ವನ್ನು ತಲುಪುವುದಿಲ್ಲ.